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방법 논문

정기 간행물 운전하여 광학적 갇혀 초저온 페르미 가스를 냉각

7.3K 조회수

⸱

DOI:

10.3791/55409

⸱

2017년 3월 30일

 ,  , 
1Department of Physics, Indiana University–Purdue University Indianapolis (IUPUI)

이 논문에서

요약

교차 빔 광학 쌍극자 트랩에서 초저온 페르미 가스를 냉각하는 파라메트릭 구동 방법을 제시합니다. 이 방법은 트랩 전위의 무조화 성분과 공명하는 주파수로 트랩 깊이를 주기적으로 변조하여 트랩에서 고 에너지 원자를 선택적으로 제거합니다.

초록

우리는 교차 빔 광학 쌍극자 트랩(ODT)에서 원자 운동을 파라메트릭으로 구동하여 차가운 페르미 가스의 냉각 방법을 제시합니다. 우리의 방법은 ODT의 비조화도를 사용하는데, 트랩 가장자리에 있는 더 뜨거운 원자는 트랩 전위의 고조파 성분을 느끼고 트랩 중앙에 있는 더 차가운 원자는 고조파 성분을 느낍니다. 무고조파 성분과 공명하는 주파수로 트랩 깊이를 조절함으로써, 더 차가운 원자를 트랩 안에 유지하면서 더 뜨거운 원자를 트랩 밖으로 선택적으로 여기시켜 파라메트릭 냉각을 생성합니다. 이 실험적 프로토콜은 Zeeman 더 느린 속도에 의해 로드되는 MOT(Magneto-Optical Trap)로 시작합니다. 그런 다음 MOT의 예냉각된 원자는 ODT로 전달되고 바이어스 자기장이 적용되어 상호 작용하는 페르미 가스를 생성합니다. 그런 다음 포집 가능성을 낮추어 퇴화 온도 근처에서 차가운 페르미 가스를 준비합니다. 그 후, 우리는 자기장을 페르미 가스의 비상호 작용 체제로 스윕하며, 여기서 파라메트릭 냉각은 광학 트래핑 빔의 강도를 조절하여 나타날 수 있습니다. 우리는 파라메트릭 냉각 효과가 변조 주파수와 진폭에 크게 의존한다는 것을 발견했습니다. 최적화된 주파수와 진폭을 사용하여 변조 시간에 대한 구름 에너지의 의존성을 측정합니다. 우리는 구름 에너지가 비등방성 방식으로 변경되는 것을 관찰하며, 여기서 축 방향의 에너지는 파라메트릭 구동에 의해 크게 감소합니다. 냉각 효과는 축 방향으로 제한되는데, 그 이유는 교차 빔 ODT의 지배적인 무조화가 축 방향을 따르기 때문입니다. 마지막으로, 우리는 모든 방향에서 큰 무조화의 포획 전위에 대해 이 프로토콜을 확장할 것을 제안하며, 이는 외부 구동을 사용하여 양자 가스를 냉각하기 위한 유망한 계획을 제공합니다.

서론

지난 20 년 동안, 다양한 냉각 기술 보스 - 아인슈타인 응축 (BEC)을 생성하기 위해 개발 된 뜨거운 증기 원자 1, 2, 3, 4, 5에서 페르미 가스 (DFG)를 퇴화. BEC 및 DFG 훨씬 일반적으로 지구 또는 공간에서 발견 이하 극저온 존재 물질의 새로운 상을, 절대 영도 온도보다 높은 정도의 통상 백만이다. 낮은 온도를 얻기 위해, 대부분의 냉각 방법은 증발로 원자를 냉각 할 수있는 트래핑 가능성을 낮추는에 의존하고 있습니다. 그러나 낮추는 방식은 가스 양자 체제 (6)에 도달 할 때 냉각 효율을 제한하는 원자의 충돌 속도를 감소시킨다. 이 글에서, 우리는 증발로하지 않고 ODT에서 초저온 페르미 가스를 냉각하는 "추방"방법을 제시한다트랩 깊이 저하. 이 방법은 파라미터를 낮추는 방식 7, 8, 9에 비해 여러 가지 장점을 보여주는,도 7의 냉각 최근의 연구에 기초한다.

파라 메트릭 기법의 핵심 아이디어는 트래핑 잠재력의 가장자리 근처의 뜨거운 원자는 중심에있는 차가운 원자보다 낮은 트래핑 주파수를 느끼게 크로스 빔 ODT의 anharmonicity을 사용하는 것이다. 이 anharmonicity은 고 에너지 원자 공진 주파수에서 포착 전위를 변조 할 때 뜨거워 원자가 선택적으로 트랩으로부터 배출 될 수있다.

파라 냉각 실험 프로토콜 축퇴 온도 근처에서 미리 냉각 비 간섭 페르미 기체를 필요로한다. 이 프로토콜을 구현하기 위해, 음향 광학 변조기 (AOM)은 controllin 의해 트래핑 빔의 강도를 변조하는데 사용g 변조 주파수, 깊이 및 시간. 냉각 효과를 확인하기 위해, 원자 구름은 공진 레이저 광은 전하 결합 소자 (CCD) 카메라에 포착되는 원자 구름과 흡수 그림자를 조명 비행 시간 (TOF)의 흡수 촬상 의해 프로빙된다. 예컨대 원자 번호, 에너지, 및 온도와 같은 구름 특성은, 열 밀도에 의해 결정된다. 냉각 효과를 특성화하기 위해, 우리는 다양한 변조 시간에 구름 에너지의 의존도를 측정한다.

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프로토콜

주 :이 프로토콜은 다음과 같은 장치를 포함하는 조립식 초저온 원자 장치 필요 개의 외부 공동 다이오드 레이저 (ECDL)에서, ECDL 대한 잠금 설정하는 단계 (10)를 고정 주파수 오프셋 ODT위한 광섬유 레이저, 레이저 강도를 변조하는 AOM , 소스 발생기와 전력 증폭기를 갖는 무선 주파수 (RF) 안테나 시스템, CCD 카메라로 흡수 이미징 시스템 순서 및 데이터 획득 (DAQ), 화상 데이터 처리 및 분석을위한 컴퓨터 프로그램을 타이밍하기위한 컴퓨터 프로그램, MOT 및 바이어스 자계 용 전자석의 쌍 느린 (도 1에 도시 한) 6 리튬 증기 오븐 및 제만 포함하는 초고 진공실.

주의 : 다른 권한과 파장의 세 가지 레이저가 사용된다. 관련 레이저 안전 데이터 시트를 참조하고 적절한 레이저 안전 고글을 선택하십시오.

1. 타이밍 계속ROL

참고 : 모든 타이밍 시퀀스는 타이밍 제어 프로그램을 통해 128 채널 PCI DAQ 카드에 의해 제어됩니다. 타이밍 시퀀스의 해상도는 100 μS이다. 여러 기기 제어 프로그램 등과 파이버 레이저 임의 함수 발생기 (AFG) ODT AFG 임의 펄스 생성기 (APG), 파라 변조 AFG, MOT 멀티플렉서, RF 발생기와 같은기구의 설정을 제어하는 데 사용된다.

  1. 타이밍 제어 프로그램과 기기에 대한 제어 프로그램을 엽니 다.
    주 : 타이밍 제어 프로그램은 타이밍 제어 파일을 실행하기위한 제어 단자 TTL (트랜지스터 - 트랜지스터 논리) 신호를 전송한다. 일부 악기는 실시간 제어를위한 GPIB (IEEE 488)하여 컴퓨터에 연결되어 있습니다.
  2. 실험 타이밍 파일을 작성하고 표 1에 열거 된 타이밍 매개 변수를 설정합니다.
    주 : MOT 타이밍 시퀀스 이후 또한도 2에 의해 도시된다.

    3. CCD 카메라 (2)의 제조

    참고 : CCD 카메라는 차가운 원자의 주요 진단 도구입니다 차가운 원자의 흡수 영상을 기록하는 데 사용됩니다.

    1. CCD 카메라 드라이버 및 제어 프로그램을 켭니다. 입자상 속도계 (PIV) 모드 (11)에 CCD 카메라를 설정한다. 5 MS에 CCD 노출 시간을 설정합니다.
      참고 PIV 모드 흡수 영상의 신호 대 잡음비를 증가시키는 신호 및 기준 프레임 사이의 시간 간격을 감소시킨다.
    2. CCD에 노출을 제어하기 위해 외부 트리거를 사용하여
      참고 : CCD 트리거 시간은 표 1에 나열되어 있습니다.

    3. 671 nm의 레이저 제조

    주 : 500 mW의 출력 전력을 갖는 671 nm의 단일 주파수 ECDL는 MOT 냉각 및 트래핑 빔을 생성하는데 사용된다. 35 mW의 또 671 nm의 흡수를 ECDL 이미징에 사용된다. 디지털 레이저 현재 변조 방식 (DLCM)레이저 주파수 안정화 10에 적용된다. 종래 6 리튬 에너지 준위는도 3a에 도시된다. 20 ± 1 ℃의 실내 온도 안정성 레이저 주파수 로크 최적의 안정성이 요구된다.

    1. MOT 레이저 준비
      주 : 광 설치하고 DLCM 방법의 중요한 결과는 참조 번호 10로 표시된다.
      1. 6 개의 리튬 원자 증기 셀 히터를 켜고, 340 ℃로 따뜻하게.
      2. 1 시간 동안 AOM 잠금 레이저를 따뜻하게.
      3. 레이저 주파수 잠금 컨트롤러 전원을 켜고 소프트웨어를 엽니 다. 소프트웨어의 ECDL의 레이저 회절 격자와 현재의 변조를 켭니다.
        주 : 변조 주파수와 진폭 변조 격자 각각 5 Hz에서 1.0 V로 설정된다. 현재 변조의 변조 주파수와 진폭은 레이저의 선폭 감소 100 kHz와 각각 0.0015 V의 프로파일을 설정한다 (10).
      4. ECDL 방출을 켭니다.
        주 : 레이저 광이 광학 셋업 MOT 통과 실험 진공 챔버에 도달한다.
      5. 도 3b에 도시 된 바와 같이 6 개의 리 D 2 라인의 로크의 에러 신호가 관찰 될 때까지 약간의 조정을 수동으로 레이저 주파수를 ECDL 레이저의 전류를 조정한다.
      6. 2/2 P 3/2 전이 → 2 (2) 1/2 S (F = 3/2)로 제어 소프트웨어 잠그기 점을 설정 (도 3a 참조 3B). 이어서,이 전이에 레이저 주파수를 잠그고, 전이 (10)의 중심에 고정 점을 조정한다.
        주 : 레이저 주파수가 고정되면, 로크의 에러 신호가 잠금 지점 주변의 주파수 변동에 대응하는 로크 지점에서 작은 변동을 나타낸다.
    2. 이미징 레이저 준비
      주 : 광 설치 오프셋 로킹 방법의 중요한 결과는 참조 번호 10에 제시되어있다.
      1. 고정 오프셋 RF 신호 발생기를 켜고.
      2. 격자의 변조 켜고 V. 2 행의 변조 진폭을 증대
      3. 3.1.4.-3.1.5에 주파수 튜닝 과정을 반복합니다. 오실로스코프의 레이저 주파수 박동 에러 신호 및 RF 스펙트럼 분석기를 얻을 수 있습니다.
      4. 두 PID 피드백 모듈을 통해 고정 오프셋의 고동 신호로 레이저 주파수 잠금.
        주 : 레이저 주파수가 고정되면, RF 스펙트럼의 고동 신호의 스펙트럼 로킹 지점에서 정지한다.

    4. 이미징 흡수 제조

    주 : 원자 개의 영상 프레임을 필요 흡수 이미징 프로브로되어있다. 원자와 함께 첫 번째 신호 프레임이고, 원자없이 두 번째 참조 프레임이다.

    1. APG를 켜십시오촬상 빔 AOM.
    2. 10 μS에 이미징 펄스 지속 시간을 설정하고 5.5 MS에 두 개의 영상 프레임 사이의 간격 시간을 설정합니다.
    3. 여기서 I 토 = 2.54 메가 와트 / cm 2 6 2 리 D 라인의 포화 흡수 강도 I가 앉아서 약 0.3 촬상 광 강도를 설정한다.

    MOT 5. 냉각 원자

    주 : MOT는 극저온 원자 실험에 광범위하게 사용되는 냉각 방법이다. 이 섹션은 약 300에서 약 μK 억 6 리튬 원자의 MOT를 생성한다.

    1. 느린 아톰 소스
      1. 오븐 히터를 켜십시오.
      2. 오븐 온도 (표 2 참조)의 동작 영역에 도달하면, 느리게 제만위한 냉각 팬 켜. 서서히 각각 7 A와 1 A로 두 교차 코일의 전류의 느린 9.2 A. 턴 전류를 증가시킨다.
        노트:표 2에 나와 오븐의 온도 분포는 원자의 소스 (12) 및 시준 수명을 위해 최적화된다. 전자 레인지의 히터의 위치는도 4에 도시되어있다.
      3. 원자 셔터를 개방함으로써 수동 제만 느린 레이저 빔을 차단 해제. 192 MHz의 레이저 빔의 주파수를 설정한다 (2) P (2) 전이 3/2 → 2 (2) 1/2 S (F = 3/2)로 빨강 이조.
        주 :이 설정에 의해, 원자의 속도가 100m / s의 1,400m / s로 느려진다. 느린 제만은도 5에 도시되어있다.
    2. 자기장 그라데이션
      주 :이 장치 방지 헬름홀츠 또는 헬름홀츠 자계 중 하나를 생성하는 H 브리지 스위치 회로에 의해 제어되는 한 쌍의 코일을 사용한다. 코일 과열을 방지하는 냉각 물이다.
      1. 천천히 6 갤런 / 분 수류 켜.
      2. MOT 로딩 타이밍 파일로 타이밍 제어 프로그램을 실행하여 방지 헬름홀츠 자기장 구성의 H 브리지를 설정한다.
      3. 자석 '전원 공급 장치를 켜고 MOT 약 22 G / cm의 자기장 경사를 만들어 그 제어 프로그램을 통해 약 (18)에 각 코일의 전류를 설정.
        주 : 자기장 변화가 켜진 후 정적 MOT는 실험 챔버에서 관찰된다.
    3. 동적 MOT
      주 : (6) 리튬 MOT 광학 설치 서로 직교 모든 쌍 MOT 빔 전파 카운터 세 쌍을 포함한다. MOT 각 빔은 빔 및 냉각 repumping 빔을 포함한다. 강도 및 버튼 확장 박스 (AOM)에 의해 제어되는 광속의 주파수 detunings은 세 단계에 대한 변화된다. 버튼 확장 박스 (AOM)의 제어 전압은 타이밍 제어 장치에 의해 명령 멀티플렉서 회로를 통해 설정된다. 세 단계의 매개 변수는 표 3에 나열되어 있습니다. 광학 평신도MOT 빔에서도 6에 도시된다.
      1. 로드, 컴파일 및 소프트웨어 제어 루프에 타이밍 제어 프로그램의 실험시기 파일을 실행합니다. 실험의 타이밍은 MOT 로딩 단계로 시작합니다. MOT에서 약 109 원자를 나타내는 V (2)에 도달하는 광 검출기의 MOT 형광 신호를 모니터.
        주 : MOT의 형광은 약 10-4 라드의 공간 각도로 렌즈에 의해 수집된다. 로딩 단계 원자 번호가 참조 번호 (13) 방법에 의해 계산 될 수있다.
      2. 로딩 단계가 종료하기 전에 감속 빔을 차단하는 광 셔터를 사용한다.
        주 : 감속 빔 셔터 타이밍이 표 1에 나와있는 실험 타이밍의 제어하에도이다.
      3. 집합 강도 및 냉각 단계에 대한 표 3에 따라 MOT 레이저 빔의 주파수 detunings.
        주 : 상기 냉각 단계 후, 온도MOT는 약 300 μK로 감소된다.
      4. 펌핑 단계의 경우, 프로그램 파일 타이밍 실험은 AOM과 함께 repumping 빔을 끕니다.
        주 : 펌핑 단계는 낮은 미세 상태 2/2 1/2 S (= 1/2 F)에 모든 원자 펌프.
      5. MOT 빔을 끄고 AOM하여 원자 전이 공진 아래 레이저 주파수 30 MHz의 이동, 광학 셔터 버튼 확장 박스 (AOM)과의 누출 광을 차단.
        주 : MOT 단계 후에, 원자 클라우드 공진 광의 누설은 원자의 손실을 초래할 것이다. AOM 제어와 MOT 빔 셔터의 타이밍은 모두 표 1에 나열되어있다.
      6. 동적 MOT 후 카메라로부터 영상 프레임을 취득. MOT의 흡수 이미지를 가져옵니다.
        주 : MOT의 원자 수는 약 107 펌핑 단계 이후이다. MOT의 전형적인 흡수 화상은도 7a에 도시된다.

    6. ODT와 함께 초저온 페르미 가스 준비

    1. 광학 쌍극자 트랩
      참고 : ODT는 극저온 페르미 가스를 생성하는 주요 도구입니다. 깊은 ODT, 1,064 nm의 파장에서 100 W의 발광 파워를 가진 레이저 광을 생성하기 위해 사용된다. ODT의 설정은도 8에 도시된다.
      1. 레이저 빔 덤프 냉각 수류를 켜고.
      2. 수동으로 1 V에 ODT AOM 제어 전압을 설정합니다. 13 W의 발광 파워 파이버 레이저를 켜고.
      3. 적외선 뷰어로 ODT 광학계를 확인하고, 아르곤 가스 유동과 먼지를 제거한다.
        주 : 광학계에 먼지가 ODT의 공간적 프로파일을 변경하고, ODT의 불안정성을 야기 할 수있다.
      4. 게임용 제어 프로그램을 통해 레이저 펄스를 생성하기 위해 상기 광섬유 레이저 AFG 명령.
        참고 : 레이저 펄스의 출력은 실험의 타이밍에 의해 트리거되며,이 펄스의 시작 시간은 MOT 로딩 단계가 끝나기 전에 14 밀리로 설정됩니다. PULS즉 시퀀스 제어는도 1에 도시 한 타이밍은 표 1에 열거된다.
      5. 수동 8 V (포화 RF 전력의 80 %)에 ODT AOM 제어 전압을 설정한다.
        주 : AOM 드라이버의 최대 RF 전력은 열 렌즈 효과의 영향을 줄이기 위해, 포화 전력의 80 %로 제한해야한다.
      6. 카메라에서 MOT 및 ODT의 흡수 이미지를 획득.
        참고 : 자신의 흡수 영상을 통해 MOT 및 ODT의 중복을 확인하십시오. 도 7b는 각각 MOT 및 ODT의 전형적인 흡수 이미지를 나타낸다.
    2. 바이어스 자기장과 스핀 혼합 RF 필드
      주 : 상호 페르미 기체를 생성하기 위해 수직 방향으로 바이어스 자계가 조정 S 파의 산란 길이에인가된다.
      1. 실험 타이밍 프로그램의 H 브리지를 설정되도록 헬름홀츠을 방지 헬름홀츠의 자기장 구성 변경.
        참고 : 투구홀츠 코일 자간 상호 작용을 조정하기위한 바이어스 자계를 발생시킨다.
      2. 채널 (2)과 자석 제어 프로그램의 채널 3 527.3 G 330 G에 바이어스 자기장을 설정한다.
      3. MOT 끈 후 330 G 0 G에서 자계 스윕 실험 타이밍 시퀀스 프로그램.
        참고 :이 자기장 스윕 표준 증발 냉각을위한 약하게 상호 작용하는 6 리 페르미 가스를 준비합니다.
      4. 비 간섭 페르미 기체 14 527 G 330 G에서 자계 스윕 프로그램.
        참고 : 6.2.1-6.2.4에서 자기장 순서. 도 1에 도시 한 타이밍은 표 1에 열거된다.
      5. 6 개의 리튬의 미세 낮은 상태 2 S 1/2 50:50 혼합물 (F = 1, m의 F = ± 2분의 1)를 생성하기 위해 노이즈 RF 펄스를인가.
      6. 원자의 공진 튜닝 록 레이저 주파수527.3 G는 RF 신호의 출력 주파수를 변화시켜 (낮은 자장에서 2/2 P 3/2 → 2/2 트랜지션 1/2 S (F = 1, m = -1/2의 F)에 대응) 발전기.
        주 : 공진 주파수의 주파수 조정을 유도하는 데 사용되는 흡수 촬상의 원자 수를 최대화한다. 만 스핀 다운 원자는 50:50 스핀 혼합물 실험에 사용되기 때문에 원자 구름을 제시 군데 있습니다.
    3. 절감 트랩에 의해 증발 냉각
      참고 : 표준 증발 냉각이 타락한 정권 근처에 6 리튬의 fermionic 원자를 냉각하는 데 사용됩니다. 증발 냉각의 첫 번째 단계는 파이버 레이저의 펄스에 의해 제어되고, 상기 제는 ODT AOM에 의해 제어된다. 근거리 축퇴 페르미 가스 파라 냉각 용 시료로한다.
      1. 증발 냉각 지혜의 첫 단계를 시작합니다H 다시 0.1 U 0, U 0 ODT의 트랩 깊이를 증가 파이버 레이저 파워, 펄스에 의해 제어 소프트웨어 (U 0 100 W의 레이저 파워와 전체 트랩 깊이). 이 단계의 총 시간은 0.5 초이다.
        주 : 펄스 폭은 U 0에 대응하는 열 렌즈 효과의 영향을 피하기 위해 0.5 초에 한정되어야한다.
      2. 프로그램 지수 곡선과 ODT AOM은도 1에 도시 된 바와 같이. 증발 냉각의 첫번째 단계를 완료 한 후, 30 밀리 초를 기다린 다음에 ODT AOM 통해 U 0 0.01 0 0.1 U 트랩 깊이를 낮춤으로써 증발 냉각의 두번째 단계를 시작한다. 이 단계의 총 시간은 1.5 초이다.
      3. 증발 냉각시킨 후 차가운 원자 흡수 영상 획득.
        주 : 약 105 원자 증발 냉각 후에 ODT 남아있다로부터 계산 될 수있다흡수 이미지.

    7. 파라 냉각

    1. 트랩 깊이 변조
      1. 527.3 G. 변조 U (t의 m) = 0.01 U 0으로 ODT AOM과 트랩 깊이 자기 스윕 후 100 밀리 초를 기다린 δ은 변조 깊이와 ω (1 + δ COS (ω의 m의 t의 m))이고 m은 변조 주파수이다. 파라 변조 AFG 제어 프로그램의 변조 시간 t의 m을 설정한다. 변조시의 시퀀스는도 1에 도시되어있다.
        참고 :이 매개 변수 냉각을 구현하는 중요한 단계이다.
      2. 갑자기 트래핑 빔을 해제하여 ODT에서 원자를 분리합니다 APG을 프로그래밍합니다. 가스가 탄도 흡수 이미지를 적용하기 전에 300 μS에 대한 확장하자.
        참고 : 탄도 확장은 템피를 얻을 수 TOF 흡수 영상과 함께 사용차가운 원자의 rature.
      3. 파라 냉각 후 냉 원자 흡수 화상을 취득.
    2. 시간 의존성 측정
      주 : 우리의 이전 연구 7에서, 우리는 파라 냉각의 최적화 된 주파수 ω X가 0.01 U 0 ODT의 반경 포착 주파수 ω 1.45 X 될 것을 알았다. 이 주파수를 사용하여, 선택적으로 축 방향을 따라 고 에너지의 원자를 제거 할 수있다.
      1. 파라 변조 AFG 제어 프로그램을 통해 = 0.5 Δ하는 변조도를 설정한다.
      2. 변조주기의 수를 변화시켜 0 600 MS로부터 변조 시간을 변경하는 파라미터 변조 AFG의 외부 트리거 제어 기능을 사용한다.
        주 : 변조 시간의 증가에 의해, 구름 원의 크기는, 특히 축 방향으로 감소한다. 관련 결과를도 9에 나타낸다.
      3. 카메라에서 영상 프레임을 취득. 저장하고 CCD 제어 프로그램을 통해 이미지를 분석 할 수 있습니다.

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결과

이 프로토콜을 사용하여, 우리는 우리의 이전에 게시 7 결정된 둘 다 최적화 된 변조 주파수 및 진폭과 변조 시간에 파라 메트릭 냉각의 의존성을 연구한다. 먼저 T / T F ≈ 1.2 온도 개의 미세 낮은 상태에서 리튬 6 개 원자의 비 간섭 페르미 기체를 준비한다. 여기서, T F = (6N) 1/3 H ω / K B = 5.2 μK은 원자 번호 N = 회전 당 1.7 × 10 5 기하 평균 포착 주파수 ω = (ω X ω Y ω z) 1 판정 / 3 ...

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토론

우리는 크로스 빔 광 트랩 비 간섭 페르미 가스 파라 냉각 실험 프로토콜을 제시한다. 이 프로토콜의 중요한 단계를 포함한다 : 첫째로, 광학 포획 페르미 기체가 트랩 깊이를 낮추어 축퇴 온도 근처로 냉각 될 필요가있다. 둘째, 변조 주파수가 포착 전위의 부조화 성분과 공진하다 선택된다. 셋째, 트래핑 빔의 강도는 원자 구름을 냉각하고, 변조시에 구름 에너지 의존성을 측정하기 위해 변조된다.

트랩 화 방식에 비해 파라 냉각 방식 트랩 깊이를 저하시키지 않고, 광 트랩에서 고 에너지 원자를 제거하는 선택적인 방법을 제공한다. 그것은 위상 밀도를 증가 및 비 간섭 페르미 가스를 냉각하는 데 도움이됩니다. 이러한 파라미터는 보통 냉각 이방성이기 때문에, 양자는 가스 온도 이방성을 변경하는 편리한 방법을 제공한다에스.

파라 냉각을 가능하게하기 위해, 현재 프로토콜을 출발점으로 축퇴 온도에 가까운 페르미 기체를 필요로한다. 냉각 효과는...

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공개 사항

저자는 공개할 것이 없습니다. 특정 제품 및 회사 인용은 설명을 위한 것일 뿐이며 저자의 보증이 아닙니다.

감사의 글

실험 설정에 참여해 주신 Ji Liu와 Wen Xu에게 감사드립니다. Le Luo는 인디애나 대학교 시공간 대칭 센터(IUCSS)의 회원입니다. 이 작업은 IUPUI와 IUCRG의 지원을 받았습니다.

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재료

이 논문에 사용된 재료 목록
이름회사카탈로그 번호댓글
500 mW 671 nm ECDLTopticaTA Pro수량 : 1
35 mW 671 nm ECDLTopticaDL-100수량 : 1
671 nm AOMIsomet1206C수량 : 3
671 nm AOM 드라이버Isomet630C-110수량 : 3
100 W 1,064 nm CW 레이저IPG 포토닉스YLR-100-1064-LP수량 : 1
1,064 nm AOM인트라액션ATM-804DA6B 수량 : 1
1,064nm AOM 드라이버IntraActionME-805EH 수량 : 1
임의 함수 생성기Agilent 33120A수량: 3
디지털 I/O 보드United Electronic IndustriesPD2-DIO-128수량: 1
시스템 디자인 플랫폼National InstrumentsLabVIEW수량: 1
아날로그 전압 출력 장치측정USB-3104수량: 1
CCD 카메라HamamatsuOrca R2수량: 1
임의 펄스 발생기Quantum Composer9618+수량: 1
아날로그 전압 출력 장치측정 컴퓨팅USB-3104수량: 1
20A 전원 공급 장치수량: 1
10A 전원 공급 장치수량: 1
120A 전원 공급 장치수량: 2
냉각 팬수량 : 장치 설계에 따라 다름
671 nm 미러수량 : 장치 설계에 따라
다름 671 nm 반파 플레이트수량 : 장치 설계에 따라 다름
671 nm 1/4 파장 플레이트수량 : 장치 설계에 따라 다름
500 mW 빔 셔터수량 : 장치 설계에 따라 다름
671 nm 렌즈수량: 장치 설계에 따라 다름
패러데이 아이솔레이터수량: 2개, ECDL
671 nm 편광 빔 스플리터각각 하나씩. 수량: 장치 설계에 따라
다름 광검출기ThorlabsSM05PD1A수량: 1
멀티플렉서 Analog DevicesADG409수량: 1
멀티플렉서 Analog DevicesADG408수량:
1,064nm 평면 오목 렌즈2개 수량: 빔 리듀서
1,064nm 평면 볼록 렌즈수량: 빔 리듀서
1,064nm 미러수량: 장치 설계에 따라 다름
1,064nm 반파 플레이트수량: 장치 설계에 따라 다름 수량: 장치 설계
에 따라 다름1,064nm 렌즈수량: 장치 설계에 따라 다름
1,064nm 박막 편광판수량: 1
100 W, 1,064 nm 빔 덤프수량: 1
100 W, 1,064 nm 전력계수량:
1 RF 함수 발생기RigolDG4162수량: 1
RF 전력 증폭기미니 회로ZHL-100W-GAN+수량: 1
컴퓨팅 용 1개 용 1개

참고문헌

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