Name: 큰 면적 기판 기반 Nanofabrication 출장 Dewetting 통해 제어 하 고 사용자 정의 금 나노 입자의 (동영상) | JoVE Journal
Uploaded: 2019-02-26T14:30:00.000+00:00
Duration: 5 min 51 s
Description: 학습하세요 금 나노입자의 크기와 간격을 정밀하게 제어하는 대면적 나노제조 기법을. 열 증착과 캡핑층 증착 후 열적 드웨팅을 통해 리소그래피 없이도 조절 가능한 나노입자 분포를 얻을 수 있습니다.

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우리 인정 SEM 결과 대 한 유타 주립 대학에서 현미경 핵심 시설에서 지원 합니다. 우리는 또한 DC 마 그 네트 론 스퍼터 링 시스템, (필드 전자 및 이온) 국립 과학 재단 (보너스 #133792)에 대 한 국립 과학 재단 (수상 #162344) 인정 FEI 퀀텀 650, 고 에너지, 핵 에너지 대학 부 FEI 노바 Nanolab 600에 대 한 프로그램입니다.

참고: 제어 및 사용자 지정 가능한 골드 나노 영화의 큰 지역 제조 상세한 프로토콜에 따라 이루어집니다. 프로토콜 (1) 기판 준비, (2) dewetting 및 에칭, 및 (3) 특성화는 세 가지 주요 영역을 다음과 같습니다.
1. 기판 준비
<ol><li>청소는 기판 (100 nm SiO2 시에) 사용 하 여 아세톤 린스는 이소프로필 알코올 린스 다음 다음 스트림을의 N2 가스를 사용 하 여 건조.</li>
	<li>기판 열 증발 시스템에 로드 하 고 금속 필름 증 착에 대 한 원하는 압력에 도달 철수. 챔버 압력 10-6 Torr 공기와 수증기는 챔버에의 제거를 위한 순서에 철수는 확인 하십시오.</li>
	<li>원하는 두께에서 금 필름을 예금 열 증발 기를 사용 하 여 (5이 경우에서 nm). 골드 소스 재료는 금 (99.99% 순수한) 0.5 m m 직경 와이어의 형태로 얻은 했다. 참고 모든 증 착 단계에 대 한 두께 제어 컴퓨터의 교정에 의해 수행 됩니다 모든 중요 한 매개 변수를 고려 하 고 두께의 측정을 게시. 두 증 착 단계에서 아르곤 압력 millitorrs (1-5 mTorr)의 몇 이며 범위 다른 압력 증 착 속도 대 한 보정 하도록 선택 하는 주어 집니다.</li>
	<li>환기 하 고 예금 된 금속 필름 기판 열 증발 기 시스템에서 제거. 프로토콜 여기 일시 중지 될 수 있습니다.</li>
	<li>예금 된 금속 필름 기판 직류 (DC) 마 그 네트 론 스퍼터 증 착 시스템에 로드 하 고 상한 영화 (자료 테이블)의 증 착에 대 한 원하는 압력에 도달 철수.<ol>
<li>부하에 샘플을 넣어 기계에서 샘플을 찾으려면 잠금 장치와 진공의 충분 한 수준을 보장 하기 위해 주요 증 착 챔버에 샘플을 전송 합니다. Note을 알 루미나 상한의 증 착 층 이야기 장소 다음 단계에서이 단계는 기구와 주요 증 착 챔버로 샘플은 이전 하는 방법을 샘플을 배치 하는 과정을 설명 하 고 있다.</li>
	</ol>
</li>
	<li>원하는 재료와 두께의 상한 레이어 예금. 그는 알 루미나의 증 착 다음과 비슷한 프로시저와 골드 레이어 증 착, 가변 두께 알 루미나의 조건이 경우 참고. 알 루미나 소스 재료는 50.8 m m 직경, 알루미늄 산화물 (순수 99.5%)의 6.35 m m 두꺼운 스퍼터 대상의 형태에서 얻은 했다.</li>
	<li>DC 마 그 네트 론 스퍼터 증 착 챔버를 환기 하 고 준비 된 샘플을 제거 합니다. (자료의 테이블)입니다. 프로토콜 여기 일시 중지 될 수 있습니다.</li>
</ol>2. dewetting 및 에칭
<ol><li>미리가 열된 뜨거운 접시에 준비 된 샘플을 놓습니다. 알 루미나와 5 nm 골드 영화에 대 한 샘플 300 ° C에가 열 하 고 샘플 1 시간에 대 한 dewet을 허용 합니다. 프로토콜 여기 일시 중지 될 수 있습니다.</li>
	<li>황금을 떠나 고 SiO2/Si 기판 3: 1로 기본은 알 루미나 에칭: 1 = H2O:NH4OH:H2O2 (wt %) 솔루션 1 h. 참고 과정 후드에 부식성 및 환경 유해 물질 처리에 대 한 모든 주의 수행은 80 ° C에서 취해야 한다. 프로토콜 여기 일시 중지 될 수 있습니다.</li>
</ol>3입니다. 특성화
<ol><li>아세톤과 이소프로필 알코올 N2와 건조 뒤 rinsing 하 여 진공 호환 되도록 샘플을 준비 합니다.</li>
	<li>높은 확대에 나노 필름 스캐닝 전자 현미경 (SEM)을 사용 하 여 높은 진공 아래 이미지 (50, 000 X 최소 크기의 나노 입자를 해결 하기 위해이 경우에 배율). 프로토콜 여기 일시 중지 될 수 있습니다.</li>
	<li>나노 크기와 간격의 정보를 얻기 위해 이미지 분석을 수행 합니다. 이미지 분석 수행 되는 임계값 MATLAB 기반 코드를 사용 하 여 회색 음영 이미지 수행 소음 감소 및 입자 루틴15작성.</li>
</ol>

<ol><li>Pillai, S., Catchpole, K. R., Trupke, T., Green, M. A. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Surface+plasmon+enhanced+silicon+solar+cells%5BTitle%5D)+AND+%22Journal+of+Applied+Physics%22%5BJournal%5D)">Surface plasmon enhanced silicon solar cells.</a> Journal of Applied Physics. 101 (9), 093105(2007).</li>
<li>Ding, B., Lee, B. J., Yang, M., Jung, H. S., Lee, J. -K. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Surface-Plasmon+Assisted+Energy+Conversion+in+Dye-Sensitized+Solar+Cells%5BTitle%5D)+AND+%22Advanced+Energy+Materials%22%5BJournal%5D)">Surface-Plasmon Assisted Energy Conversion in Dye-Sensitized Solar Cells.</a> Advanced Energy Materials. 1 (3), 415-421 (2011).</li>
<li>Tehrani, S., Chen, E., Durlam, M., DeHerrera, M., Slaughter, J. M., Shi, J., Kerszykowski, G. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((High+density+submicron+magnetoresistive+random+access+memory+%28invited%29%5BTitle%5D)+AND+%22Journal+of+Applied+Physics%22%5BJournal%5D)">High density submicron magnetoresistive random access memory (invited).</a> Journal of Applied Physics. 85 (8), 5822-5827 (1999).</li>
<li>Ross, C. A., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Fabrication+of+patterned+media+for+high+density+magnetic+storage%5BTitle%5D)+AND+%22Journal+of+Vacuum+Science+%26+Technology+B%22%5BJournal%5D)">Fabrication of patterned media for high density magnetic storage.</a> Journal of Vacuum Science & Technology B. 17, 3168(1999).</li>
<li>Gu, M., Zhang, Q., Lamon, S. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Nanomaterials+for+optical+data+storage%5BTitle%5D)+AND+%22Nature+Reviews+Materials%22%5BJournal%5D)">Nanomaterials for optical data storage.</a> Nature Reviews Materials. 1, 16070(2016).</li>
<li>Mock, J. J., Barbic, M., Smith, D. R., Schultz, D. A., Schultz, S. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Shape+effects+in+plasmon+resonance+of+individual+colloidal+silver+nanoparticles%5BTitle%5D)+AND+%22The+Journal+of+Chemical+Physics%22%5BJournal%5D)">Shape effects in plasmon resonance of individual colloidal silver nanoparticles.</a> The Journal of Chemical Physics. 116 (15), 6755-6759 (2002).</li>
<li>Su, K. -H. A., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Interparticle+Coupling+Effects+on+Plasmon%5BTitle%5D)+AND+%22Resonances+of+Nanogold+Particles%2C+Nano+Letters%22%5BJournal%5D)">Interparticle Coupling Effects on Plasmon.</a> Resonances of Nanogold Particles, Nano Letters. 3 (8), 1087-1090 (2003).</li>
<li>Lee, K., El-Sayed, M. A. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Gold+and+Silver+Nanoparticles+in+Sensing+and+Imaging%3A+Sensitivity+of+Plasmon+Response+to+Size%2C+Shape%2C+and+Metal+Composition%5BTitle%5D)+AND+%22The+Journal+of+Physical+Chemistry+B%22%5BJournal%5D)">Gold and Silver Nanoparticles in Sensing and Imaging: Sensitivity of Plasmon Response to Size, Shape, and Metal Composition.</a> The Journal of Physical Chemistry B. 110 (39), 19220-19225 (2006).</li>
<li>Grzelczak, M., Prez-Juste, J., Mulvaney, P., Liz-Marzn, L. M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Shape+control+in+gold+nanoparticle+synthesis%5BTitle%5D)+AND+%22Chemical+Society+Reviews%22%5BJournal%5D)">Shape control in gold nanoparticle synthesis.</a> Chemical Society Reviews. 37 (9), 1783-1791 (2008).</li>
<li>Ye, J., Thompson, C. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Templated+Solid-State+Dewetting+to+Controllably+Produce+Complex+Patterns%5BTitle%5D)+AND+%22Advanced+Materials%22%5BJournal%5D)">Templated Solid-State Dewetting to Controllably Produce Complex Patterns.</a> Advanced Materials. 23 (13), 1567-1571 (2011).</li>
<li>Huang, J., Kim, F., Tao, A., Connor, S., Yang, P. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Spontaneous+formation+of+nanoparticle+stripe+patterns+through+dewetting%5BTitle%5D)+AND+%22Nature+Materials%22%5BJournal%5D)">Spontaneous formation of nanoparticle stripe patterns through dewetting.</a> Nature Materials. 4, 896-900 (2005).</li>
<li>Hughes, R. A., Menumerov, E., Neretina, S. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((When+lithography+meets+self-assembly%3A+a+review+of+recent+advances+in+the+directed+assembly+of+complex+metal+nanostructures+on+planar+and+textured+surfaces%5BTitle%5D)+AND+%22Nanotechnology%22%5BJournal%5D)">When lithography meets self-assembly: a review of recent advances in the directed assembly of complex metal nanostructures on planar and textured surfaces.</a> Nanotechnology. 28 (28), 282002(2017).</li>
<li>Kim, D., Giermann, A. L., Thompson, C. V. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Solid-state+dewetting+of+patterned+thin+films%5BTitle%5D)+AND+%22Applied+Physics+Letters%22%5BJournal%5D)">Solid-state dewetting of patterned thin films.</a> Applied Physics Letters. 95 (25), 251903(2009).</li>
<li>Fowlkes, J. D., Doktycz, M. J., Rack, P. D. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((An+optimized+nanoparticle+separator+enabled+by+electron+beam+induced+deposition%5BTitle%5D)+AND+%22Nanotechnology%22%5BJournal%5D)">An optimized nanoparticle separator enabled by electron beam induced deposition.</a> Nanotechnology. 21 (16), 165303(2010).</li>
<li>White, B. C. A., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((The+Effect+of+Different+Thickness+Alumina+Capping+Layers+on+the+Final+Morphology+of+Dewet+Thin+Ni+Films%5BTitle%5D)+AND+%22Applied+Physics+A%22%5BJournal%5D)">The Effect of Different Thickness Alumina Capping Layers on the Final Morphology of Dewet Thin Ni Films.</a> Applied Physics A. 124 (3), 233(2018).</li>
</ol>

저자는 공개 없다.

프로토콜 제어 특성을 가진 큰 지역에는 기판에 나노 입자를 생산 하는 나노 제조 공정에 대 한 가능 하 고 쉬운 과정 이다. 입자의 생산에 이르게 dewetting 현상 최소 표면 에너지를 달성 하기 위해 dewetted 층의 추세를 기반으로 합니다. 크기와 모양 입자의 제어의 표면 에너지를 조정 하는 주요 계층에 두 번째 표면 증 착으로 표적으로 하 고 접착과 에너지 사이의 최종 평형 입자에 상한 레이어를 휘게 하는 데 필요한 다른 표면 형태학 이어질 다른 dewetting 정권을 결정 합니다. 이 프로토콜 설계 되었고 장비 및 기본 제작 장비 및 프로세스 기능을 가진 사람 일반적으로 액세스할 수 있는 프로세스에 따라 시연. 시연된 접근에서 최종 나노 배포 추가 제어 금속 필름 두께, 모자 레이어 두께, 기판 소재, 그리고 모자 레이어 소재를 변경 하 여 얻을 수 있습니다. 이러한 프로세스 변수 사이의 다양 한 나노 크기와 간격을 얻을 수 있습니다.
추가 단계를 추가 또는 대체...

큰 지역 나노 필름 제조는 plasmonic 나노 입자1,2, 의 사용과 태양 에너지 변환 및 고밀도 데이터 스토리지의 최근 기술 발전의 도입에 대 한 비판적으로 중요 한 3 , 4 , 5. 흥미롭게도, 조작 및 제어는 nanoscale에 빛의 수와 이러한 나노 입자를 제공 하는이 plasmonic 나노 입자 들의 자기 특성 이다. 빛의이 제어력 강화 하는 nanoscale에 사건 빛의 빛 함정 고 표면의 absorptivity를 증가 가능성을 제공 합니다. 이 같은 속성에 따라 고 데는 자성 하 고 자기 아닌 상태에서 나노 입자를가지고 있는 능력을, 과학자는 또한 고밀도 디지털 데이터 저장을 위한 새로운 플랫폼을 정의 하 게 됩니다. 이러한 응용 프로그램의 각, 그것은 중요 한 그 넓은 지역 및 저렴 한 nanofabrication 나노 크기, 간격, 및 모양을 제어할 수 있는 기술을 개발.
나노 입자를 생산 하기 위해 사용할 수 있는 기술은 주로 나노 리소 그래피, 상당한 확장성 있고 비용 문제를 기반으로 합니다. 날짜 하지만 이러한 기술의 확장성 문제를 해결 하기 위해 시도 하는 여러 다른 연구 되었습니다, 그리고 프로세스가 존재 하는 나노 입자 제조에 필요한 제어 수준을 제공 하 고 비용 및 시간에 대 한 충분히 효과적인 산업 응용 프로그램6,7,8,9,,1011에 채용. 일부 최근 연구 노력 향상 제어 펄스 레이저 유도 dewetting (PLiD) 및 템플릿 고체 dewetting12,,1314, 하지만 그들은 여전히 중요 한 요구 리소 그래피 단계 고 따라서 확장성 문제입니다.
이 원고에 시달려 채택이 확장성과 비용 문제를 해결 하는 nanofabrication 메서드의 프로토콜 및 나노 영화의 광범위 한 산업용 어플리케이션에서 사용 하는 것이 선물이. 이 처리 방법을 지시 하는 표면 에너지를 조작 하 여 생산된 나노 입자 크기와 간격의 제어할 수는 형성 하는 나노 입자의 자기 조립. 여기, 우리 금 나노 입자를 생산 하는 얇은 금 필름을 사용 하 여이 기술의 사용 방법을 설명 하지만 우리는 최근 니켈 필름을 사용 하 여이 방법의 약간 다른 버전을 출판 하 고 따라서이 기술은 어떤 원하는 금속을 사용할 수 있습니다. 이 방법의 목표는 프로세스의 복잡성 및 비용을 최소화 하면서 나노 필름을 생산 하 고 따라서 우리가 니켈-알 루미나 시스템에 원자 층 증 착 및 나노초 레이저 방사선을 사용 하 고 대체 우리의 이전 방법 수정 그들 물리적 증기 증 착 및 핫 플레이트. 니켈-알 루미나 시스템에 대 한 우리의 작업의 결과 또한 dewetting15후 표면 형태에 컨트롤의 허용 수준을 보여주었다.

<table><tbody><tr><td>100nm SiO2/Si 기판</td><td>대학 웨이퍼</td><td>열 산화물 웨이퍼</td><td></td></tr><tr><td>알루미나 스퍼터 타겟(99.5%)</td><td>Kurt J. Lesker</td><td>알루미나 타겟</td><td></td></tr><tr><td>금선(99.99%)</td><td>Kurt J. Lesker</td><td>골드 와이어</td><td></td></tr><tr><td>H2O2</td><td>Sigma-Aldrich</td><td></td><td></td></tr><tr><td>핫 플레이트</td><td>Thermo Scientific</td><td>Cimarec</td><td></td></tr><tr><td>NH4OH</td><td>Sigma-Aldrich</td><td></td><td></td></tr><tr><td>주사 전자 현미경</td><td>FEI</td><td>Quanta 650</td><td></td></tr><tr><td>주사 전자 현미경</td><td>FEI</td><td>Nova Nanolab 600</td><td></td></tr><tr><td>스퍼터 증착 시스템</td><td>AJA International</td><td>Orion-5</td><td></td></tr><tr><td>열 증발기</td><td>Edwards</td><td>360</td><td></td></tr></tbody></table>의

큰 면적 기판 기반 nanofabrication 출장 dewetting 통해 제어 하 고 사용자 정의 금 나노 입자의

Large Area Substrate-Based Nanofabrication of Controllable and Customizable Gold Nanoparticles Via Capped Dewetting

향상 된 에너지 전환 효율성, 향상 된 광학 장치 성능 및 고밀도 데이터 저장을 위한 금속 나노 입자의 활용의 최근 과학적 발전 산업에 그들의 사용의 잠재적인 혜택을 증명 하고있다 응용 프로그램입니다. 이러한 응용 프로그램 필요 나노 크기, 간격, 그리고 때로는 모양을 정밀 하 게 제어 합니다. 이러한 요구 사항에 시간의 사용 결과 있고 집중적인 처리 단계 나노 입자, 비현실적인 산업 응용 프로그램을 전환 함으로써 생산 비용. 이 프로토콜 현재 기술에 비해 향상 된 나노 제어 나노 영화의 큰 지역 생산에 대 한 확장 가능 하 고 저렴 한 방법을 제공 하 여이 문제를 해결 합니다. 이 문서에서는, 과정은 금, 보여주는 것입니다 하지만 다른 금속을 사용할 수 있습니다.

여기에 설명 된 프로토콜 여러 금속 사용 되었습니다 하 고 제어할 수 있는 크기와 간격 큰 영역 기판에 나노 입자를 생산 하는 능력을 보이고 있다. 그림 1 조작된 나노 크기와 간격을 제어 하는 능력을 보여주는 대표적인 결과 프로토콜을 보여 줍니다. 이 프로토콜은 크기와 간격 배포판 조작된 나노 필름, 결과 따라 때 금속, 기판의 선택, 레이어 소재, 금속 두께는 상한 상한의 선택의 선택에 따라 결정 될 것입니다. 레이어 두께입니다. 이러한 매개 변수 중 하나를 조정 하 여 shift 및 이러한 배포판에 변화는 예상 될 것 이다. 예를 들어, 0의 두께의 레이어를 상한 알2O3 SiO2 에 5 nm 골드 영화 nm, 5 nm, 10 nm, 그리고 14.2의 평균 나노 반지름에 20 nm 결과 nm, 18.4 nm, 17.3 nm, 그리고 15.6 nm 36.9...

이 프로토콜 세부 큰 지역에 따라 제어 하 고 사용자 정의 나노 영화를 만들기 위해 사용할 수 있는 새로운 나노 제조 기술에서 출장 금속 필름의 dewetting의 자기 조립.

큰 면적 기판 기반 Nanofabrication 출장 Dewetting 통해 제어 하 고 사용자 정의 금 나노 입자의

Recent scientific advances in the utilization of metallic nanoparticle for enhanced energy conversion efficiency, improved optical device performance, and ...

당사의 프로토콜은 재료 두께를 변경하지 않고 비습 역학을 변경하여 기판에서 제작된 나노입자 분포를 사용자 지정하는 기술을 제공합니다. 우리의 기술은 간단하지만 여전히 다양한 입자 크기를 제공합니다. 거기 밖으로 다른 기술은 입자 제어를 제공하기 위해 광범위한 리소그래피 단계가 필요합니다.입자 분포를 제어하는 것은 태양 에너지 변환, 광장 장치 생성 및 데이터 저장 밀도 증가에 초점을 맞춘 연구에 유익한 나노 입자 제조 기술을 제공합니다. 각 단계에서 증착 두께에 주의를 기울이세요. 우리의 기술은 층 두께에 매우 민감합니다.실험을 수행하면 인쇄물에서 전달할 수 없는 세부 수준을 제공합니다. 프로세스 전체에서 이동하는 예제를 보는 것은 필수적입니다. 첫째, 실리콘 기판에 100 나노미터 실리콘 이산화를 청소하고 아세톤 린스를 사용하고 이소프로필 알코올 헹구는 다음.질소 가스의 스트림을 사용하여 기판을 건조. 기판을 열 증발기 시스템에 적재하고 챔버를 대피하여 금속 필름의 증착에 대한 원하는 압력에 도달합니다. 챔버에서 공기와 수증기를 제거하기 위해 10 대에서 마이너스 6 토로의 순서에 대한 압력으로 챔버를 대피해야합니다.열 증발기 시스템을 사용하여, 이 실험에서 5 나노미터인 원하는 두께로 금막을 증정한다. 두 번째 증착 단계에서, 아르곤 압력은 1 ~ 5 밀리토르이며, 범위는 증착 속도에 대해 보정하기 위해 다른 압력으로 선택되기 때문에 주어진다. 우리의 기술은 우리의 결과에 표시된 바와 같이 필름 두께에 매우 민감합니다.적절한 두께를 보장하기 위해 필름을 증착하기 전에 증착 속도를 보정하는 것이 중요합니다. 증착후, 챔버를 배출하고 기판을 제거, 기판, 증착 된 금속 필름, 열 증발기 시스템에서. 다음으로, 기판을 증착된 금속 필름으로 직접 전류 자석 스퍼터 증착 시스템에 적재하고 캡핑 필름의 증착에 대한 원하는 압력에 도달하기 위해 대피한다.시스템에서 샘플을 찾으려면 샘플을 로드 잠금에 넣습니다. 그리고 장치는 충분한 수준의 진공을 보장하기 위해 샘플을 주요 증착 챔버로 전송합니다. 지금, 금층 증착과 유사한 절차 및 조건에 따라 원하는 재료 및 두께의 캡핑 층을 증착한다.가변 두께 일루미나, 이 경우. 증착 후, 챔버를 배출하고 스퍼터 증착 시스템에서 준비된 샘플을 제거한다. 일루미나로 덮인 5나노미터 금필름을 섭씨 300도에 예열된 핫 플레이트에 놓고 샘플을 1시간 동안 디웨드할 수 있도록 합니다.일루미나에 1시간 동안 수산화암모늄과 과산화수소의 수성 용액을 1시간 동안 80도에 남기고 금과 기판을 그대로 둡다. 특성화를 위해 아세톤과 이소프로필 알코올로 헹도으로써 시료를 진공 과호환로 준비합니다. 그런 다음 질소 가스의 스트림을 사용하여 샘플을 건조시.높은 진공 및 높은 배율에서 주사 전자 현미경 검사를 사용하여 나노 입자 필름을 이미지합니다. 나노입자 크기 및 간격 분포에 대한 정보를 얻기 위해 이미지 분석을 수행합니다. 여기에 설명된 프로토콜은 여러 금속에 사용되었으며 제어 가능한 크기와 간격을 가진 넓은 면적의 기판에서 나노 입자를 생성하는 능력을 보여주었습니다.대표적인 결과는 여기에 표시되며, 제조된 나노입자 크기 및 간격을 제어하는 기능을 강조합니다. 제조된 나노입자 필름의 크기 및 간격 분포는 금속, 기판, 캡핑 층 재료, 금속 두께 및 캡핑 층 두께에 의존한다. 예를 들어, 실리콘 이산화수소의 5나노미터 금막은 알루미늄 산화물 상한층 두께가 0, 5, 10 및 20 나노미터로 각각 14.2, 18.4, 17.3 및 15.6 나노미터의 평균 나노 입자 반을 초래한다.그리고 평균 노노입자 간격은 각각 36.9, 56.9, 51.3 및 47.2 나노미터이다. 원하는 파티클 분포의 경우 증착 층 두께를 정확하게 제어하는 것이 중요합니다. 나노 입자 필름의 적용에 따라 더 많은 특성화가 필요할 수 있습니다.여기에는 광 흡수 및 자기 특성과 같은 응용 프로그램 기반 측정이 포함됩니다. 응용 프로그램에서 나노 입자 필름의 연구는 입자 크기와 분포를 제어하기 위해,이 기술을 사용하여 수행 할 수 있습니다. 적절한 개인 보호 장비를 착용해야 합니다.특히 에칭과 접촉하지 않습니다. 핫 플레이트와의 접촉을 피하십시오.

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제어 치수와 솔루션 suspendable 금 나노 튜브는 소수성 고분자 코어를 사용하여 다공성 양극 산화 알루미늄 (AAO) 멤브레인의 전기 증착에 의해 합성 할 수 있습니다. 골드 나노 튜브와 나노 튜브 배열 plasmonic biosensing, 표면 강화 라만 분광법, 사진 열 난방, 이온, 분자 운송, microfluidics, 촉매 및 전기 감지의 응용 프로그램에 대한 약속을 누르고 있습니다.

템플릿 조정할 IR의 흡광도와 Plasmonic 골드 나노 튜브의 합성을 감독

우리는 스텐실 인쇄 및 석판뿐만 아니라 미세하게 패턴에 대한 배양 세포에 방법을 통해 micropattern과 나노 다공성 금 박막에 대한 기술을보고합니다. 또한, 우리는 물질과 주사 전자 및 형광 현미경 기술을 이용하여 배양 된 세포의 형태를 특성화하는 이미지 분석 방법을 설명합니다.

세포 물질의 상호 작용 연구를위한 나노 기공 골드 패턴의 미세

템플릿 무료 기판에 거시적 인 나노 입자 - 리간드 단층 영화를 기능화 및 자기 조립, 단순 강력하고 확장 성있는 기술은이 프로토콜에 설명되어 있습니다.

템플릿이없는 기판에 육안 나노 입자 - 리간드 단층 필름을 기능화 및 자기 조립 기술

CdS 또는 ZnS의 반도체 쉘로 코팅된 균일한 금 나노 입자의 합성이 수행됩니다. 반도체 코팅은 먼저 황화은 쉘을 증착하고 은 양이온을 아연 또는 카드뮴 양이온으로 교환하여 수행됩니다.

합성, 특성 및 하이브리드 금 / CD 및 금 /은 ZnS 코어 / 쉘 나노 입자의 작용 화

실버 나노 큐브와 하위 10 나노 갭 플라즈몬 나노 크기의 패치 안테나의 제조의 콜로이드 합성을위한 프로토콜을 제시한다.

플라즈몬과 나노 포토닉스의 응용 프로그램에 대한 Nanopatch 안테나의 콜로이드 합성

우리는 콜 로이드 석판 기법을 사용 하 여 정기적 금 nanocup 배열의 제조를 설명 하 고 nanoplasmonic 영화의 중요성을 논의.

콜 로이드 리소 그래피를 사용 하 여 정기적 금 Nanocup 배열의 제작

여기 선물이 광역 스캐닝 프로브 나노리 프로브 배열의 반복 정렬 세포 표면 상호 작용 연구에 대 한 리소 그래피 패턴의 활용에 의해 사용에 대 한 프로토콜.

큰 지역 스캐닝 프로브 나노리 자동된 맞춤 및 셀 문화 연구에 대 한 기판 제작에의 응용에 의해 촉진

우리 보고 기판 바인딩된 Au 나노 와이어를 합성 하는 솔루션 기반 방법. 합성 하는 동안 사용 되는 분자 ligands를 조정 하 여 다른 표면 특성을 가진 다양 한 기판에서 Au 나노 와이어를 성장 수 있다. Au 나노와이어 기반 nanostructures 또한 반응 매개 변수를 조정 하 여 합성 될 수 있습니다.

활성 표면 성장 메커니즘을 통해 기판 바인딩된 Au 나노 와이어의 합성

이 연구는 티타늄 질 화/실리콘 기질에 금 수지상 나노 포레스트를 합성 하기 위한 실행 가능한 절차를 제시 합니다. 금 수지상 나노 숲의 두께는 합성 반응의 15 분 이내에 선형적으로 증가 한다.

질 화 티타늄 코팅 된 실리콘 기질에 대 한 금 수지상 나노 숲의 성장

유기 용매에서 ~12nm 직경의 금 나노 입자 (Au 나노 입자)를 합성하기위한 프로토콜이 제시된다. 금 나노 입자는 응집을 방지하기 위해 올리라민 리간드로 덮여있다. 금 나노 입자는 톨루엔과 같은 유기 용매에서 용해됩니다.

금 나노 입자 합성

계층적 및 바이모달 기공 크기 분포를 갖는 나노다공성 금은 전기화학적 및 화학적 탈합금화를 조합하여 제조될 수 있다. 합금의 조성은 탈합금 공정이 진행됨에 따라 EDS-SEM 검사를 통해 모니터링할 수 있습니다. 재료의 적재 용량은 재료에 대한 단백질 흡착을 연구하여 결정할 수 있습니다.

나노다공성 금으로 계층적 디자인을 생성하는 다용도 기술

학습하세요 금 나노입자의 크기와 간격을 정밀하게 제어하는 대면적 나노제조 기법을. 열 증착과 캡핑층 증착 후 열적 드웨팅을 통해 리소그래피 없이도 조절 가능한 나노입자 분포를 얻을 수 있습니다.

큰 면적 기판 기반 Nanofabrication 출장 Dewetting 통해 제어 하 고 사용자 정의 금 나노 입자의

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