Name: 집중 태양 광 발전 시스템의 스펙트럼 분할 흩어 요소에 대한 고 대비 격자의 제작 (동영상) | JoVE Journal
Uploaded: 2015-07-18T14:00:00.000+00:00
Duration: 12 min 8 s
Description: 배우세요 집중 태양 광 발전 시스템용 고 대비 격자 제작 방법을 나노임프린트 리소그래피와 반응성 이온 식각을 통해 탐구하세요. 이 기술은 광학 성능을 향상시켜 광전지 효율을 높입니다.

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이 연구는 에너지 나노, 수상 번호 DE-SC0001013에서 에너지, 과학의 사무실의 미 교육부에 의해 투자 에너지 프론티어 연구 센터의 센터의 한 부분으로 지원되었다. 우리는 또한 이산화 티탄 박막 스퍼터링 및 굴절률 측정에 그들의 도움 박사 최대 장과 HP 연구소의 박사 지안 후아 양 감사드립니다.

나노 임프린트 몰드 1. 빈 폴리 디메틸 실록산을 준비 (PDMS) 기판 <ol><li> 실리콘 웨이퍼 처리 공정 <ol><li> 아세톤, 메탄올 및 이소프로판올로 세척하여 4 인치 실리콘 웨이퍼를 청소한다. </li><li> 이 질소 총을 이용한 드라이 불어. </li><li> 15 분 동안 담가 내부 (30 %의 과산화수소와 황산의 혼합물을 3 일) 피라나 용액을 사용하여 청소한다. </li><li> 탈 이온수로 씻어. 질소 총을 사용하여 건조 불어. </li><li> 유리 데시 케이 터에 웨이퍼를 놓습니다. 데시 케이 터에 제 (트리클로로)를 해제 한 방울 (20 방울 = 1 ml)에 추가한다. </li><li> 게이지가 -762 토르 표시 될 때까지 데시 케이 터를 펌프와 5 시간 동안 기다립니다. </li><li> 박리제로 처리 된 웨이퍼 아웃 보자. </li></ol></li><li> PDMS 필름의 제조 (나노 임프린트의 몰드로 사용) <ol><li> 실리콘 엘라스토머 염기 10g 및 경화제의 1g을 단다. </li><li> 같은 유리 비커에 추가. </li><li> STI는R 및 5 분 동안 유리 막대로 혼합한다. </li><li> 게이지가 모든 갇힌 공기 방울을 펌프 -762 토르 표시 될 때까지 진공 데시 케이 터에 혼합물을 넣어. </li><li> 처리 한 4 인치 실리콘 웨이퍼 상에 균등하게 확산. </li><li> PDMS 막을 경화 80 ° C에서 7 시간 동안 진공 오븐에서 위에 PDMS와 웨이퍼를 굽는다. </li></ol></li></ol> 2. (마스터 금형에서 중복) 나노 임프린트 몰드를 준비 <ol><li> 1500 rpm에서 30 초 동안 깨끗한 빈 실리콘 웨이퍼 상에 UV 경화성 레지스트 열두 방울 (20 방울 = 1 mL) 중 (15.2 %)을 스핀. </li><li> 조심스럽게 처리 한 실리콘 웨이퍼 오프 PDMS 막의 일부를 박리. </li><li> 경화 저항 자외선에 PDMS 필름을 넣고는 UV가 다음 5 분 레지스트를 벗겨 흡수 할 수 있습니다. </li><li> 두 번 같은 PDMS 막 위에 2.1-2.3 반복한다. 자외선은 각각 3 분 1 분 동안 저항을 사용하여 흡수시킬 것. </li><li> 실리콘 마스터 몰드에 (세 시간 자외선 흡수에 저항 후) PDMS 필름을 놓습니다. </li><li> 질소 환경 챔버에 넣어. </li><li> 5 분 동안 샘플을 치료하는 UV 램프를 켭니다. </li><li> PDMS 필름을 벗겨. UV 경화는 마스터 몰드의 네가티브 패턴을 유지할 PDMS 레지스트. </li><li> 사용 RF O 2 플라즈마 PDMS 몰드를 치료한다. (RF 전력 : 30 W, 압력 : 260 mTorr의 시간 : 1 분) </li><li> 2 시간 동안 박리제 한 방울 (20 방울 = 1 ml)로 진공 챔버에 PDMS 몰드를 놓는다. </li></ol> 3. 나노 임프린트 패턴 전송 <ol><li> 기판 상에 PMMA의 팔 방울 (20 방울 = 1 ㎖) (996k, 3.1 %)를 스핀은 3,500 rpm에서 50 초 동안 각인합니다. </li><li> 120 ℃에서 5 분 동안 열판을 굽는다. </li><li> 시료가 식을 때까지 기다립니다. </li><li> 동일 기판 상에 UV 여덟 방울 (20 방울 = 1 ㎖) 경화성은 (3.9 %)을 레지스트 스핀. </li><li> 샘플 (UV 모두 저항 및 PMMA)에 PDMS 몰드 (단계 2에서 제조)를 놓습니다. </li><li> 질소 환경 챔버에 넣어.</li><li> 5 분 동안 치료하는 UV 램프를 켭니다. </li><li> 필 오프 샘플 PDMS 몰드와 PDMS 몰드의 패턴 샘플에 전사 얻는다. </li></ol> 4. CR의 리프트 오프 (lift-off) 공정 <ol><li> 잔류 자외선의 레지스트 층과 PMMA를 반응성 이온 에칭 참고 : ICP 기계에 대한 SOP는 https://www.nanocenter.umd.edu/equipment/fablab/sops/etch-07/Oxford%20Chlorine%20Etcher%20SOP.pdf에서 찾을 수 있습니다 <ol><li> RIE ICP 시스템에 로그인합니다. </li><li> 빈 4 인치 실리콘 웨이퍼를로드합니다. 10 분 동안 깨끗한 레시피를 실행합니다. </li><li> 빈 실리콘 웨이퍼를 꺼내. </li><li> 다른 깨끗한 실리콘 웨이퍼 상에 샘플을 장착하고 시스템에로드합니다. </li><li> 자외선은 2 분 동안 에칭 레시피를 저항 실행 (제조법은 표 1에서 찾아 볼 수있다). </li><li> 샘플을 가져 가라. 빈 4 인치 실리콘 웨이퍼를로드합니다. 다시 실행 깨끗한 레시피를 10 분 동안 (표 1에서 찾아 볼 수있다). </li><li> 깨끗한 실리콘 웨이퍼 상에 샘플을 탑재하고 시스템에로드. </li><li> 2 분 동안 (표 1에서 찾을 수 있습니다) PMMA 에칭 레시피를 실행합니다. 참고 : 이제 잔류 에칭 된 레지스트 및 기판이 노출되어있다. </li></ol></li><li> CR E - 빔 증발 <ol><li> 전자 빔 증발기에 로그인합니다. </li><li> 챔버에 CR 금속 소스 및 샘플을로드합니다. </li><li> 두께 (20 ㎚) 및 증착 속도 (/ 초 0.03 nm의)를 설정합니다. </li><li> 필요한 진공 (10-7 토르)까지 실을 펌프하는 것은 도달한다. </li><li> 증착 프로세스를 시작한다. </li><li> 증착이 완료된 후 샘플을 가져 가라. </li></ol></li><li> 리프트 오프 (lift-off) CR 절차 <ol><li> 5 분 동안 초음파 교반 아세톤에 시료를 담그. </li><li> 아세톤, 메탄올, 이소프로판올로 세척하여 샘플을 청소합니다. 참고 : 전원이 해제됩니다 레지스트 및 기판 에칭 CR 마스크를 형성에 CR 증발. </li></ol></li></ol> 5. 이산화 티탄 출발지osition <ol><li> 로드 샘플. </li><li> 직류 마그네트론 스퍼터링 장치에 대한 매개 변수를 설정 <ol><li> 1.5 mTorr 이하의 챔버 압력, 100 SCCM의 아르곤 흐름과 130 W.의 스퍼터링 전력을 사용 </li><li> 27 ° C의 온도 및 20 rpm의 단계 회전 수를 사용한다. </li></ol></li><li> 스퍼터 공정을 시작하고 원하는 두께로 중지합니다. </li><li> 샘플을 가지고 3 시간 동안 300 ℃에서 산소 환경에서 이산화 티탄 필름을 어닐링. </li></ol> 6. 고 대비 격자 에칭 <ol><li> 유도 결합 플라즈마 (ICP), 반응성 이온 에칭 (RIE) 장치에 로그인. </li><li> 이산화 티탄 에칭 <ol><li> 빈 4 인치 실리콘 웨이퍼를 적재. </li><li> 시작하고 깨끗한 레시피를 실행 10 분 동안 (표 1에서 찾아 볼 수있다). </li><li> 빈 웨이퍼를로드 언로드 및 CR 마스크와 샘플을로드합니다. </li><li> 에칭 시간을 설정합니다. 이산화 티탄 에칭 레시피를 시작합니다. 에칭 공정 의지 자동matically 중지합니다. </li><li> 샘플을 언로드합니다. </li></ol></li><li> SiO2를 에칭 <ol><li> SiO2를 에칭 조리법을 사용 제외 단계를 반복 5.2. </li></ol></li></ol> 7. 반사율 측정 <ol><li> 로그인 및 측정 시스템을 켭니다. </li><li> 샘플 홀더에 반사율 표준 거울을 놓고 광학 경로를 맞 춥니 다. </li><li> 100 %의 반사율을 보정 시스템. </li><li> 반사율 표준 거울을 벗고 HCG를 놓습니다. </li><li> HCG의 반사율을 측정합니다. </li><li> 데이터를 저장하고 측정 시스템의 로그 아웃. </li></ol>

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</ol>

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우선, 이산화 티탄 막의 품질 HCG 성능에 매우 중요하다. 이산화 티탄 막은 적은 손실 및 표면 거칠기를 갖는 경우, 반사율 피크는 높을 것이다. 광학 모드가 한정 HCG의 평탄한 야기하고 넓은 반사 밴드를 제공 할 수있는 인덱스 높은 콘트라스트에 의해 향상되기 때문에 더 높은 굴절률과 이산화 티탄 막도 바람직하다. 둘째로, 제조 오차 HCG에 상당한 영향을 미칠 것이며, 피해야한다. 제작에 도입 된 거칠기는 산란 할 더 많은 빛을 발생할 수 있으므로 반사율이 낮은 될 것입니다. 선 폭, 높이 및 피치를 포함 HCG 제조에서 파라미터의 편차는 시뮬레이션 장치에 최적으로 작동하도록 허용하지 않을 것이다. 또한, HCG의 반사율 강하게 측벽의 각도 즉, 에칭 프로파일에 의존한다. 도 11, 측벽 각의 사실상HCG의 반사율에의 수치 계산된다. 측벽의 각도가 84 °, 90 °...

현대 사회는 재생 가능한 에너지 원으로 에너지 소비의 상당 부분을 움직이지 않고 생존 할 것이다. 이 일어날 수 있도록하기 위해, 우리는 가까운 미래에 석유 기반 에너지 원보다 낮은 비용으로 신 재생 에너지를 수확 할 수있는 방법을 찾을 수있다. 태양 에너지는 지구상에서 가장 풍부한 신 재생 에너지입니다. 진행됨 많은 태양 에너지를 수확하여 이루어진 것을에도 불구하고, 석유 계 에너지 원과 경쟁 여전히 매우 도전적이다. 태양 전지의 효율을 개선하는 것은 태양 에너지 수확의 시스템 비용을 절감 할 수있는 가장 효율적인 방법 중 하나이다. 그것이 고가 탠덤 다중 접합 태양 전지 (2)을 악용 경제성하므로 광학 렌즈 및 접시 반사기는 일반적으로, 작은 면적의 태양 전지에 태양 광이 입사 높은 농도를 달성하기 위해 가장 집중된 광 (CPV) 시스템 (1)에 사용되는 CPV 시스템 및 합리적인 유지동시에 비용. 그들은 일반적으로 더 넓은 태양 스펙트럼 응답 및보다 전반적으로 높은 변환 효율을 갖지만 그러나, 통상 태양 전지의 대 면적 분할을 필요로 가장 비 농축 광전지 시스템의 경우, 고가의 탠덤 태양 전지는, 혼입 될 수 없다 단일 접합 태양 전지 3. 최근 평행 스펙트럼 분할 광학계의 도움 (즉 분산 요소)와, 병렬 스펙트럼 분할 광전지 기술 4 만들었다 그것을 가능한 유사하거나 더 나은 스펙트럼 범위와 변환 효율이 고가의 탠덤 태양 전지를 사용하지 않고 달성 될 수있다. 다른 태양 스펙트럼 대역으로 분할 될 수 있고, 각 대역은 흡수되고 특화된 단일 접합 태양 전지에 의해 전기로 전환시킬 수있다. 이러한 방식으로, CPV 시스템의 비싼 탠덤 태양 전지는 단일 접합 태양 전지의 병렬 분포로 대체 될 수있다성능에 타협하지 않고들. 이 보고서에서 설계된 분산 요소는 개선 된 태양 광 전기 변환 효율 및 비용 절감을위한 병렬 스펙트럼 분리를 실현할 (접시 반사기에 기초하는) 반사 CPV 시스템에 적용될 수있다. 적층 높은 콘트라스트 격자 (HCG)도 5는 광 대역 반사기로 일 HCG의 각 계층을 설계함으로써 분산 요소로서 사용된다. 구조와 분산 요소의 매개 변수가 수치 적으로 최적화되어 있습니다. 또한, 유전체를 사용하여 분산 요소에 대한 높은 콘트라스트 격자의 제작 (이산화 티탄), 스퍼터링, 나노 임프린트 리소그래피 (6) 및 반응성 이온 에칭이 연구되고 설명된다.

<table><tbody><tr><td>184 실콘 엘라스토머 키트</td><td>실가드</td><td></td><td>폴리디메틸실록산(PDMS)</td></tr><tr><td>4인치 실리콘 웨이퍼</td><td>Universitywafer</td><td></td><td></td></tr><tr><td>4인치 용융 실리카 웨이퍼</td><td>Universitywafer</td><td></td><td></td></tr><tr><td>폴리(메틸 메타크릴레이트)</td><td>Sigma-Aldrich</td><td>182265</td><td></td></tr><tr><td>UV 경화 레지스트</td><td></td><td></td><td>nor 시장에</td></tr> <tr><td>나와 있지 않음PlasmaLab 시스템 100</td><td>옥스포드 기기</td><td></td><td>ICP IRE 기계</td></tr><tr><td>나노 임프린트 제작</td><td></td><td></td>을 위한 UV 경화 시스템 <td>시장에서는 사용할 수 없음</td></tr><tr><td>Ocean Optics HR-4000&nbsp;</td><td>일반 검출기가 있는</td> <td>Ocean Optics</td><td>HR-4000</td> 분광계</tr><tr><td>Lambda 950 UV/VIS</td><td>PerkinElmer</td><td></td><td>분광계 반구 통합 검출기</td></tr><tr><td>JSM-7001F-LV</td><td>JEOL</td><td></td><td>전계 방출 SEM</td></tr><tr><td>DC 마그네트론 스퍼터링 머신</td><td></td><td></td><td>장비는 TiO2Metal e-beam 증발기를 스퍼터링하는 데 도움을 준 HP 연구소에 있습니다.</td></tr><tr><td></td><td>테메스칼</td><td>BJD-1800</td><td></td></tr></tbody></table>

집중 태양 광 발전 시스템의 스펙트럼 분할 흩어 요소에 대한 고 대비 격자의 제작

Fabrication of High Contrast Gratings for the Spectrum Splitting Dispersive Element in a Concentrated Photovoltaic System

고대비 격자는 설계 및 제작되었으며 그 적용은 집광형 태양광 시스템의 태양열 변환 효율을 향상시킬 수 있는 병렬 스펙트럼 분할 분산 소자에서 제안됩니다. 제안 된 시스템은 또한 값 비싼 탠덤 태양 전지를 비용 효율적인 단일 접합 태양 전지로 대체하여 집광 광 시스템의 태양 전지 비용을 낮출 것입니다. 분산 요소에 대한 고대비 격자의 구조와 매개변수는 수치적으로 최적화되었습니다. 고대비 격자의 대면적 제작은 나노임프린트 리소그래피와 드라이 에칭을 사용하여 실험적으로 시연되었습니다. 격자 재료의 품질과 제작 된 장치의 성능은 모두 실험적으로 특성화되었습니다. 측정 결과를 분석하여 제조 공정에서 발생할 수 있는 부작용에 대해 논의하고 제조 공정을 개선할 수 있는 잠재력이 있는 몇 가지 방법을 제안하여 제작된 장치의 광학 효율을 높이는 데 도움이 될 수 있습니다.

도 1은 농축 광전지 시스템에서 분산 요소 (다층 높은 콘트라스트 격자 (HCG))의 구현을 도시한다. 태양 광은 제 차 미러에 의해 반사 된 빔이 반사되고, 다른 파장의 상이한 대역들로 분할되어 반사 분산 요소에 충돌한다. 각 대역은 전기 가장 흡수 및 전환 용 태양 전지 어레이상의 특정 위치에 충돌한다. 본 시스템의 핵심은 설계 및 HCG의 여러 층으로 구성되는 분산 요소의 구현이다. 도 2는 분산 형 소자의 각 층에 대한 수치 최적화 결과를 나타낸다. 결과를 유한 차분 시간 영역 (FDTD) 7 기반 상업 시뮬레이션 소프트웨어 &quot;Lumerical&quot;더욱 정밀 결합 파 분석 (RCWA) (8)에 의해 검증하여 계산되었다. 굴절률이산화 티탄의 SOPRA 9 온라인 데이터베이스에서였다. 최적화 여섯 층 분산 요소는 전체 태...

집중 광전지 시스템에서 병렬 스펙트럼 분할 분산 소자로 고대비 격자의 제작이 시연됩니다. 나노임프린트 리소그래피,TiO2 스퍼터링 및 반응성 이온 에칭을 포함한 제조 공정에 대해 설명합니다. 반사율 측정 결과는 광학 성능을 특성화하는 데 사용됩니다.

High contrast gratings are designed and fabricated and its application is proposed in a parallel spectrum splitting dispersive element that can improve ...

다음 실험의 전반적인 목표는 집광 태양광 발전 시스템에서 고대비 스펙트럼 분할 소자의 제작 과정을 시연하는 것입니다. 이는 UV 경화성 포토레지스트 층이 도포된 이산화티타늄 유리 기판 위에 PDMS 나노 임프린트 리소그래피를 수행함으로써 달성됩니다. 두 번째 단계로, 잔류 나노 임프린트 포토레지스트를 식각하여 제거하고 리프트 오프 기술을 사용하여 패턴화된 크롬 하드 마스크를 제작합니다.다음으로 분광계의 측정 결과를 바탕으로 이산화티타늄 및 유리 등급 배열을 형성하기 위해 반응성 이온 식각을 사용하였습니다. 제작된 고대비 등급은 집광 태양광 발전 시스템의 분산 소자로 활용 가능한 광대역 반사율을 나타냅니다. 저희는 기존의 회절 격자와 달리 이 이산화티타늄 고대비 격자가 독특한 반사 프로파일을 보인다는 점을 발견하고 이 방법의 아이디어를 처음 얻게 되었습니다.따라서, 이를 활용하여 저비용 단접합 태양 전지의 에너지 흡수율을 크게 향상시킬 수 있는 스펙트럼 분할 분산 소자를 제작할 수 있습니다. 광대역 태양광을 흡수하기 위해 고가의 다접합 태양 전지 기술을 사용하는 것과 같은 기존 방법과 비교했을 때 이 기술의 주요 장점은, 회절 격자가 더 낮은 제작 비용으로 더 높은 흡수 효율을 제공한다는 점입니다. 또한, 임프린트 리소그래피는 넓은 면적의 고대비 격자를 제작하는 데 적합한 저비용 고수율 제작 기술입니다. 마이크로 제작 공정을 시작하려면, 깨끗한 실리콘 웨이퍼를 유리 진공 데시케이터에 넣고 데시케이터 내부의 작은 비커에 액체 트리클로로에틸렌 한 방울을 추가하십시오.데시케이터 뚜껑을 닫고 게이지가 1기압 아래로 떨어질 때까지 챔버 내부를 진공 상태로 만듭니다. 그다음 진공 소스 레귤레이터를 차단하고, 기화된 sine 용액이 정적 진공 상태에서 5시간 동안 웨이퍼 표면을 코팅하도록 둡니다. 처리가 끝나면 진공을 해제하고 데시케이터에서 웨이퍼를 꺼냅니다.다음으로, PDMS 10 g과 PDMS 경화제 1 g을 측정합니다. 중간 크기의 비커에 유리 막대를 사용하여 두 성분을 고르게 섞은 후, 혼합물에서 모든 기포를 제거하기 위해 디쉬를 진공 데시케이터에 20~30분 동안 둡니다. 탈기 후, 웨이퍼를 플라스틱 페트리 접시에 놓고 실리콘 웨이퍼 위에 PDMS를 천천히 붓습니다. 웨이퍼를 진공 오븐으로 옮겨 80 °C에서 7시간 동안 PDMS를 경화시킵니다.마지막으로, 응고된 PDMS를 오븐에서 꺼내 폴리머 필름을 상온까지 식힙

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연구

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공학

유리에 다결정 실리콘 박막 태양 전지는 crystallisation, 결함 패시베이션 및 metallisation 다음 붕소 및 인 도핑된 실리콘 레이어 증착에 의해 조작된다. 가벼운 트래핑 Plasmonic은 ~ 45 % photocurrent 향상의 결과로 확산 반사판으로 공을 실리콘 전지 표면에 자세의 nanoparticles을 형성하여 소개하고 있습니다.

Plasmonic 강화된 라이트 - 트래핑과 다결정 실리콘 박막 태양 전지

태양 에너지 생산을위한 전개 반도체 nanocrystal의 복합를 충전 분리의 개발을위한 일반적인 전략을 제시하고 있습니다. 기증자 - 수용체 nanocrystal 영화의 대량 heterojunctions는 태양 광 에너지 변환에 사용하실 수 있습니다 우리는 하나의 nanoparticle 형태의 기증자 - 수용체 nanocrystal 도메인의 조립 photocatalytic 함수에 상승을 제공합니다을 보여줍니다.

충전 분리 Nanocrystals와 고체를 통해 태양 에너지를 수확

염료 감응 태양 전지 및 삼중 항 - 삼중 항 소멸 상향 변환 부를 통합 집적 장치는, 태양 광 스펙트럼의 더 넓은 부분에서 향상된 광 수확을 수득 제조 하였다. 겸손 조사 수준에서 낮은 에너지 광자에 크게 향상된 응답은 염료 감응 태양 전지의 장점의 기록 숫자를 산출 입증되었다.

삼중 항 - 삼중 종말 최대 변환 시스템을 통합하면 하위 밴드 갭 빛에 염료 감응 형 태양 전지의 응답을 향상시키기 위해

측정 프로토콜 및 데이터 분석 과정은 동시에 격자 한 2-D 바둑판 위상을 사용하여 네 개의 방향을 따라 방사광 X 선원의 횡 일관성을 얻기 위해 주어진다. 이 간단한 기술은 X 선 소스와 X 선 광학 완전한 횡 간섭 특성화에 대해 적용될 수있다.

2-D 바둑판 위상 격자를 사용하여 여러 길을 따라 X 선 빔 일관성의 측정

여기서는 미니 슬롯 다이 코터 싱크로트론 산란 기법을 사용하여 종래의 라인 구조를 사용하여 특성화 유기 박막 태양 전지를 제조하는 프로토콜을 제시한다.

벌크 이종 접합 태양 전지의 인쇄 제작 및 현장에서 형태학 특성

이 프로토콜은 비전 도성 표면 상에 박막 전자 장치를 생성하는 층으로 무기 나노 결정 층의 합성 용액 증착을 설명한다. 용매 안정화 잉크는 증착 후 리간드 교환 및 소결 다음 스핀 및 스프레이 코팅을 통해 유리 기판에 대한 전체 PV 소자를 제조 할 수있다.

완전 해결 가공 된 무기 나노 결정 태양 광 발전 장치의 제작

우리는 결정 구조, 상태, 에너지 수준의 밀도 및 궁극적으로 태양 전지의 성능을 비교하는 무기 / 유기 박막이 페 로브 스카이 트 (perovskite)의 다른 제조 방법의 효과에 대한 광범위한 연구 결과를 제시한다.

필름 형성에 하이브리드 페 로브 스카이 트 제조 방법, 전자 구조 및 태양 전지 성능의 영향

유리에 무색 남자 용 상의 (ADG) 프레넬 렌즈는 색수차를 줄이기 위해 달성 가능한 농도 증가를 다른 분산 된 2 개의 물자의 사용. 이 논문에서는, ADG 프레넬 렌즈의 완전 한 특성에 대 한 프로토콜 제공 됩니다.

실내 실험 평가의 효율성과 집중 태양광 발전에 대 한 유리 (ADG) 프레넬 렌즈에 무색 남자 용 상의의 Irradiance 자리

여기, 우리는 높은 시 소수 캐리어 수명으로 높은-성능 격차/Si heterojunction 태양 전지를 개발 하는 프로토콜을 제시.

높은 성능 격차/Si Heterojunction 태양 전지 개발

이 백서는 롤투롤 슬롯다이 코팅, 비 풀러렌 유기 태양광에 잉크건조의 SITU GISAXS 실험에서 사내 (실험실 X 선 악기와) 수행하고 분석하는 데모 및 지침입니다.

실험실 X 선 계측기와 유기 태양 전지의 롤 투 롤 코팅에 작은 각도 X 선 산란 시

이 프로토콜은 미량 가스 분광법과 같은 다양한 응용 분야를 가진 저비용, 이산, 광섬유 결합 및 공기 간격 Fabry-Perot etalon의 구성을 설명합니다. 제작은 표준 광학 실험실 장비를 사용할 수 있는 모든 시설에서 가능합니다.

저비용, 섬유 결합 및 공기 간격 Fabry-Pérot Etalon 제작

배우세요 집중 태양 광 발전 시스템용 고 대비 격자 제작 방법을 나노임프린트 리소그래피와 반응성 이온 식각을 통해 탐구하세요. 이 기술은 광학 성능을 향상시켜 광전지 효율을 높입니다.

집중 태양 광 발전 시스템의 스펙트럼 분할 흩어 요소에 대한 고 대비 격자의 제작

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