Name: 희생 나노 입자의 사용은 E-빔 리소그래피에 의해 제조 연락 홀에서 샷 노이즈의 영향을 제거하는 방법 (동영상) | JoVE Journal
Uploaded: 2017-02-12T13:00:00.000+00:00
Duration: 7 min 47 s
Description: 학습하세요 나노 입자와 레지스트 리플로우 기술을 사용하여 리소그래피 패턴에서 샷 노이즈 효과를 제거하는 방법을. 이 기술은 첨단 반도체 장치 제조에서 20나노미터 이하 패턴 생성을 가능하게 하며 기존 반도체 공정에 쉽게 통합될 수 있습니다.

ai_agent_IP

ai_agent

maintenance

instantTrialDurationMinutes

isBiopharma

enableNewMyJoveSectionDesign

educationFeatures

seoMetaApi

ai_copilot_institution_blacklist

ai_chat_institution_blacklist

freeAccessWindow

ssoRoleCapture

scheduledMaintenanceBanner

joveLabsFeatures

disable_autoplay_for_bots

extended_trial_duration

5 minutes

인텔은 허가 번호 414305를 통해이 사업에 자금을 지원하고, 오레곤 나노 기술 및 마이크로 공학 이니셔티브 (ONAMI)는 매칭 펀드를 제공했다. 우리는 기꺼이이 작업의 모든 단계에서 박사 제임스 블랙웰의 지원과 조언을 인정합니다. 특별 감사는 입자의 위치 통계를 분석 드류 Beasau 첼시 베네딕토로 이동합니다. 우리는 전자 빔 리소그래피 그의 도움을, 오레곤, 유진의 대학에서, 원고 박사 커트 Langworthy주의 깊게 읽기 교수 회관 감사, OR.

1. 유도체 화 및 실리콘 웨이퍼의 표면을 특성화 <ol><li> 미국의 라디오 공사 (RCA) 청소 솔루션 SC1 및 SC2를 사용하여 웨이퍼의 표면을 청소합니다. </li><li> 용적 다음과 같은 화학 물질을 혼합하여 SC1 및 SC2를 준비합니다 : SC1 : H 2 O 2 : NH 4 OH : H 2 O = 1 : 1 : 5 V / V 및 SC2 : H 2 O 2 : 염산 : H 2 O = 1 : 1 : 5 v / V를. <ol><li> 70 ° C에서 10 분 동안 SC1의 웨이퍼를 담가하고 탈 이온수 세척을 수행합니다. </li><li> (세척 한 다음 70 ℃에서 10 분) SC2에 대해 유사한 프로토콜을 따르십시오. 주 : 세정 절차 및 유기 이온 성 불순물을 제거하고, 실리콘 웨이퍼의 실리콘 산화막의 표면에 실라 놀기를 생성한다. </li></ol></li><li> AATMS으로 실리콘 웨이퍼의 표면을 유도체 화 <ol><li> 0.05 M AATMS에서 청소 실리콘 웨이퍼를 품어 (D에서 제조20 분 동안 80 ℃에서 스피 톨루엔). 질소 기류하에 5 5 분 동안 순수한 톨루엔 실온에서 100 W의 초음파 처리기에서 분 건조 용 초음파 처리. </li></ol></li><li> 유도 된 실리콘 웨이퍼의 표면을 특성화 <ol><li> 고니 오 미터 및 ImageJ에 소프트웨어 (25)를 사용하여 접촉각을 측정한다. </li><li> 엘 립소 미터를 사용하여 필름의 두께를 결정한다 (HE-Ne 레이저 광원, 70 °의 λ 632.8 nm의 고정 입사각 =) 25. </li><li> X 선 광전자 분광법 (XPS) (25)에 의해 표면 원소 조성 추정된다. </li></ol></li></ol> 2. 전자 빔 패터닝 <ol><li> 스핀 코팅, 포토 레지스트 (60 초 동안 4000 rpm에서 AATMS- 유도 웨이퍼 상에 2 % 폴리 (아니 솔 중의 메틸 메타 크릴 레이트 (PMMA)). </li><li> (120)의 포토 레지스트 막을 건조를 180 ℃에서 막을 프리 베이크. </li><li> 레지스트 막 두께를 측정엘 립소 미터를 사용. 헬륨 - 네 레이저 광원, λ = 632.8 nm의, 70 °의 입사각에 고정되어 있는지 확인합니다. 실리콘 웨이퍼 등의 반 사면을 사용하여 검출기 신호를 최대화하기 위하여 시료 스테이지 최적화. 레지스트 막 두께를 측정하기 위해 연결된 PC에서 엘 립소 미터의 측정 프로그램 (GEMP)를 사용한다; 이 약 100nm해야합니다. </li><li> E-빔 노출 : <ol><li> 전자빔 노광 장치에 고진공 챔버로 웨이퍼를 이동. </li><li> 전자빔 (30 kV의 가속 전압 (37)는 pA 빔 전류)가 10 ㎛의 개구를 통과하고, 24 μC / cm 3 투여 량을 제공하는 사용 포커 도트 홀 패턴을 만든다. </li><li> 원하는 홀 직경 (80 ㎚) 및 피치 (200 ㎚)의 포커 도트 형 구멍 패턴을 생성하기 위해 필요에 따라 패턴 피치와 투여 량을 조정합니다. </li><li> 전자빔 챔버로부터 웨이퍼를 제거한다. </li></ol></li><li> 리소그래피 패턴을 개발 : <ol><li> 시작70의 메틸 이소 부틸 케톤 / 이소 프로필 알코올 용액 (: 3 (V V) MIBK / IPA, 1) 패턴의 개발. </li><li> 30 초 동안 IPA에 집중하여 더 개발하기 위해 계속합니다. 30 초 동안 탈 이온수 세척하여 개발을 완료합니다. 질소 기류하에 상기 웨이퍼를 건조. </li></ol></li></ol> E-빔 패턴 홀에 GNPs 3. 증착 참고 : 패턴 구멍에 GNPs의 증착은 두 가지 방법을 사용한다. <ol><li> 한나라당 솔루션의 프리 패터닝 된 웨이퍼 (방법 1)을 빠져. <ol><li> 한나라당의 크기 및 구멍의 직경에 따라 24 ~ 48 시간에 대한 GNP 현탁액 매체 샘플을 떠난다. 7.0 × 10 (11) NP에 / ㎖를 포함하는 20 나노, 구연산 덮인 한나라당 서스펜션을 사용합니다. 참고 : 하나는 10 ~ 100 nm의에서 한나라당의 크기와 5.7에서 농도 범위를 사용할 수있다 × 10 12-5.7 × 10 테드 펠라에 의해 제공되는 9 NP에 / mL로. 증착 밀도 따르는 유의D 및 t는 나노 입자 및 증착 시간의 확산 계수이다 확산 법칙 ̴ (DT)의 1/2은 각각 (참고 20,도 2c에 논의 된 바와 같이, 즉,보다 작은 입자는, 증착에 짧은 시간이 걸릴). </li></ol></li><li> 패턴 웨이퍼에 스프레이 예금 GNPs (방법 2) <ol><li> 증발시켜 GNPs을 증착 수평 배치 된 패터닝 된 기판 상 GNPs의 용액을 스프레이. 분무가 기판 표면에 수직으로 향하도록 휴대용 분무기 (방법 2)의 방향. </li><li> 전체 기판 표면을 습윤 현탁 용액의 충분한 양을 살포. 참고 : 큰 구멍에 다수의 나노 입자를 강제하지 않도록 10 배에서 한나라당 서스펜션을 희석 할 필요가있다. </li><li> 10 분 동안 증발시킨 제어를 생성하기 위해 30 ~ 35 ℃로 유지 된 핫 플레이트 상에 시료를 인큐베이션. </li></ol></li><li> 어느 방법에 의해 증착 (후1 또는 방법 2), 온화하게 초음파 처리 (100 W)을 탈 이온수에 샘플을 50 초 동안 질소 기류에서 건조. </li></ol> 4. 주사 전자 현미경 영상 참고 : 기존의 하향식 및 단면 SEM 영상을 관련 연구의 두 가지 유형. <ol><li> 하향식 SEM 이미지를 들어, 포토 레지스트 막에 대한 손상을 방지하기 위해 300 ~ μA의 전류에서 5 kV의 가속 전압 전자 빔을 사용한다. 주의 : 최저 전압 및 전류를 설정하면, 포토 레지스트의 사슬 절단 반응을 줄이기 위해 필요하다. 이러한 사슬 절단 반응 차례로 후술 레지스트 리플 로우 공정에 대한 동작 온도에 영향을 고분자의 유리 전이 온도를 감소시킨다. </li><li> 단면 영상 : <ol><li> 스퍼터 코팅 두께의 금막 10 nm의 PMMA 포토 레지스트 위에 이온빔의 손상을 방지 할 수있다. 30 kV의 93에서 운영하는 집중 조지아 이온 빔을 사용하여펜실바니아 구멍을 잘라. 정상적인 수평 위치에서 웨이퍼를 기울여 단면 SEM 이미지를 얻습니다. </li></ol></li></ol> 패턴 구멍에 GNPs 주위에 PMMA 포토 레지스트 5. 리플 로우 <ol><li> 미리 결정된 유리 전이 온도 이하로 3 분 동안 T 리플 로우 (100 ℃)에서 핫 플레이트상에서 패터닝 된 기판을 가열하고, T의 g (110 ° C), 950,000g / 몰 PMMA의; 폴리머에 대한 리플 로우의 비율은 1.7 ± 0.1 nm의 / s로했다. 주의 : 매우 빠르고 리플은 선도 이전 탓 전자선에 노출시 중합체 주쇄의 절단에, 주 사형 전자 현미경 (SEM)으로 촬영 중에 E 빔에 노출되었던 패턴 영역에 대해 발생한 T g의 감소. 이러한 관찰은 X 선 방사선에 노출을 감소 T 주목 Keymeulen 동료로부터의 연구에 의해지지된다PMMA (26)의 g. </li></ol> 6. 건식 및 습식 에칭 <ol><li> 리플 로우 후 PMMA의 얇은 막으로 덮여 GNPs을 노출하는 산소 플라즈마에 충분한 기간 (55들)에 대한 드라이 에칭. 조심 타원 또는 얇은 막 두께 모니터를 사용하여 시간의 함수로서 PMMA 필름 에칭 속도를 모니터링한다. 참고 : 너무 오래 에칭하는 것은 완전히 PMMA 필름을 제거 할 동안 너무 짧은 에칭 기간은 GNPs을 노출하지 않을 수 있습니다. 950 kDa의 PMMA를 들어, 에칭 속도, 에칭 시간은 55 (S)을 필요 1.5 나노 미터 / 초였다. </li><li> 요오드 결정 (I 2) 1.0 g, 요오드화 칼륨 4.0 g (KI)을 10 분 동안 40㎖의 탈 이온수를 함유하는 요오드 용액을 이용하여, 리플 로우 이후의 컨택트 홀 저부에 습식 에칭 GNPs. 주 : 요오드화 칼륨 용액에 요오드의 용해도를 향상시키고, 금, 에칭을 용이하게한다. 요오드와 금의 반응 (2AU + I 2 → 2 AUI)의 금을 생산실온에서 수용액에 약간 가용성 인 요오드화. </li></ol> 7. 입자 변위, 밀도 및 채우기 분수의 계산 <ol><li> 구멍 센터와 GNP의 변위를 찾기 : <ol><li> 한편으로 이러한 라인들의 교차에 설치 홀 중심 구멍에 각각의 행과 열을 통해 수평 및 수직 최적 직선을 그릴 (도 2A 및 2B). 계산에 적어도 500 홀을 포함합니다. </li><li> 수동 나노 홀 (즉, 변위)이 증착되었다 (도 2b)의 중심에 각각 나노 입자의 위치, (R)을 결정한다. </li></ol></li><li> 표준 스프레드 시트 프로그램을 사용하여 변위 히스토그램 대 입자 수를 결정합니다. </li><li> 입자 밀도의 계산 : ρ = N (입자 수) / 단위 면적 (㎛의 2) <ol> 먼저, 고정 폭 (R 구멍의 반경 ≈R / 10)과 링의 환형 영역을 결정하는 두 반경 (R 1, R 2) (R)의 변위에 (= (R (1)에 의해 경계 지어 + R (2)) / 2); <img alt="식 (2)" src="/files/ftp_upload/54551/eq2.jpg"> . </ol></li><li> 위의 단계 7.2 구성된 히스토그램으로부터 영역에서 입자의 개수 N을 합계. </li><li> R의 함수 R = R, 정공 반경 종료 10와 동일한 절차를 생성하는 과정을 반복한다. </li></ol><li> 비선형 최소 제곱 방법 (도 2a, 인셋) (20)를 사용하여 가우시안 곡선으로 변위 데이타 대 입자 밀도를 장착한다. 증착 및 피팅 불확실성에 대한 변위 (σ 증착)의 표준 편차의 압축을 풉니 다. </li><li> 위의 반복도 2c에 도시 된 SEM 이미지를 사용하여 포토 레지스트의 리플 로우 후의 SEM 패턴 절차. 주 : 리플 구멍 사라지게 한 후, 구멍 중심에 대한 최적 값을 결정하기 GNP 위치에서 최적의 수평 및 수직 선을 그릴. 단계 7.1에서와 같이 입자 변위를 계산하고 단계 7.2-7.4에서 묘사 프로토콜 다음 결합 된 σ 전체의 압축을 풉니 다. 참고 : 여기에, 결합 또는 총 인해 증착 및 리플 로우 단계에 GNP의 전체 변위를 의미한다. </li><li> 구멍의 수,도 2b에 채워진 정공의 개수의 비율을 추정하여 충전 비율을 결정한다. </li>

<ol><li>Moore, G. E. <a target="_blank" href="http://ieeexplore.ieee.org/document/4785860/">Cramming more components onto integrated circuits.</a> Electronics. 38 (8), 114(1965).</li>
<li>Moore, G. E. Lithography and the future of Moore's law. <a target="_blank" href="http://proceedings.spiedigitallibrary.org/proceeding.aspx?articleid=995245">SPIE Proc.: Advances in Resist Technology and Processing XII</a>. Allen, R. D. 2438, 2-17 (1995).</li>
<li>Rayleigh, L. On the theory of optical images, with special reference to the microscope. <a target="_blank" href="http://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1111/j.1365-2818.1903.tb04831.x/abstract">The London, Edinburgh, and Dublin Philosophical Magazine and J. Sci</a>. 42 (255), 167-195 (1896).</li>
<li>Levenson, M. D., Viswanathan, N. S., Simpson, R. A. <a target="_blank" href="http://ieeexplore.ieee.org/document/1482534/">Improving resolution in photolithography with a phase-shifting mask.</a> IEEE Trans. Electron Devices. 29 (12), 1828-1836 (1982).</li>
<li>French, R. H., Tran, H. V. <a target="_blank" href="http://www.annualreviews.org/doi/abs/10.1146/annurev-matsci-082908-145350?journalCode=matsci">Immersion Lithography: Photomask and Wafer-Level Materials.</a> Annu. Rev. Mater. Res. 39 (1), 93-126 (2009).</li>
<li>Borodovsky, Y. Complementary Lithography at Insertion and Beyond. Complementary Lithography - Stochastics Suppression and EUV, Electronics, Proc. Semicon. West, June 12, San Franscisco, , (2012).</li>
<li>Reiser, A. <a target="_blank" href="http://scholar.google.com/scholar?hl=en&safe=off&q=author%3aReiser%2C+A+%22Photoreactive+Polymers%3A+the+Science+and+Technology+of+Resists%22">Photoreactive Polymers: the Science and Technology of Resists</a>. , John Wiley & Sons. (1989).</li>
<li>Brunner, T. A. <a target="_blank" href="https://www.researchgate.net/publication/228805168_Why_optical_lithography_will_live_forever">Why optical lithography will live forever.</a> J. of Vac. Sci. & Technol. B: Microelectronics and Nanometer Structures. 21 (6), 2632-2637 (2003).</li>
<li>Tran, H., Jackson, E., Eldo, J., Kanjolia, R., Rananavare, S. B. Photochemical reactivity of bis-carbamate photobase generators. Nanotechnology (IEEE-NANO), 2011 11th IEEE Conference, , 1683-1688 (2011).</li>
<li>Hallett-Tapley, G. L., et al. <a target="_blank" href="http://pubs.rsc.org/en/content/articlelanding/2013/tc/c3tc00874f#!divAbstract">Single component photoacid/photobase generators: potential applications in double patterning photolithography.</a> J. Mater. Chem. C. 1 (15), 2657-2665 (2013).</li>
<li>Krysak, M., De Silva, A., Sha, J., Lee, J. K., Ober, C. K. Molecular glass resists for next-generation lithography. <a target="_blank" href="http://spie.org/Publications/Proceedings/Paper/10.1117/12.656630">Proc. SPIE: Advances in Resist Materials and Processing Technology XXVI</a>. Henderson, C. L. 7273, 72732N(2009).</li>
<li>Li, M., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Bottom-up+assembly+of+large-area+nanowire+resonator+arrays%5BTitle%5D)+AND+%22Nat+Nano%22%5BJournal%5D)">Bottom-up assembly of large-area nanowire resonator arrays.</a> Nat Nano. 3 (2), 88-92 (2008).</li>
<li>Thiruvengadathan, R., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Nanomaterial+processing+using+self-assembly-bottom-up+chemical+and+biological+approaches%5BTitle%5D)+AND+%22Rep.+Prog.+Phys%22%5BJournal%5D)">Nanomaterial processing using self-assembly-bottom-up chemical and biological approaches.</a> Rep. Prog. Phys. 76 (6), 066501(2013).</li>
<li>Tsai, H. Y., et al. Pattern transfer of directed self-assembly (DSA) patterns for CMOS device applications. <a target="_blank" href="http://spie.org/Publications/Proceedings/Paper/10.1117/12.2014259">Proc.SPIE Advanced Etch Technology for Nanopatterning II</a>. Zhang, Y., Oehrlein, G. S., Lin, Q. 8865, 86850L-86850L (2013).</li>
<li>Hawker, C. J., Russell, T. P. <a target="_blank" href="https://www.cambridge.org/core/journals/mrs-bulletin/article/div-classtitleblock-copolymer-lithography-merging-bottom-up-with-top-down-processesdiv/0E73FA79C850810DFA5414CF78A21945">Block Copolymer Lithography: Merging &#34;Bottom-Up&#34; with &#34;Top-Down&#34; Processes.</a> MRS Bulletin. 30 (12), 952-966 (2005).</li>
<li>Lin, Y., et al. <a target="_blank" href="http://www.nature.com/nature/journal/v434/n7029/abs/nature03310.html">Self-directed self-assembly of nanoparticle/copolymer mixtures.</a> Nature. 434 (7029), 55-59 (2005).</li>
<li>Cheng, J. Y., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Simple+and+Versatile+Methods+To+Integrate+Directed+Self-Assembly+with+Optical+Lithography+Using+a+Polarity-Switched+Photoresist%5BTitle%5D)+AND+%22ACS+Nano%22%5BJournal%5D)">Simple and Versatile Methods To Integrate Directed Self-Assembly with Optical Lithography Using a Polarity-Switched Photoresist.</a> ACS Nano. 4 (8), 4815-4823 (2010).</li>
<li>Wong, H. S. P., Bencher, C., Yi, H., Bao, X. Y., Chang, L. W. Block copolymer directed self-assembly enables sublithographic patterning for device fabrication. <a target="_blank" href="http://scholar.google.com/scholar?hl=en&safe=off&q=author%3aWong%2C+HSP+%22Proc.+SPIE%22">Proc. SPIE</a>. Tong, W. . 8323, Alternative Lithographic Technologies IV, (2012).</li>
<li>Chan, J. C., Hannah-Moore, N., Rananavare, S. B. <a target="_blank" href="http://www.mdpi.com/2073-4352/5/1/116">Controlled Deposition of Tin Oxide and Silver Nanoparticles Using Microcontact Printing.</a> Crystals. 5 (1), 116-142 (2015).</li>
<li>Morakinyo, M. K., Rananavare, S. B. <a target="_blank" href="https://www.researchgate.net/publication/268237095_Reducing_the_effects_of_shot_noise_using_nanoparticles">Reducing the effects of shot noise using nanoparticles.</a> J. Mater. Chem. C. 3 (5), 955-959 (2015).</li>
<li>Cui, Y., et al. <a target="_blank" href="http://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/nl049488i">Integration of Colloidal Nanocrystals into Lithographically Patterned Devices.</a> Nano Lett. 4 (6), 1093-1098 (2004).</li>
<li>Huang, H. W., Bhadrachalam, P., Ray, V., Koh, S. J. <a target="_blank" href="http://aip.scitation.org/doi/abs/10.1063/1.2972042">Single-particle placement via self-limiting electrostatic gating.</a> Appl. Phys. Lett. 93 (7), 073110-073113 (2008).</li>
<li>Ma, L. C., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Electrostatic+Funneling+for+Precise+Nanoparticle+Placement%3A+A+Route+to+Wafer-Scale+Integration%5BTitle%5D)+AND+%22Nano+Lett%22%5BJournal%5D)">Electrostatic Funneling for Precise Nanoparticle Placement: A Route to Wafer-Scale Integration.</a> Nano Lett. 7 (2), 439-445 (2007).</li>
<li>Richard Bowen, W., Filippov, A. N., Sharif, A. O., Starov, V. M. <a target="_blank" href="http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0001868699000044">A model of the interaction between a charged particle and a pore in a charged membrane surface.</a> Adv. Colloid Interface Sci. 81 (1), 35-72 (1999).</li>
<li>Morakinyo, M. K., Rananavare, S. B. Positional control over nanoparticle deposition into nanoholes. Nanotechnology (IEEE-NANO), 2011 11th IEEE Conference, , 1677-1682 (2011).</li>
<li>Keymeulen, H. R., et al. <a target="_blank" href="http://aip.scitation.org/doi/abs/10.1063/1.2752548?journalCode=jap">Measurement of the x-ray dose-dependent glass transition temperature of structured polymer films by x-ray diffraction.</a> J. Appl. Phys. 102 (1), 013528(2007).</li>
<li>Feng, B. C. Resist Reflow Method for Making Submicron Patterned Resist Masks. US patent A. , (1977).</li>
<li>You, J. H., et al. <a target="_blank" href="http://iopscience.iop.org/article/10.1143/JJAP.48.096502/meta;jsessionid=3BF2EDB8CC3510EE23383DDA99131A4C.c5.iopscience.cld.iop.org">Position Shift Analysis in Resist Reflow Process for Sub-50 nm Contact Hole.</a> Jpn. J. Appl. Phys. 48 (9), 096502(2009).</li>
<li>Montgomery, P. K., et al. Resist reflow for 193-nm low-K1 lithography contacts. <a target="_blank" href="http://proceedings.spiedigitallibrary.org/proceeding.aspx?articleid=759540">Proc. SPIE Advances in Resist Technology and Processing XX</a>. Fedynyshyn, T. H. 5039, 807-816 (2003).</li>
<li>King, W. P., et al. <a target="_blank" href="http://aip.scitation.org/doi/abs/10.1063/1.1351846">Atomic force microscope cantilevers for combined thermomechanical data writing and reading.</a> Appl. Phys. Lett. 78 (9), 1300-1302 (2001).</li>
<li>Chuo, Y., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Rapid+fabrication+of+nano-structured+quartz+stamps%5BTitle%5D)+AND+%22Nanotechnology%22%5BJournal%5D)">Rapid fabrication of nano-structured quartz stamps.</a> Nanotechnology. 24 (5), 055304(2013).</li>
<li>Moreau, W. M. <a target="_blank" href="http://scholar.google.com/scholar?hl=en&safe=off&q=author%3aMoreau%2C+WM+%22Semiconductor+Lithography%3A+Principles%2C+Practices%2C+and+Materials%22">Semiconductor Lithography: Principles, Practices, and Materials</a>. , Springer Science & Business Media. 419(2012).</li>
<li>Chan, J. C., Tran, H., Pattison, J. W., Rananavare, S. B. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Facile+pyrolytic+synthesis+of+silicon+nanowires%5BTitle%5D)+AND+%22Solid-State+Electron%22%5BJournal%5D)">Facile pyrolytic synthesis of silicon nanowires.</a> Solid-State Electron. 54 (10), 1185-1191 (2010).</li>
<li>Tran, H. A., Rananavare, S. B. Synthesis and characterization of N- and P- doped tin oxide nanowires. (IEEE-NANO), 2011 11th IEEE Conference on Nanotechnology, , (2011).</li>
<li>Tran, H. A., Rananavare, S. B. Ch. 39, Synthesis and Characterization of n- and p-Doped Tin Oxide Nanowires for Gas Sensing Applications. <a target="_blank" href="http://scholar.google.com/scholar?hl=en&safe=off&q=author%3aTran%2C+HA+%22Nanoelectronic+Device+Applications+Handbook+%22">Nanoelectronic Device Applications Handbook </a>. Morris, J. E., Iniewski, K. , CRC Press. (2013).</li>
</ol>

저자는 공개 아무것도 없어.

리소그래피 총 잡음 (SN)는 주어진 나노 영역에 도달하는 광자들 또는 입자들 (N)의 수가 통계적 변동 간단한 결과이다; 이것은 광자 / 입자의 개수의 제곱근에 반비례한다 : <img alt="식 (3)" src="/files/ftp_upload/54551/eq3.jpg"> A와 R은 각각 영역과 노광 영역의 크기, 어디. 예를 들어, 52 mJ의 / ㎠의 노광량에서의 ArF 193 나노 미터 (6.4 EV) 패턴 50 나노 구멍 엑시머 레이저는, 수신 된 광자의 수는 약 1 × 106을 사용하는 경우. 50 keV의 전자빔 소스 50 mJ을 전달 전자 수 / cm 2 SN의 효과가 E-빔 리소그래피 100 배 것이라고 암시 약 128이 될 것이다. 또한, 소정의 영역에 도달하는 광자 / 전자의 수는 패턴의 영역과 직접적으로 감소시킨다....

무어의 법칙 1, 2 (1)에 의해 정량화으로 연산 능력의 기하 급수적 인 성장은, 광학 리소그래피의 진보적 발전의 결과이다. 이 하향식 패터닝 기술은 달성 가능한 해상도, R에서, 공지 롤리 정리 3에 의해 주어진다 : <img alt="식 (1)" src="/files/ftp_upload/54551/eq1.jpg"> 여기서, λ 및 NA는 각각 빛의 파장과 개구 수이다. η 렌즈와 웨이퍼 사이의 매질의 굴절률이 NA = η * sinθ를 참고; 렌즈와 웨이퍼의 중심 사이의 θ = 탄 -1 (d / 2리터)에 직경, D, 렌즈와의 거리 (L). 지난 50 년 동안, 리소그래피 해결책은 (a) 광원의 사용을 통하여 개선 된점차적으로 작은 UV의 파장을 갖는 엑시머 레이저를 포함한 S; (b) 위상 - 시프트 마스크 (4)를 이용한 광학 설계 영리한; 및 (c)보다 높은 NA. 공기 (η = 1)에 노출, NA는 1보다하지만 액체를 도입하여 항상 작 렌즈와 웨이퍼 사이에 물 등 η 5&gt; (1)과, NA함으로써 침지 리소그래피의 해상도를 개선 한 이상 상승 할 수있다. 현재 이후 가능한 20 나노 노드에 대한 경로 및 다층 포토 레지스트 (6), (7)의 복잡한 이중 배 프로세싱을 사용하여 극단적 인 UV 소스 (λ = 13 ㎚) 또는 패터닝 기술을 포함한다. lithogra의 차원 나노 영역 원인 편차 내에 도달하는 광자의 수가 총 잡음 (SN)에 의한 나노 미터 길이 규모 통계적 변동에서 phic 패턴입니다. 이러한 효과는 고 에너지 EUV 광, 전자 빔, 보통 광학 리소그래피 8에 비해 적은 크기의 광자 / 입자의 순서는 필요한 시스템에 노출 더욱 현저하다. 고감도 화학 증폭 (양자 효율&gt; 1) 포토 레지스트는, 노광 nanoregions 9 10 광 반응성 분자의 수의 변화에 의한 화학적 SN을 소개한다. 더 이상 노출을 필요로 낮은 감도 포토 레지스트는 이러한 효과를 억제하지만, 그들은 또한 처리량을 줄일 수 있습니다. 분자 규모로 기여 분자 레지스트 (11)를 사용함으로써 감소 될 수있는 포토 레지스트 용 중합체에 고유 분자 크기 분포로부터 조도 에지 라인. 나노 패터닝이 하향식 처리에 상보적인 접근은 상향식 방법 (12)의 사용이다디 블록 폴리머 (14)의 지시 자기 조립 (DSA)에 특히 의존의 = "외부 참조"&gt; 13. 핵을 지시하는 그러한 구멍 또는 선으로 원하는 패턴 사이의 불균일 한 간격을 생성하는 프로세스의 능력은 도전 남아있다. 분자 요소 (15)의 크기 분포는 16도 규모의 제조 17, 18의 수율을 제한한다. 유사한 문제는 소프트 리소그래피 19 나노 입자의 마이크로 콘택트 인쇄를 제한합니다. 이 논문은 SN / 라인 에지 러프 니스 (LER) (20)의 효과를 감소시키기 위해 정전 관한 자기 조립 클래식 하향식 투영 노광을 결합한 새로운 하이브리드 방식 (도 1)의 시험을 나타낸다. (2- 아미노 에틸) - 긍정적 인 자기 조립 단층 N의 (SAM을)에 아민기를 충전PMMA 막을 하부 -11 아미노 운데 메 톡시 실란 (AATMS)은 현상 후 노출된다. SN-영향 구멍 (25) (24) - PMMA의 음전하 레지스트 막이 정전 부정적인 21 시트르산으로 캡핑 금 나노 입자 (GNPs)를 충전 유입 경로. 다시 흐름 PMMA의 포토 레지스트의 필름 predeposited 나노 입자를 침몰. <img alt="그림 1" src="/files/ftp_upload/54551/54551fig1.jpg"> 도 1 : 전략의 개략도 정확한 크기 NPS를 이용하여 접촉 홀들의 패턴에 대한 총 잡음 및 라인 가장자리 조도의 영향을 제거한다. 여기서, 임계 치수 (CD)는 구멍 직경의 목적이다. 접근법 (1 단계) 산화 서핑 양전하 아민기를 함유 실란 분자의 자기 조립 단분자막 (SAM)을 증착 시작실리콘 웨이퍼의 ACE. 다음으로, 전자빔 리소그래피 패턴 구멍 사용된다 (단계 2 및 3)에 삽입 된 SEM 이미지에서 도시 된 바와 같이, 샷 잡음을 생성 PMMA 포토 레지스트 막, 청색 층이다. 리소그래피는 구멍의 바닥에 아민 그룹을 노출시킨다. 4 단계는 제어 된 크기, 정전 깔때기 (EF)을 이용하여 리소그래피 패터닝 구멍 시트르산 캡핑 (음전하) 금 나노 입자 (GNPs)의 성상 증착을 수반한다. 단계 5에서, PMMA, 110 ° C의 유리 전이 온도 이하의 100 ° C로 웨이퍼를 가열에 미리 증착 된 나노 입자의 주위에 포토 레지스트의 리플 로우시킨다. 에칭이 노출 된 입자의 산소 플라즈마 (단계 6) GNPs를 노출, 이후 습식 에칭 (요오드) (7 단계)와 PMMA를 입혔다 GNPs의 크기에 해당하는 구멍을 만듭니다. 반응성 이온 / 습식 에칭을 결합 할 때의 SiO2 (단계 8) (31)에 포토 레지스트의 홀 패턴을 전사하는 것이 가능하다. 레참조 (20)으로부터 허가를 인쇄. <a href="http://ecsource.jove.com/files/ftp_upload/54551/54551fig1large.jpg" target="_blank">이 그림의 더 큰 버전을 보려면 여기를 클릭하십시오.</a> 기판 상에 반대 전하 GNPs 아민 그룹 간의 정전 상호 작용은 결합 부위에서 GNPs의 변위를 방지한다. 리플 로우 공정은 GNPs의 상대 위치를 유지하지만, 구멍 SN / LER의 영향을 소거한다. 플라즈마 / 습식 에칭 단계는 GNP의 크기를 갖는 구멍을 재생성. 반응성 이온 에칭 그런가 2 하드 마스크 층에 자신의 패턴을 전송합니다. 상기 방법은 패턴 화 된 나노 홀 (NH)보다 균일 한 크기의 나노 입자의 사용에 의존하여, σ는 표준 편차로 표현 등 GNP σ &lt;NH σ있다. 이 보고서에서 분산 및 나노 입자의 침착을 포함하는 (도 1에서 설명한도 4 및도 5)의 단계에 중점주위에 포토 레지스트의 리플 로우는 장점과 방법의 한계를 평가합니다. 두 단계는 칩 현대 집적 회로 제조의 전류 흐름의 더 광범위한 변경을 필요로하지 않는, 원칙적으로, 더 큰 기판들로 확장 가능하다.

<table><tbody><tr><td>AATMS (95%)</td><td>겔레스트 Inc.</td><td>SIA0595.0</td><td>N-(2-aminoethyl)-11-aminoundecyltrimethoxysilane</td></tr><tr><td>금 콜로이드 (Ted Pella Inc.)</td><td>Ted Pella</td><td>15705-20</td><td>골드 Naoparticles</td></tr><tr><td>과산화수소</td><td>Fisher Scientific&nbsp;</td><td>H325-100</td><td>분석 등급 (웨이퍼 청소에 사용)</td></tr> <tr><td>염산</td><td>Fisher Scientific&nbsp;</td><td>S25358</td><td>분석 등급</td></tr><tr><td>수산화암모늄</td><td>Fisher Scientific&nbsp;</td><td>A669S-500SDS</td><td>분석 등급 (웨이퍼 세척에 사용)</td></tr> <tr><td>불화 수소</td><td>Fisher Scientific</td><td>AC277250250</td><td>분석 등급 (SiO2)</td></tr> <tr><td>톨루엔 (무수, 99.8 %)</td> <td>Sigma Aldrich</td><td>244511</td><td>분석 등급 (AATMS</td></tr><tr><td>이소 프로필 알코올 (IPA)</td>의 자체 조립에 사용되는 용매) <td>Sigma Aldrich</td><td>W292907</td><td>분석 등급 (만드는 데 사용됨) 개발자)</td></tr><tr><td>메틸 부틸 케톤(MIBK)</td><td>Sigma Aldrich</td><td>29261</td><td>분석 등급(현상액 제조에 사용)</td></tr><tr><td>1:3 MIBK:IPA 현상액</td><td>Sigma Aldrich</td><td></td><td>분석 등급(현상액)</td></tr><tr><td>950k 폴리(메틸 메타실레이트(PMMA, 아니솔 내 4%)</td><td>Sigma Aldrich</td><td>182265</td><td>E-beam 리소그래피</td></tr><tr><td>용 포토레지스트정제수 : Barnstead Sybron Corporation 정수 장치, 19.0 M & Omega의 저항; cm</td><td></td><td></td><td>기판 청소용 물</td></tr><tr><td>Gaertner 타원계&nbsp;</td><td>Gaertner</td><td></td><td>Resist 및 SAM 두께 측정</td></tr><tr><td>XPS, ThermoScientifc ESCALAB 250 기기</td><td>Thermo-Scientific</td><td></td><td>표면 조성</td></tr><tr><td>An FEI Siron XL30</td><td>Fei Corporation</td><td></td><td>나노 패턴 특성화</td></tr><tr><td>Zeiss sigma VP FEG SEM</td><td>Zeiss Corporation</td><td></td><td>E-beam 노출 및 패터닝</td></tr><tr><td>MDS 100&nbsp; CCD 카메라</td><td>Kodak</td><td></td><td>Imaging 접촉각 측정을 위한 입자 형상</td></tr><tr><td>Tegal Plasmod</td><td>Tegal</td><td></td><td>Oxygen plasma to etch 포토레지스트</td></tr><tr><td>I2</td><td>Sigma Aldrich</td><td>451045</td><td>금 에칭 용액용 부품</td></tr><tr><td>KI</td><td>Sigma Aldrich</td><td>746428</td><td>금 에칭 용액용 부품</td></tr><tr><td>타원계(LSE Stokes 모델 L116A)</td><td>Gaertner</td><td>L116A</td><td>AATMS 자체 조립 단층 필름 두께 측정</td></tr></tbody></table>

희생 나노 입자의 사용은 e-빔 리소그래피에 의해 제조 연락 홀에서 샷 노이즈의 영향을 제거하는 방법

Use of Sacrificial Nanoparticles to Remove the Effects of Shot-noise in Contact Holes Fabricated by E-beam Lithography

나노 패턴은 극 자외선 (EUV) 또는 전자빔 (e-beam) 리소그래피 크기 전시 예기치 않은 변형을 제작. 이 변화는 총 잡음 (SN)에서 발생하는 소정의 나노 영역에 도달하는 광자 / 전자 수의 통계적 변동에 기인하고있다. SN은 광자 / 전자 숫자의 제곱근에 반비례. 고정 된 용량의 경우, SN은 기존 (193 ㎚) 광학 리소그래피보다 EUV 및 전자 빔 lithographies에서 더 크다. 상향식과 하향식 패터닝 방법은 나노 구멍 패턴에 촬영 노이즈의 영향을 최소화하기 위해 결합된다. 즉, 후속 PMMA 계 전자빔 레지스트의 100 nm의 필름에 스핀 코팅 된 실리콘 웨이퍼 상에 아미노 실란 계면자가 조립. 전자빔 및 후속 발전에 노출 구멍의 저부에 하부 활성제 막을 발견. 음으로 대전, 구연산 출장, 20 나노 g의 현탁액에 웨이퍼를 찍기오래 된 나노 입자 (GNP) 예금 구멍 당 하나의 입자. 구멍에 노출 된 양전하 활성제 막은 정전 영구적으로 위치 등록을 해결 노출 구멍의 중심까지 음전하 나노 입자 퍼널. 다음에, 포토 레지스트 용 중합체의 유리 전이 온도 근처의 가열에 의해, 포토 레지스트 막을 리플 로우 및 나노 입자를 삼키기. 이 과정은 SN에 의해 ​​영향을받는 구멍을 지 웁니다하지만 바인딩 강한 정전기에 의해 제자리에 고정 증착 된 GNPs을 떠난다. 산소 플라즈마 처리는 상기 포토 레지스트의 얇은 층을 에칭하여 GNPs를 공개한다. I (2)의 용액으로 노출 GNPs 습식 에칭 / KI 전자 빔 리소그래피에 의해 패터닝 압흔의 중심에 위치하는 균일 한 홀을 산출한다. 실험 방법은 10 % 이하 35 %에서 SN에 의한 구멍의 크기의 편차를 줄여 표시를 표시. 상기 방법은 아래의 20 nm의 트랜지스터의 컨택트 홀 패턴의 한계를 확장한다.

그림 2는 정전 깔때기에 의해 구동되는 60 ~ 100 nm 두께의 PMMA 필름에 패턴 80 나노 미터 직경의 구멍에 입금 20 나노 GNPs의 SEM 이미지를 보여줍니다. 등 (22)에 의해 관찰 된 바와 같이, 처리는 홀당 약 입자 결과. 구멍의 중심 주변의 입자의 분포는 가우스 (맨 오른쪽 인셋)이었다. 대부분의 구멍 (93 %)는 GNP 하나를 포함하고, 이들 입자의 95 %가 중심이 20 nm 이내에 일어났다. 다른 곳에서 논의 또한 최적화, 충전 분률과 GNPs (20) (25)의 센터링을 향상시키기 위해 필요하다. 도 2b 및 2c는 이전에 포토 레지스트의 리플 로우 후의 웨이퍼의 더 큰 영역에서 증착 GNPs의 SEM...

균일 한 크기의 나노 입자는 전자빔 (E-빔) 리소그래피에 의하여 폴리 (메틸 메타 크릴 레이트)의 패터닝 된 콘택 홀 크기 (PMMA) 레지스트 필름의 변동을 제거 할 수있다. 프로세스는 포토 레지스트의 리플 로우 및 플라즈마 - 습식 에칭 단계에 이어 접촉 홀에서 센터 기탁 나노 입자에 정전 깔때기를 포함한다.

희생 나노 입자의 사용은 E-빔 리소그래피에 의해 제조 연락 홀에서 샷 노이즈의 영향을 제거하는 방법

Nano-patterns fabricated with extreme ultraviolet (EUV) or electron-beam (E-beam) lithography exhibit unexpected variations in size. This variation has ...

이 프로토콜의 전반적인 목표는 나노 입자 및 레지스트 리플로우 기술을 사용하여 리소그래피 패턴에서 샷 노이즈의 영향을 제거하는 것입니다. 이 나노 패터닝 기술을 사용하면 마이크로 프로세서 및 메모리 칩과 같은 첨단 반도체 장치를 제조하는 데 현재 계획된 극한의 UV 및 E-Beam 리소그래피에서 Shot-noise를 제거할 수 있습니다. 이 기술의 주요 장점은 단계를 쉽게 구현할 수 있다는 것입니다.현재의 반도체 프로세싱 팹에서는 기존 듀얼 세트를 광범위하게 수정할 필요가 없습니다. 이 기술의 의미는 광학 및 화학적 샷 노이즈 효과에서 차원 변동을 추론하기 때문에 20 미만 나노미터 패턴을 만드는 능력으로 확장됩니다. 일반적으로 이 방법을 처음 접하는 개인은 sub fact self assembly 및 projection lithography와 같은 상향식 및 하향식 처리 방법에 익숙해야 하기 때문에 어려움을 겪을 것입니다.이 절차를 시연하는 사람은 현재 인텔에서 근무하는 Dr.Moshood Morakinyo입니다. 그리고 그는 제 연구실의 대학원생인 Srikar Rao의 도움을 받을 것입니다. 절차를 밟기 위해 RCA 세척 방법을 위한 SC-1 및 SC-2 용액을 준비합니다.실리콘 웨이퍼를 SC-1 및 SC-2 용액에 차례로 10°C에서 각각 70분 동안 담그십시오. 각 침수 후에 웨이퍼를 탈이온수로 헹구고 그 후에 질소 가스의 시내에 있는 웨이퍼를 말리십시오. 다음으로, 깨끗하고 건조한 실리콘 웨이퍼를 섭씨 80도의 건조 톨루엔에 포함된 AATMS의 0.05몰 용액에 20분 동안 담가 웨이퍼 표면을 유도체화합니다.실온에서 100와트로 5분 동안 톨루엔에 있는 웨이퍼를 초음파 처리하고 질소 가스로 웨이퍼를 건조시킵니다. 폴리메틸메타크릴레이트의 포토레지스트 필름을 스핀 코팅으로 준비된 웨이퍼에 도포합니다. 그런 다음 전자빔 리소그래피로 구멍을 패턴화합니다.패턴화된 구멍보다 더 작은 직경의 시트레이트 캡을 씌운 금 나노 입자의 현탁액을 준비합니다. GNP 농도는 GNP 크기에 따라 밀리리터당 5.7 곱하기 10에서 9번째, 10에서 12번째 나노입자 범위일 수 있습니다. 패터닝된 접촉 구멍에 GNP를 침지하여 증착하려면 GNP 크기에 따라 패터닝된 웨이퍼를 현탁액에 24-48시간 동안 담근다.또는 증발에 의한 GNP를 증착하려면 먼저 패턴화된 웨이퍼를 평평한 표면에 놓고 웨이퍼 전체 표면에 GNP 현탁액 방울을

use-sacrificial-nanoparticles-to-remove-effects-shot-noise-contact

Research

연구

JoVE Journal

Engineering

공학

Femtosecond 레이저 직접 작성이 자주 폴리머와 잔에 세 차원 (3D) 패턴을 생성하는 데 사용됩니다. 그러나, 3D로 패턴의 금속 도전 남아 있습니다. 우리는 800 nm의 중심 femtosecond 레이저를 사용하여 고분자 매트릭스 내부에 내장은 nanostructures를 제​​조하는 방법에 대해 설명합니다.

3D로 연결이 끊긴 실버 Nanostructures를 조작하는 방법

유전체의 저전력 광학 트래핑 다음 설치 방법 세부 금속 필름에 두 번 nanohole를 사용하여 나노 입자.

나노 입자의 광학 트래핑

우리는 나노 구조 기질과 고정화된 단백질 및 압타머와 인터페이스하는 나노 생물학적 시스템의 제조 및 특성화를 설명합니다. 나노 구조 기판의 리소그래피 제작, 생체 기능화 및 표면 강화 라만 분광법(SERS) 특성화와 관련된 관련 실험 단계가 보고됩니다. 표면 고정 단백질의 SERS 검출 및 단백질-리간드 및 압타머-리간드 결합의 프로빙이 입증되었습니다.

표면 EBL 날조 된 나노 구조 기판을 사용하여 생체 분자의 라만 분광학 감지 강화

기존 광학 조작 기술의 확장성과 해상도는 회절에 의해 제한됩니다. 우리는 회절 한계를 우회하고 밀접하게 배치된 C자형 플라즈몬 공진기의 경로로 패턴화된 금 표면을 사용하여 칩을 가로질러 나노 입자를 광학적으로 운반하는 방법을 설명합니다.

나노 광학 컨베이어 벨트의 제작 및 운영

여기에서는 포토리소그래피에 의한 고분자 마이크로니들의 무곰팡이 제조 공정을 설명하는 프로토콜을 제시합니다.

포토 리소그래피에 의해 고분자 미세 바늘 어레이 제작

플라즈몬 핀셋을 통합 마이크로 칩 제조 공정은 여기에 표시됩니다. 마이크로 칩은 최대 트래핑 힘을 측정하기 위해 갇힌 입자의 영상을 가능하게한다.

모니터링 환경에서 플라즈몬 트랩 및 나노 입자의 릴리스

우리 nanoplasmonic 광학 격자에 마이크로 입자를 광학 트랩을 절차를 설명 합니다.

Nanoplasmonic 광학 격자에 마이크로 입자의 트래핑

정밀한 센서 전극의 제조 방법 (간격과 폭: 20 µ m) 피하 주사 바늘의 끝에 (직경: 720 µ m)는 사진 평판 과정에서 스프레이 코팅 및 유연한 필름 포토 마스크를 사용 하 여 보여 줍니다.

생명 의학 어플리케이션에 대 한 포토 레지스트 스프레이 코팅 및 유연한 포토 마스크를 사용 하 여 피하 주사 바늘 끝에 미세 전극의 제조

우리는 두 개의 널리 사용 전자 빔 레지스트에 자리 나노미터의 패턴을 정의 하는 수 차 수정 스캐닝 전송 전자 현미경 사용: 폴 리 (메 틸 메타 크리 레이트)와 수소 silsesquioxane. 저항 패턴 자리 나노미터 충실도 발사, 플라즈마 에칭를 사용 하 여 선택의 대상 재료에 복제 될 수 있습니다 및 저압에 의해 침투를 저항.

자리 나노미터 전자 빔 리소 그래피는 수 차 수정 스캐닝 전송 전자 현미경으로

리프오프 포토리소그래피, 나노 깊이 반응성 이온 에칭 및 실온 플라즈마를 통해 음향 나노 유체학용 리튬 니오베이트에 표면 음향파 작동 장치를 통합하여 나노 높이 채널의 제조를 시연합니다. 단결정 리튬 niobate의 표면 활성화 다층 결합, 산화물에 리튬 niobate 결합에 유사하게 유용한 공정.

음향 나노 유체학용 리튬 니오바테를 통한 표면 음향파 작동을 통합한 나노높이 채널 제조

고강도 레이저 펄스가 있는 얇은 금호일의 자동 조사를 위한 프로토콜이 제시됩니다. 이 프로토콜에는 마이크로머시닝 대상 제조 공정에 대한 단계별 설명과 대상이 0.2Hz의 속도로 레이저 초점에 어떻게 유입되는지에 대한 자세한 가이드가 포함되어 있습니다.

강렬한 레이저 조사 실험을 위한 미세 가공 대상의 자동 전달

학습하세요 나노 입자와 레지스트 리플로우 기술을 사용하여 리소그래피 패턴에서 샷 노이즈 효과를 제거하는 방법을. 이 기술은 첨단 반도체 장치 제조에서 20나노미터 이하 패턴 생성을 가능하게 하며 기존 반도체 공정에 쉽게 통합될 수 있습니다.

희생 나노 입자의 사용은 E-빔 리소그래피에 의해 제조 연락 홀에서 샷 노이즈의 영향을 제거하는 방법

더 많은 동영상 탐색