액체 환경에서의 펄스 자외선 레이저 조사에 의한 실리콘 표면의 젖음성의 선택 영역 수정

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2015년 11월 9일

10.3791/52720-v

2015년 11월 9일

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우리는 HF의 시츄 변경이 2 O 2 / H 2 O 용액 (0.01 % -0.5 %) 또는 메탄올 용액 H로 채워진 미세 유체 챔버에서 샘플을 조사함으로써 친수성 또는 소수성 상태의 Si (001) 표면 처리에서의 공정보고 상대적으로 낮은 펄스 UV 플루 언스의 레이저 펄스를 사용.

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Silicon Surface Wettability

Chapters in this video

0:05

Title

1:24

Sample Preparation

2:16

Pulsed UV Laser Irradiation in Liquid Environment

3:18

Immobilization of Bio-conjugated Nanospheres

3:56

Contact Angle Measurement

5:05

XPS Measurement

5:52

Results: Pulsed UV Laser Irradiation Increases SiOH Surface Concentration

7:10

Conclusion

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