Name: 레이어로 레이어 합성 및 독립 구조로 서있는 공역 미세 다공성 고분자 Nanomembranes의 전송 (동영상) | JoVE Journal
Uploaded: 2015-12-15T13:00:00.000+00:00
Duration: 9 min 9 s
Description: 학습하세요 공유결합 미세다공성 고분자(CMP) 나노막의 합성 및 전이 방법을 희생 기판을 이용한 계면 합성법으로. 균일한 두께의 독립 구조 막을 제작하여 막 분리 및 유기전자소자 연구에 활용할 수 있습니다.

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순차 추가를 통해 CMP 박막 1. 합성 <ol><li> 운모에 금의 자기 조립 단분자막 (SAM) 작용. <ol><li> 에탄올 11 피페 운데 산 프로 파길 아미드 (14)의 1 mM의 용액 (SAM-용액)을 준비한다. 해결책은 분명하다까지 초음파 목욕을 사용하여 섞는다. 알루미늄 호일을 사용하여 빛으로부터 병을 보호합니다. </li><li> 아르곤 하에서 금 운모 웨이퍼를 얻습니다. 저장 용기로부터 인출 한 후 18 시간 동안 SAM-용액에 직접 운모 웨이퍼를 몰입. </li><li> , SAM-용액으로부터 제조 된 금 운모 웨이퍼를 타고 질소 기류 하에서 에탄올 건조 씻어. 이후 빛과 불활성 가스에 의해 보호 기판을 저장합니다. </li></ol></li><li> 전구체 솔루션을 제공합니다. <ol><li> 18.64 mg의 구리 촉매 (테트라 키스 (아세토 니트릴) 구리 (I) 헥사 플루오로 포스페이트), 20.83 mg을 테트라 페닐 메탄 (TPM) -alkyne와 24.22 mg을 TPM - 아 지드를 달아 별도의 쉬 렌크 플라스크에 각 구성 요소를 작성하십시오.TPM - 알킨 및 TPM - 아 지드 그림 1 참조, 합성 참조 (15)에 설명되어 있습니다. 대피 및 불활성 가스 (N 2, 아르곤) 3 회 리필. </li><li> 각각의 슈 렝크 플라스크에 25 ml의 물이없는 테트라 히드로 푸란 (THF)를 첨가. 알루미늄 호일을 사용하여 빛으로부터 TPM - 아 지드와 TPM-알킨과 플라스크를 보호합니다. </li></ol></li><li> CMP 제조를위한 장치를 준비합니다. 주 : 합성 장치는도 2에 도시된다. <ol><li> 250 ml의 한 구 둥근 바닥 플라스크를 사용합니다. 130 ML의 THF를 입력합니다. 알킨으로 코팅 준비 기판을 넣어 샘플 실에서 SAM을 종료했습니다. 기판이 직립되도록 샘플 홀더를 사용한다. </li><li> 환류 냉각기의 상단의 접합을 통해 쉬 렌크 라인에 장치를 연결합니다. </li><li> 3 회 대피 및 불활성 가스로 환기. </li></ol></li><li> 불활성 조건에서 연속 또한. <ol><li> 90 ° C로 히터를 설정하고 THF를 다시가 될 때까지 기다립니다플럭 싱. </li><li> 샘플 구획​​의 하단 출구 위에 샘플 구획​​으로부터 THF를 보자. 출구를 닫습니다. </li><li> 준비 TPM - 아 지드 시액 1 mL 및 격막과 스크류 캡을 통해 샘플 실에 구리 (I) 촉매 용액 0.5 ml를주세요. 반응 장치로 쉴 렌크 플라스크로부터 솔루션을 순차적으로 전송하는 중공 바늘 주사기를 사용한다. 참고 서열은 반응에 영향을 미치지 않는다. </li><li> 약 30 분을 기다립니다. </li><li> 샘플 구획​​의 하단 출구에 걸쳐 반응 액을 보자. 출구를 닫고 샘플을 세척하기위한 응축 된 THF를 수집합니다. 약 30 분을 기다립니다. </li><li> 샘플 구획​​의 하단에있는 출구를 통해 세척 용액을 보자. 출구를 닫습니다. </li><li> 준비 TPM-알킨 액 1 mL 및 격막과 스크류 캡을 통해 샘플 실에 구리 (I) 촉매 용액 0.5 ml를주세요. 중공으로 주사기를 사용하여바늘은 반응 장치에 쉴 렌크 플라스크로부터 솔루션을 순차적으로 전송한다. 참고 서열은 반응에 영향을 미치지 않는다. </li><li> 약 30 분을 기다립니다. </li><li> 샘플 구획​​의 하단 출구에 걸쳐 반응 액을 보자. 출구를 닫고 샘플을 세척하기위한 응축 된 THF를 수집합니다. 약 30 분을 기다립니다. </li><li> 반복 층의 원하는 양에 도달 할 때까지 1.4.9 1.4.3 단계. 주 : 하나의 층은 약 1 nm 두께이다. </li><li> , CMP 코팅 운모 기판을 꺼내 THF, 에탄올로 헹구고, 질소 기류 하에서 건조. </li></ol></li></ol> CMP Nanomembranes 2. 전송 <ol><li> 폴리 (메틸 메타 크릴 레이트) (PMMA) 용액. <ol><li> 에틸 아세테이트 중 4 % (중량) PMMA (996 kDa의 M)의 용액을 제조 하였다. 이 솔루션은 분명하다까지 PMMA는 초음파 목욕을 사용하여 녹인다. </li></ol></li><li> PMMA 용액을 스핀 코팅. <ol><li> RA 스핀 코터를 설정할MP 시간 0 RPM 4,000에서 10 초, 시간이 40 초를 들고와 4000 0 rpm으로 시간이 10 초 램프. </li><li> 스핀 코터에 CMP 운모 기판을 배치하고 완전히 피복 될 때까지 웨이퍼 상 PMMA 용액을 넣어. 스핀 코터를 시작합니다. </li><li> 스핀 코팅이 완료된 후 90 ℃에서 가열 플레이트 상에 5 분간 샘플을 넣어. </li><li> 운모 기판의 각 가장자리에서 1mm를 잘라. 가장자리를 잘라 가위를 사용합니다. </li></ol></li><li> PMMA의 전송의 CMP nanomembrane 코팅. <ol><li> 와 KI의 / H 2 O (1:10 M / M) I 2 / KI / H 2 O 솔루션 (: 4 : 40m / M / M 1)을 준비합니다. </li><li> 요리를 결정화 150 ㎖의 I 2 / KI H 2 O 솔루션을 입력하고 요리를 결정화 100 ㎖에서 KI / H 2 O 솔루션을 입력합니다. 나는 2 / KI / H 2 O 솔루션의 상단에, 용액에 접촉 운모로, 운모 기판 상에 PMMA 코팅 된 CMP 골드를 넣습니다. 이 가라 앉지 않도록주의.적어도 5 분을 기다립니다. </li><li> 나는 2 / KI / H 2 용액에 접촉 운모와 KI / H 2 O 솔루션의 상단에 O 솔루션에서 PMMA 코팅 된 CMP 금 운모 기판을 넣습니다. 이 가라 앉지 않도록주의. 적어도 5 분을 기다립니다. </li><li> 요리를 결정화 250 ㎖에 증류수를 입력합니다. 운모의 PMMA / CMP / 금 필름을 벗겨. 약간 증류수에, 하나의 가장자리에서 시작, 기판을 침지하여이 작업을 수행합니다. 운모는 물을 가리 키도록 기판을 유지. 참고 :이 절차는 그림 3에 표시됩니다. </li><li> 딥 - 코팅 된 실리콘 웨이퍼에 PMMA / CMP / 금. 그것은 수영 PMMA / CMP / 금 막의 가장자리에 닿을 때까지 웨이퍼 천천히 PMMA / CMP는 / 금에 접근하여이 작업을 수행합니다. 실리콘 웨이퍼는 PMMA / CMP / 금 막과 접촉하면 서서히 실리콘 웨이퍼를 꺼내. </li><li> 실리콘 웨이퍼로부터 PMMA / CMP은 / 금 막을 벗겨. 약간 하나 ED에서 시작, 기판을 침지하여이 작업을 수행GE, 나는 2 / KI / H 2 O 솔루션입니다. 15 분을 기다립니다. </li><li> 금이 완전히 에칭 된 후, 실리콘 웨이퍼를 통해 물 PMMA / CMP 막 옮긴다. 15 분을 기다립니다. </li><li> 세 번 단계를 반복 2.3.7 물과 멤브레인을 씻어. </li><li> 단계 2.3.5에서 설명한 방법을 통해, 목적하는 기판, 예를 들면, 현미경 슬라이드 또는 금 - 코팅 된 실리콘 웨이퍼를 세척 PMMA / CMP 막 옮긴다. 적어도 2 시간 동안 공기의 PMMA / CMP 기판 건조하자. </li></ol></li><li> PMMA의 해산. <ol><li> 아세톤에 PMMA / CMP 기판을 넣습니다. 30 분을 기다립니다. 기판을 꺼내 아세톤으로 씻어. </li><li> 단계를 반복 2.4.1 세 번. </li><li> 적어도 2 시간 동안 CMP 기판 건조하자. </li></ol></li></ol>

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CMP-필름의 합성을위한 촉매의 용액을 신선한이어야한다. 깨진 촉매 (즉, 산화) 솔루션의 푸른 색채로 표시됩니다. 신선한 액은 무색이다. 중요한 점은 스핀 코팅 후 PMMA 운모 기판의 가장자리를 절단하는 것이다. 또한, 기판에 결함이 절단 예정 즉, 각각의 스폿은 PMMA 인해 누락 된 금 층, 운모 기판과 접촉 할 수 있었다. 그렇지 금층 용이 운모 기판으로부터 박리 될 수 없다. 분리는 하나의 에지 또는 코너에서 시작 후 또한, 운모 기판으로부터 금층의 박리 관한 금 층이 완전히 분리 될 때까지, 하나는이 가장자리에서 계속한다. 요오드 용액 ​​또는 물에 요오드 용액으로부터 수조에서 실리콘 웨이퍼, 예와 PMMA / CMP 막의 전송하는 동안, 그 중요멤브레인은 건조하지 않습니다. 막이 실리콘 웨이퍼 상에 건조 후에는 다시 분리하는 것은 거의 불가능하다. <p c...

초박형 고분자 멤브레인의 준비는 가스 분리 및 나노 여과 응용 분야에 매우 중요합니다. 합성의 과제는 (a) 멤브레인 두께와 균질성의 제어 및 (b) 이러한 깨지기 쉬운 멤브레인의 전달로 표시됩니다. 도전 과제 (a)를 극복하기 위해, 분자 층별 합성(layer-by-layer synthesis)1은 고체-액체 계면에서 성장한 박막의 두께와 균질성을 제어하는 데 큰 가능성을 보여주었습니다. 2,3 층의 수를 선형적으로 제어하면 필름 두께가 제어됩니다. l-b-l 방법은 표면 실장 금속 유기 프레임워크(SURMOP)를 제조하는 데 성공적으로 사용되었으며,4-7 또한 고분자 사슬의 l-b-l 반응을 통한 얇은 고분자 필름의 합성이 입증되었습니다. 8 문제 (b)는 이러한 초박막의 취급에 관한 것입니다. 나노멤브레인의 파열이나 주름을 방지하기 위해 코팅의 희생 지지대가 큰 가능성을 보여주었습니다. 9 개
여기에서는 원하는 두께와 조성으로 분자 빌딩 블록을 순차적으로 추가하여 공액 미세다공성 폴리머(CMP)10-13 박막을 합성하기 위한 자세한 프로토콜을 제시합니다. 독립형 CMP 나노멤브레인의 준비는 희생 지지체를 사용하여 이루어집니다. CMP 나노멤브레인을 처리하여 다른 지지체로 전달하기 위해 희생 코팅으로 멤브레인을 보호하고 액체 공기 계면으로 상부유한 후 딥 코팅을 사용하여 후속 전달하기 위한 간단한 프로토콜을 설명합니다.

<table><tbody><tr><td>아세톤</td><td>VWR BDH Prolabo</td><td>20066.330</td><td>AnalR NORMAPUR</td></tr><tr><td>요오드화 칼륨</td><td>VWR BDH Prolabo</td><td>26846.292</td><td>AnalR NORMAPUR</td></tr><tr><td>에틸 아세테이트</td><td>VWR BDH Prolabo</td><td>23882.321</td><td>AnalR NORMAPUR</td></tr><tr><td>테트라하이드로푸란 (THF)</td><td>VWR BDH Prolabo</td><td>28559.320</td><td>HiPerSolv CHROMANORM</td></tr><tr><td>THF 워터프리</td><td>Merck Millipore</td><td>1.08107.1001</td><td>SeccoSolv</td></tr><tr><td>요오드</td><td>시그마-알드리치</td><td>20,777-2</td><td></td></tr><tr><td>테트라키스(아세토니트릴) 구리(I) 헥사플루오로포스페이</td>트 <td>시그마-알드리치</td><td>346276-5G</td><td></td></tr><tr><td>폴리(메틸메타크릴레이트) 996 kDa(PMMA)</td><td>시그마-알드리치</td><td>182265-25G</td><td></td></tr><tr><td>1.1.1.1 메탄테트라일테트라키스(4-아지도벤젠) (TPM-아지드)</td><td></td><td></td><td>AK Prof. Br&auml;se 제공. 칼스루에 공과 대학, 유기 화학 연구소. 9에 따라 합성됩니다.</td></tr><tr><td>1.1.1.1 메탄테트라일테트라키스(4-에티닐렌벤젠) (TPM-알킨)</td><td></td><td></td> <td>제공: AK Prof. Br&auml;se. 유기 화학 연구소, 칼스루에 공과 대학. 9에 따라 합성됩니다.</td></tr><tr><td>11-thioacetyl-undecaneacid propargylamide</td><td></td><td></td><td>AK Prof. Br&auml;se. 유기 화학 연구소, Karlsruhe Institute of Technology에 의해 제공됩니다. 8에 따라 합성됩니다.</td></tr><tr><td>금/타이탄 코팅 실리슘 웨이퍼</td><td>Georg Albert PVD, 76857 Silz, 독일</td><td></td><td></td></tr><tr><td>금 코팅 운모</td><td>Georg Albert PVD, 76857 Silz, 독일</td><td></td><td></td></tr></tbody></table>

레이어로 레이어 합성 및 독립 구조로 서있는 공역 미세 다공성 고분자 nanomembranes의 전송

Layer-by-layer Synthesis and Transfer of Freestanding Conjugated Microporous Polymer Nanomembranes

CMP와 같은 큰 표면적 재료는 그들의 탁월한 열적 및 화학적 안정성과 결합 작용기의 혼입이 높은 변동 및 낮은 밀도로, 최근 관심을 끌고있다 성장. 예컨대 스핀 코팅과 같은 통상의 기술 적용이 가능하지 않기 때문에 그러나, 그들의 자연 불용성은 처리 문제를 일으킨다. 특히 CMP와 같은 박막의 처리가 바람직하다 막 애플리케이션을 위해, 프로세싱 문제는 상업적인 응용을 방해했다. 여기에서 우리는 분자 층별로 레이어 (LBL) 합성을 통해 기능화 기판에 CMP 박막의 계면 합성을 설명합니다. 이 프로세스는 원하는 두께 및 조성물 심지어 원하는 조성 구배를 가진 필름을 제조 할 수있다. 희생 지지체의 사용은 지지체의 용해 후 의해 자립 막 제조를 허용합성. 이러한 초박형 자립 막을 처리하기 위해 희생 코팅과 보호 nanomembranes의 파열을 방지하기 위해, 큰 가능성을 보여 주었다. 원하는 기판 nanomembranes를 전송하려면, 도포 막은 공기 - 액체 계면에서 upfloated 후 침지 코팅을 통해 전달된다.

멤브레인 (16)도 4는 금 웨이퍼에 전사 CMP-막으로부터 IRRA - 스펙트럼을 도시 적외선 반사 흡수 분광기 (IRRAS).에 의해 특징 지어진다. 방향족 백본의 진동에서 전형적인 밴드 1,605cm -1, 1,515cm -1과 1,412cm -1에 있습니다. 미 반응 아 지드 및 알킨 그룹 2,125cm -1 1,227cm -1 특성 밴드가 관찰 될 수있다.도 5는 주사 전자 현미경 (SEM) 이미지를 보여준다. 독립 구조로 서있는 멤브레인은 명확하게 볼 수 있습니다. <img alt="그림 1" src="/files/ftp_upload/53324/53324fig1highres.jpg" width=...

이 논문에서는 희생 기판에서 공액 미세다공성 고분자(CMP)의 계면 합성과 독립형 CMP 나노멤브레인 준비를 위한 기판의 용해에 대해 설명합니다. 또한 깨지기 쉬운 나노막이 다른 기질로 전달될 수 있는 방법을 설명합니다.

레이어로 레이어 합성 및 독립 구조로 서있는 공역 미세 다공성 고분자 Nanomembranes의 전송

CMP as large surface area materials have attracted growing interest recently, due to their high variability in the incorporation of functional groups in ...

이 실험 과정의 전체적인 목표는 공액 미세다공성 고분자의 자립형 나노 막을 얻는 것입니다. 이 방법은 일반적으로 불용성인 재료의 박막 및 자립형 막을 제조하는 방법과 같은 공액 미세다공성 고분자 분야의 핵심 질문에 답하는 데 도움이 될 수 있습니다. 이 기술의 주요 장점은 기판 위에서 합성 단계를 수행함으로써 초저두께의 균일하고 균질한 막을 제작하고 전사할 수 있다는 점입니다.이 방법은 분리막 분리에 적용할 수 있을 뿐만 아니라, 유기 전자 소자나 불균일 촉매와 같은 다른 응용 분야에도 유용할 수 있습니다. 본 절차의 시연은 우리 실험실의 기술자를 교육하는 데 도움이 될 것입니다. CMP 제작을 위한 장치를 준비하십시오.500 milliliter 단구 둥근 바닥 플라스크를 사용하여 tetra nitrofuran 또는 THF 300 milliliters를 첨가합니다. alpine으로 종단된 자기 조립 단분자막(self-assembled monolayer 또는 SAM)이 코팅된 준비된 기판을 시료실에 넣고, 기판이 수직으로 세워질 수 있도록 시료 홀더를 사용합니다. 환류 냉각기 상단의 접합부를 통해 장치를 schleck line에 연결합니다.불활성 가스로 장치를 3회 진공 배기 및 환기합니다. 그다음 시료실 하단의 배출구를 통해 시료실 내의 THF를 배출하고 배출구를 닫습니다. 이어서 세푿이 달린 스크류 캡을 통해 준비된 TPM azi 용액 1 mL와 구리 촉매 용액 0.5 mL를 시료실에 첨가합니다.중공 바늘이 달린 주사기를 사용하여 플랭크 플라스크에서 반응 장치로 용액을 순차적으로 옮깁니다. 약 30분 동안 기다린 후, 시료실 바닥의 배출구를 통해 반응 용액을 배출합니다. 배출구를 닫고 응축된 THF를 수집하여 시료를 세척하는 데 사용합니다.약 30분 더 기다린 후, 시료실 바닥의 배출구를 통해 세척액을 내보내고 배출구를 닫습니다. 세프텀이 있는 스크류 캡을 통해 준비된 TPM Aine 용액 1 mL와 구리 촉매 용액 0.5 mL를 시료실에 넣습니다. 그 후 중공 바늘이 달린 주사기를 사용하여 용액을 플라스크에서 반응 장치로 순차적으로 옮깁니다.약 30분 동안 기다린 후, 시료실 바닥의 배출구를 통해 반응 용액을 배출하십시오. 배출구를 닫고 응축된 THF를 수집하여 시료를 헹구는 데 사용하십시오. 추가로 30분 동안 기다린 후, 원하는 층수에 도달할 때까지 순차적 첨가 과정을 반복하십시오. 한 층의 두께는 약 1 nm입니다.마지막 단계로, CMP 코팅된 마이카 기판을 꺼냅니다. THF와 에탄올로 헹군 다음, 질소 기류 하에서 건조시킵니다. 스핀 코더를 설정하여 0에서 4,000 RPM까지 가속 시간 10초, 유지 시간 40초, 4,000에서 0 RPM까지 감속 시간 10초로 맞춥니다.CMP 코팅된 MICA 기판을 스핀 코더 위에 놓고, 웨이퍼가 완전히 덮일 때까지 A-P-M-M-A 용액을 도포합니다. 스핀 코더를 작동시키고, 가위로 코팅된 마이카 기판의 각 가장자리에서 1mm를 잘라내어 가장자리를 정리합니다. 그다음, 150mL 결정 접시에 요오드화 칼륨 용액을 채우고, 100mL 결정 접시에 요오드화 칼륨 용액을 채웁니다.PMMA가 코팅된 CMP 금을 마이카 기판 위에 놓고, 마이카 면이 요오드화 칼륨 용액에 닿도록 용액 위에 올립니다. 이때 가라앉지 않도록 주의하십시오. 최소 5분 동안 기다린 후, PMMA가 코팅된 CMP 금 마이카 기판을 요오드화 칼륨 용액에서 꺼내 마이카 면이 용액에 닿도록 칼륨 요오드화물 용액 위에 옮깁니다.다시 한번, 필름이 가라앉지 않도록 주의하며 최소 5분 동안 기다립니다. 다음으로, 250 milliliter 결정화 접시에 증류수를 채웁니다. 기판의 한쪽 가장자리부터 증류수에 살짝 담가 MICA에서 P-M-M-A-C-M-P 금 박막을 벗겨냅니다.MICA가 물을 향하도록 기판을 잡고, 실리콘 웨이퍼를 유동하는 P-M-M-A-C-M-P gold 막에 가까이 가져가 P-M-M-A-C-M-P gold를 딥 코팅합니다. 웨이퍼가 막의 가장자리에 닿을 때까지 천천히 접근시킨 후, 실리콘 웨이퍼를 천천히 들어 올립니다. 실리콘 웨이퍼가 P-M-M-A-C-M-P gold 막과 접촉하면, 기판의 한쪽 가장자리부터 요오드화 칼륨 용액에 살짝 담그고 gold가 완전히 식각될 때까지 15분 동안 기다려 실리콘 웨이퍼에서 P-M-M-A-C-M-P gold 박막을 벗겨냅니다.실리콘 웨이퍼를 통해 P-M-M-A-C-M-P 막을 물로 전사하고 15분 동안 더 기다립니다. 이 단계를 세 번 반복하여 막을 물로 세척합니다. 그런 다음 세척된 P-M-M-A-C-M-P 막을 금 코팅된 실리콘 웨이퍼로 전사합니다.이전과 마찬가지로, P-M-M-A-C-M-P 기판을 최소 2시간 동안 건조하고 공기 중에 둡니다. PMMA를 용해시키기 위해 P-M-M-A-C-M-P 기판을 아세톤에 넣고 30분 동안 기다립니다.기판을 꺼내 아세톤으로 헹굽니다. 이 단계를 세 번 반복한 후, CMP 기판을 최소 2시간 동안 건조시킵니다. 막의 특성은 적외선 반사 흡수 분광법 또는 ir로 분석합니다.여기에 표시된 RAS는 금 웨이퍼로 전사된 CMP 막의 IRRA 스펙트럼입니다. 방향족 주쇄의 진동으로 인한 전형적인 밴드는 1,605, 1,515 및 1,412 inverse centimeters에서 나타납니다. 반응하지 않고 남아있는 아지드 또는 알킨 그룹의 경우, 2,125 및 1,227 inverse centimeters에서 특징적인 밴드가 관찰될 수 있습니다.여기에 주사 전자 현미경 이미지가 제시되어 있습니다. 자립형 막이 명확하게 보입니다. 이 전사 기술을 숙달하면, 적절하게 수행했을 때 1시간 이내에 완료할 수 있습니다. 이 절차를 시도할 때, 스핀 코팅 후 마이크로 기판의 가장자리를 절단해야 한다는 점을 기억하는 것이 중요합니다.나노 막의 개발 이후, 원하는 응용 분야에 맞게 화학적 목적을 최적화하기 위해 합성 변형이나 광 패턴화와 같은 다른 방법들을 형성할 수 있습니다. 이 기술은 집적 마이크로 다공성 폴리머 분야의 연구자들이 유망한 벌크 특성을 실제 소자로 전이시키는 데 도움을 줄 수 있습니다.

layer-layer-synthesis-transfer-freestanding-conjugated-microporous

Research

연구

JoVE Journal

Chemistry

화학

여기 핫 엠보싱 및 열 실링을 사용하여 열가 소성 microfluidic 칩을를 조작하는 방법을 보여줍니다. 그럼 우리가 합성 고체 위상 열을 형성 밀봉된 칩을 통해 현장 조명 감독 접목 표면 중합에 사용하는 방법을 보여줍니다.

열가 소성 Microfluidic 채널 제작

이 연구의 목적은 계층 별 nanocellulose 원 섬유의 조립 및 묽은 수성 현탁액을 조립 절연 리그닌을 사용하여 합성 식물 세포벽 조직을 형성하는 것이었다. 수정 진동자 마이크로 밸런스 및 원자 힘 현미경의 표면 측정 기술은 중합체 - 고분자 나노 복합 재료의 형성을 모니터링하는 데 사용 하였다.

Nanocellulose, 리그닌의 날조 된 자립형 필름, 및 합성 폴리 양이온 : Biomimicking 나무를 향하여

템플릿 무료 기판에 거시적 인 나노 입자 - 리간드 단층 영화를 기능화 및 자기 조립, 단순 강력하고 확장 성있는 기술은이 프로토콜에 설명되어 있습니다.

템플릿이없는 기판에 육안 나노 입자 - 리간드 단층 필름을 기능화 및 자기 조립 기술

우리는 대면적(최대 직경 13cm) 및 초박형(8nm) 고분자 필름의 제조 방법을 설명합니다. 기판에서 필름을 박리하기 위해 희생 중간층을 사용하는 대신, 우리는 임의로 넓은 영역에 적합한 자체 제한 표면 처리를 사용합니다.

대 면적의 제작은 초박막 고분자 필름을 무료 서

프로시저를 연속 화학 수정을 사용 하 여 폴리스 티 렌 투입 multiwalled 탄소 나노튜브의 합성 단계를 선택적으로 sidewalls에 폴리머 체인 소개와 그들의 자기 조립을 통해 이방성 patchiness입니다 제시.

자기 집합에 있도록 폴리스 티 렌과 이방성 Patchiness Multiwalled 탄소 나노튜브를 접목

나노미터 두께 브러쉬 또는 미크론 두께의 패턴된 증 착, 가교 된 영화는 azlactone 블록 공동 폴리머의 표면 제작 방법 보고 됩니다. 중요 한 실험 단계, 대표 결과 및 각 메서드의 제한 사항을 설명 합니다. 이러한 메서드는 맞춤형 물리적 기능과 가변 표면 반응성 기능 인터페이스를 만들기 위한 유용 합니다.

브러쉬 모양의 반응 표면 날조 및 Azlactone 기능성된 블록 공동 고분자의 가교 된 영화

간단 하 고, 재현성, 다양 한 다공성의 수정 되지 않은 넓은 범위에 intergrown, 다 결정 금속-유기 프레임 워크 세포 막의 합성에 대 한 접근 및 비 다공성 제공 됩니다.

Ultrathin 높은 성능 금속-유기 프레임 워크 막의 전기 이동 화

우리는 3D 인쇄 드레인 챔버를 사용하여 다공성 지지 기판에 블록 공중합체 박막을 고도로 제어하고 주름이없는 이송절차를 제시합니다. 드레인 챔버 설계는 일반적으로 재현 할 수없는 방식으로 손으로 수행 다공성 기판에 거대 분자 필름의 전송과 관련된 모든 절차와 일반적인 관련이있다.

결함이 최소화된 다공성 기판에 폴리머 필름 을 이송하는 절차

자체 조립된 금속-유기 프레임워크 단층의 합성 및 특성화를 위한 프로토콜은 고분자 접목, 금속-유기 프레임워크(MOF) 결정을 사용하여 제공됩니다. 이 절차는 고분자 접목된 MOF 입자가 주사 전자 현미경 이미징으로 입증된 바와 같이 잘 형성된 독립적인 단층 구조를 생성하여 공기-물 계면에서 자체 조립될 수 있음을 보여줍니다.

Synthesis and Characterization of Self-Assembled Metal-Organic Framework Monolayers Using Polymer-coated Particles(고분자 코팅 입자를 사용한 자체 조립된 금속-유기 프레임워크 단층의 합성 및 특성 분석)

공 초점 현미경은 매력적인 현탁액을위한 모델 시스템으로 공부하는 이미지 정지 흐르는 콜로이드 폴리머의 혼합물에 사용된다. 이미지 분석 알고리즘은 기하 구속에 의한 변화를 측정 콜로이드 입자의 구조 및 동적 메트릭을 계산하는 데 사용된다.

밀폐 무부하 흐르는 콜로이드 중합체 혼합물의 공 촛점 이미징

학습하세요 공유결합 미세다공성 고분자(CMP) 나노막의 합성 및 전이 방법을 희생 기판을 이용한 계면 합성법으로. 균일한 두께의 독립 구조 막을 제작하여 막 분리 및 유기전자소자 연구에 활용할 수 있습니다.

레이어로 레이어 합성 및 독립 구조로 서있는 공역 미세 다공성 고분자 Nanomembranes의 전송

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