Name: 비행 시간 보조 이온 질량 분석기를 사용 하 여 금속 페인트 인터페이스의 이미징 부식 (동영상) | JoVE Journal
Uploaded: 2019-05-06T13:00:00.000+00:00
Duration: 7 min 24 s
Description: 학습하세요 금속-페인트 계면의 부식을 ToF-SIMS로 분석하는 방법을 알루미늄 합금에 적용하여. 이 기법은 고해상도 화학 매핑으로 부식 메커니즘을 이해하는 데 필수적입니다.

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이 작품은 태평양 북서부 국립 연구소 (PNNL)에 의해 지원 되는 QuickStarter 프로그램에 의해 후원 되었다. PNNL은 미국 DOE를 위해 Battelle에 의해 운영 됩니다. 이 작업은 PNNL의 생물 과학 시설 (BSF)에 위치한 IONTOF-심즈 V를 사용 하 여 수행 되었습니다. JY와 X-y 유는 또한 대기 과학 & 글로벌 변화 (ASGC) 부문 및 물리적 및 전산 과학 이사회 (PCSD)에서의 지원을 인정 했습니다.

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<li>Liu, M., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((A+first+quantitative+XPS+study+of+the+surface+films+formed%2C+by+exposure+to+water+on+Mg+and+on+the+Mg-Al+intermetallics%3A+Al3Mg2+and+Mg17Al12%5BTitle%5D)+AND+%22Corrosion+Science%22%5BJournal%5D)">A first quantitative XPS study of the surface films formed, by exposure to water on Mg and on the Mg-Al intermetallics: Al3Mg2 and Mg17Al12.</a> Corrosion Science. 51 (5), 1115-1127 (2009).</li>
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<li>Cushman, C., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((A+pictorial+view+of+LEIS+and+ToF-SIMS+instrumentation%5BTitle%5D)+AND+%22Vacuum+Technology+%26+Coating%22%5BJournal%5D)">A pictorial view of LEIS and ToF-SIMS instrumentation.</a> Vacuum Technology & Coating. , 27-35 (2016).</li>
<li>Soler, L., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Hydrogen+generation+by+aluminum+corrosion+in+seawater+promoted+by+suspensions+of+aluminum+hydroxide%5BTitle%5D)+AND+%22International+Journal+of+Hydrogen+Energy%22%5BJournal%5D)">Hydrogen generation by aluminum corrosion in seawater promoted by suspensions of aluminum hydroxide.</a> International Journal of Hydrogen Energy. 34 (20), 8511-8518 (2009).</li>
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<li>Esmaily, M., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((A+ToF-SIMS+investigation+of+the+corrosion+behavior+of+Mg+alloy+AM50+in+atmospheric+environments%5BTitle%5D)+AND+%22Applied+Surface+Science%22%5BJournal%5D)">A ToF-SIMS investigation of the corrosion behavior of Mg alloy AM50 in atmospheric environments.</a> Applied Surface Science. 360, 98-106 (2016).</li>
<li>Hunt, C. P., Stoddart, C. T. H., Seah, M. P. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((The+surface+analysis+of+insulators+by+SIMS%3A+Charge+neutralization+and+stabilization+of+the+surface+potential%5BTitle%5D)+AND+%22Surface+and+Interface+Analysis%22%5BJournal%5D)">The surface analysis of insulators by SIMS: Charge neutralization and stabilization of the surface potential.</a> Surface and Interface Analysis. 3 (4), 157-160 (1981).</li>
<li>Stingeder, G. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Quantitative+distribution+analysis+of+B%2C+As+and+Sb+in+the+layer+system+SiO2%2FSi+with+SIMS%3A+elimination+of+matrix+and+charging+effects%5BTitle%5D)+AND+%22Fresenius%27+Zeitschrift+f%C3%BCr+analytische+Chemie%22%5BJournal%5D)">Quantitative distribution analysis of B, As and Sb in the layer system SiO2/Si with SIMS: elimination of matrix and charging effects.</a> Fresenius' Zeitschrift für analytische Chemie. 327 (2), 225-232 (1987).</li>
<li>Cushman, C., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Sample+Charging+in+ToF-SIMS%3A+How+it+Affects+the+Data+that+are+Collected+and+How+to+Reduce+it%5BTitle%5D)+AND+%22Vacuum+Technology+%26+Coating%22%5BJournal%5D)">Sample Charging in ToF-SIMS: How it Affects the Data that are Collected and How to Reduce it.</a> Vacuum Technology & Coating. , (2018).</li>
<li>Dubey, M., Brison, J., Grainger, D. W., Castner, D. G. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Comparison+of+Bi%281%29%2C+Bi%283%29+and+C%2860%29+primary+ion+sources+for+ToF-SIMS+imaging+of+patterned+protein+samples%5BTitle%5D)+AND+%22Surface+and+Interface+Analysis%3A+SIA%22%5BJournal%5D)">Comparison of Bi(1), Bi(3) and C(60) primary ion sources for ToF-SIMS imaging of patterned protein samples.</a> Surface and Interface Analysis: SIA. 43 (1-2), 261-264 (2011).</li>
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<li>Tyler, B. J., Rayal, G., Castner, D. G. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Multivariate+analysis+strategies+for+processing+ToF-SIMS+images+of+biomaterials%5BTitle%5D)+AND+%22Biomaterials%22%5BJournal%5D)">Multivariate analysis strategies for processing ToF-SIMS images of biomaterials.</a> Biomaterials. 28 (15), 2412-2423 (2007).</li>
<li>Song, W., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Corrosion+behaviour+of+extruded+AM30+magnesium+alloy+under+salt-spray+and+immersion+environments%5BTitle%5D)+AND+%22Corrosion+Science%22%5BJournal%5D)">Corrosion behaviour of extruded AM30 magnesium alloy under salt-spray and immersion environments.</a> Corrosion Science. 78, 353-368 (2014).</li>
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</ol>

저자는 공개 할 것이 없습니다.

ToF-심은 두 섬광 체 사이의 비행 시간에 따라 이온을 구별 합니다. 지형 또는 샘플 거칠기는 다른 시작 위치에서 이온의 비행 시간에 영향을 미치며,이는 일반적으로 피크의 폭이 증가 하 여 불량 한 질량 분해능으로 이어집니다. 따라서, 양호한 신호 수집8을 보장 하기 위해 분석 되는 rois가 매우 평평 하 게 하는 것이 중요 하다.
피해 야 할 또 다른 함정을 충전 하는 것입니다. Al-페인트 인터페이스가 절연 수 지와 함께 고정 되었기 때문에 충전이 예상 되었다. ROI가 일차 이온 빔에 포 격 되어 표면에서 방출 되는 이온의 운동 에너지에 영향을 미치기 때문에 충전은 샘플 표면에 축적 됩니다. 충전은 넓은 봉우리와 감소 된 질량 분해능 결과. 이 효과의 부정적 영향을 피하기 위해 심 들이 분석 하기 전에 10 nm의 금을 계면 표면에 스퍼터 링 하 여 전도 경로를 형성 했습니다. 다른 방법은 홍수 총을 적용 반사 기의 전압을 최적...

알루미늄 합금은 높은 강도 대 중량 비, 우수한 성형 성 및 부식에 기인 하는 해양 기술 또는 군용 자동차와 같은 엔지니어링 구조에 광범위 하 게 적용 됩니다. 그러나, Al 합금의 국부 적 인 부식은 여전히 다양 한 환경 조건1의 장기적인 신뢰성, 내구성 및 무결성에 영향을 미치는 일반적인 현상입니다. 페인트 코팅은 부식을 방지 하는 가장 일반적인 방법입니다. 금속 및 페인트 코팅 사이의 인터페이스에서 개발 된 부식의 그림은 부식 방지에 대 한 적절 한 치료법을 결정 하는 통찰력을 제공 할 수 있습니다.
Al 합금의 부식 여러 가지 경로 통해 발생할 수 있습니다. X 선 광전자 분광학 (XPS) 및 주사 전자 현미경/에너지 분산형 X 선 분 광 법은 부식 조사에 일반적으로 적용 되는 두 가지 표면 미세 분석 기술입니다. XPS는 원소 맵핑을 제공할 수 있으 나 표면 화학 정보2,3에 대 한 홀리 스 트 분자 뷰는 아니지만 SEM/강좌는 형태학 적 정보와 원소 맵핑을 제공 하지만 상대적으로 낮은 민감도를 갖습니다.
ToF-심은 높은 질량 정확도와 측면 분해능을 가진 화학적 매핑을 위한 또 다른 표면 도구입니다. 이는 낮은 검출 한계 (LOD)를 가지 며 금속 페인트 계면에서 형성 된 부식 종의 분포를 드러내는 것이 가능 하다. 일반적으로 심 질량 분해능은 등 압 이온4를 구분 하기에 충분 한 5000-15000에 달할 수 있습니다. ToF-심은 서브 마이크론 공간 해상도를 사용 하 여 금속 페인트 인터페이스를 화학적으로 이미지 하 고 특성화 할 수 있습니다. 이는 형태학 적 정보 뿐만 아니라 표면의 상위 몇 나노미터에서 분자 부식 종의 횡 적 분포를 제공 합니다. ToF-심즈는 XPS 및 SEM/강좌에 대 한 보완 정보를 제공 합니다.
부식 계면의 표면 특성화 및 이미징에 대 한 ToF 기능을 시연 하기 위해 공기에만 노출 되는 것과 소금 용액에 1 개를 그린 두 개의 도장 된 Al 합금 (7075) 쿠폰을 분석 합니다 (그림 1 과 그림 2). 식 염 수 조건에 노출 된 금속 페인트 계면에서의 부식 거동을 이해 하는 것은 예를 들어 해양 환경에서 Al 합금의 성능을 이해 하는 데 중요 합니다. Al (OH)3 의 형성은 해 수5에 알의 노출 동안 발생 하지만, al 부식의 연구는 여전히 부식 및 코팅 계면의 포괄적 인 분자 식별이 부족 하다 고 알려져 있다. 본 연구에서는 알 옥 사이드 (예를 들어,al2o3) 및 수산화 종 (예를 들어 al2o36h)을 포함 하는 al (OH)의 단편 들을관찰 하 고 동정한다. 심 질량 스펙 트 라 (그림 3)와 음이온의 분자 이미지 (도 4)와 al2o3 및 al2o3의 비교 - 분자를 제공 염 용액 처리 된 Al 합금 쿠폰의 금속 페인트 계면에서 형성 된 부식 산물의 증거. 심즈는 금속 페인트 인터페이스에서 발생 하는 복잡 한 화학 물질을 명료 하 게 할 수 있는 가능성을 제공 하며,이는 Al 합금에서 표면 처리의 효능에 대 한 빛을 발산 하는 데 도움이 됩니다. 이 상세한 프로토콜에서, 우리는 ToF 심을 사용 하 여 부식 연구의 새로운 실무자를 돕기 위해 금속 페인트 인터페이스를 프로 빙에이 효과적인 접근 방식을 보여줍니다.

<table><tbody><tr><td>0.05 & 마이크로; m 콜로이드 실리카 연마 용액</td><td>LECO</td><td>812-121-300</td><td>최종 연마 용액</td></tr><tr><td>1 &micro; m 연마 솔루션</td><td>Pace Technologies</td><td>PC-1001-GLB</td><td>수성 연마 솔루션</td></tr><tr><td>15 &micro; m 연마 솔루션</td><td>Pace Technologies</td><td>PC-1015-GLBR</td><td>수성 연마 솔루션</td></tr><tr><td>3 &micro; m 연마 솔루션</td><td>Pace Technologies</td><td>PC-1003-GLG</td><td>수성 연마 솔루션</td></tr><tr><td>6 &micro; m 연마 용액</td><td>Pace Technologies</td><td>PC-1006-GLY</td><td>수성 연마 용액</td></tr><tr><td>Balance</td><td>Mettler Toledo</td><td>11106015</td><td>화학 물질 측정에 사용됩니다.</td></tr><tr><td>Epothin 2 에폭시 경화제</td><td>Buehler</td><td>20-3442-064</td><td>샘플 마운트 캐스팅에 사용</td></tr><tr><td>Epothin 2 에폭시 수지</td><td>Buehler</td><td>20-3440-128</td><td>샘플 마운트 캐스팅에 사용</td></tr><tr><td>빠른 단백질 액체 크로마토그래피 (FPLC) 전도도 센서</td><td>Amersham&nbsp;</td><td>AKTA FPLC</td><td>염 용액의 전도도를 측정하는 데 사용됩니다.</td></tr><tr><td>최종 B 패드</td><td>연합군</td><td>90-150-235</td><td>1 &micro에 사용; m 및 0.05 &마이크로; 엠&nbsp; 연마 단계</td></tr><tr><td>KCl&nbsp;</td><td>시그마-알드리치</td><td>P9333</td><td>소금 용액을 만드는 데 사용됩니다.</td></tr><tr><td>저속 톱</td><td>Buehler Isomet</td><td>11-1280-160</td><td>에폭시 수지에 고정된 Al 쿠폰을 절단하는 데 사용됩니다.</td></tr><tr><td>MgCl2</td><td>Sigma-Aldrich</td><td>63042</td><td>염 용액을 만드는 데 사용됩니다.</td></tr><tr><td>MgSO4</td><td>Sigma-Aldrich</td><td>M7506</td><td>소금 용액을 만드는 데 사용됩니다.</td></tr><tr><td>NaCl</td><td>시그마-알드리치</td><td>S7653</td><td>소금 용액을 만드는 데 사용됩니다.</td></tr><tr><td>NaOH</td><td>시그마 알드리치</td><td>306576</td><td>소금 용액의 pH를 조정하는 데 사용됩니다.</td></tr><tr><td>페인트</td><td>러스트-올렘&nbsp;</td><td>245217</td><td>범용 범용 광택 블랙 해머 스프레이 페인트. Al 쿠폰에 스프레이하는 데 사용됩니다.&nbsp;</td></tr><tr><td>Pan-W 연마 패드</td><td>LECO</td><td>809-505</td><td>15, 6, 3 &micro에 사용; m 연마 단계</td></tr><tr><td>pH 측정기</td><td>Fisher Scientific</td><td>13-636-AP72</td><td>염 용액의 pH를 측정하는 데 사용됩니다.</td></tr><tr><td>피펫&nbsp;</td><td>써모 피셔&nbsp;</td><td>과학적&nbsp;</td><td>범위: 10 - 1,000 &마이크로; L</td></tr><tr><td>피펫 팁 1</td><td>Neptune&nbsp;</td><td>2112.96.BS&nbsp;</td><td>1,000 &마이크로; L</td></tr><tr><td>파이펫 팁 2</td><td>Rainin</td><td>17001865</td><td>20 &micro; L</td></tr><tr><td>실리콘 카바이드 종이</td><td>LECO</td><td>810-251-PRM</td><td>그라인딩 페이퍼, 240 그</td></tr><tr><td>릿 스퍼터 코팅기</td><td>Cressington</td><td>108 스퍼터 코팅</td>기 <td>샘플 코팅에 사용됩니다. &nbsp;</td></tr><tr><td>Tegramin-30 반자동 연마기</td><td>Struers</td><td>6036127</td><td>거친/미세 연마/연삭</td></tr><tr><td>ToF-SIMS</td><td>IONTOF GmbH, M&uuml; nster, 독일</td><td>ToF-SIMS V, Bi liquid metal ion gun 및 flood gun 장착</td><td>표본의 질량 스펙트럼 및 이미지를 획득하는 데 사용됩니다.</td></tr><tr><td>Vibromet 2 진동 연마기</td><td>Buehler</td><td>67-1635-160</td><td>최종 연마 단계</td></tr></tbody></table>

비행 시간 보조 이온 질량 분석기를 사용 하 여 금속 페인트 인터페이스의 이미징 부식

Imaging Corrosion at the Metal-Paint Interface Using Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry

알루미늄 합금의 페인트 및 알루미늄 (Al) 금속 페인트 인터페이스에서 개발 된 부식은 비행 시간 보조 이온 질량 분 광 법 (ToF-SIMS)을 사용 하 여 분석 되며 심 들은 화학 물질 분포를 연구 하는 데 적합 한 기술 임을 설명 합니다. 금속 페인트 인터페이스. 그려진 된 Al 합금 쿠폰은 소금 솔루션에 침 지 또는 공기에 노출. 심즈는 인터페이스의 화학적 매핑과 2D 분자 이미징 기능을 제공 하 여 금속 페인트 인터페이스에서 형성 된 부식 산물의 형태를 직접 시각화 하 고 부식 후에 화학 물질을 매핑 할 수 있습니다. 이 방법의 실험 절차는 유사한 연구를 용이 하 게 하 고 이러한 실험 중에 발생할 수 있는 함정을 강조 하기 위해 기술적 인 세부 사항을 제공 하기 위해 제시 된다.

도 3 은 염 용액으로 처리 된 금속 페인트 계면과 공기에 노출 된 계면 간의 질량 스펙트럼의 비교를 제시 한다. 300 µm x 300 µm rois에서 25kv Bi3+ 이온 빔 스캔을 사용 하 여 두 샘플의 질량 스펙트럼을 획득 했습니다. 염 용액 처리 된 샘플의 질량 분해능 (∆ m)은 m/z- 26의 피크에서 약 5600 이었다. 질량 스펙트럼의 원시 데이터는 10 채널을 범주화 한 후에 내보내집니다. 프리젠테이션을 위한 질량 스펙트럼을 플롯 하기 위해 그래픽 소프트웨어가 적용 되었습니다. Al (OH)을 포함 하는 보호층 (3 )이 형성 된 후 al 부식이 시작 되는 것으로 알려져 있다6. 상기 옥 사이드 (al2o3)및 옥 시 다이 아 종 (al2o3 h, al2o3,3, 2)의<sub...

비행 시간 보조 이온 질량 분 광 법은 공기에 노출 된 시 편과 비교 하 여 염 용액에 노출 된 후 알루미늄 합금의 금속 페인트 계면에서 화학적 매핑 및 부식 형태를 입증 하기 위해 적용 됩니다.

Corrosion developed at the paint and aluminum (Al) metal-paint interface of an aluminum alloy is analyzed using time-of-flight secondary ion mass ...

이 접근 방식은 금속 페인트 인터페이스의 부식 공정을 보여 주며, 높은 표면 감도로 인터페이스에서 기계적 및 화학적 변화에 대한 통찰력을 제공합니다. 비행 시간 보조 이온 질량 분석법 또는 ToF-SIMS는 강력한 표면 도구입니다. 그것은 높은 측면 및 질량 해상도화학지도를 제공하고 금속 페인트 인터페이스에서 효과적인 특성을 할 수 있습니다.따라서 새로운 실무자가 알아야 할 중요한 팁은 샘플이 계측기의 잠재적 손상을 피하기 위해 추출 콘에 닿지 않도록하는 것입니다. 이 방법의 시각적 데모는 ToF-SIMS를 새로 접하고 근본적인 분석 프로세스를 돕는 연구자에게 매우 중요합니다. 먼저 준비된 염착 및 공기 노출 샘플을 계측기 부하 블록에 적재합니다.하중 블록을 아래로 펌프, 메인 챔버에 샘플을 전송하고 챔버가 마이너스 8 밀리바에 10 이하가 될 때까지 기다립니다. 그런 다음 액체 금속 이온 건 또는 LMIG, 분석기 및 광원을 전원에 전원을 공급합니다. 기본 총을 선호하는 금속, 비스무트와 LMIG로 설정하고 미리 정의된 분광법을 사용하여 LMIG를 시작합니다.그런 다음 소프트웨어 또는 수동 컨트롤을 사용하여 샘플 스테이지를 패러데이 컵으로 이동합니다. 그런 다음 이온 빔을 자동으로 정렬합니다. 그런 다음 패러데이 컵에서 대상 전류를 측정하기 시작하고 직접 전류를 선택합니다.X 블랭킹을 클릭하고 대상 전류가 최대화될 때까지 조정합니다. 그런 다음 Y 블랭킹으로 프로세스를 반복합니다. 완료되면 측정을 중지합니다.다음으로, 주 챔버 창을 통해 뷰에 의해 유도되고, 샘플의 상단이 추출기 콘의 바닥보다 낮을 때까지 샘플 스테이지를 천천히 낮춥니다. 그런 다음 인터페이스 어셈블리가 소프트웨어의 매크로 뷰에 표시되도록 원뿔 아래에 스테이지를 배치합니다. 그 후, 음이온을 감지하는 계측기를 설정합니다.원하는 분석기 설정을 로드하고 분석기를 활성화합니다. 다음으로, 마이크로 스케일 뷰로 전환하고, 300 x 300 마이크로미터로 보기의 래스터 필드를 설정합니다. 이어서, 신호를 이차 이온으로, 래스터 크기는 128x128픽셀로 설정하고, 래스터 유형을 무작위로 설정한다.이미지가 네비게이터 GUI의 십자선을 중심으로 될 때까지 샘플 스테이지를 천천히 세로로 이동하여 ROI의 보조 이온 이미지를 조정합니다. Z 방향을 조정하는 동안 조이스틱 핸들을 너무 빨리 아래로 이동하지 마십시오. 그 후 DC 클리닝을 사용하여 금 코팅 및 표면 오염 물질을 제거하십시오.샘플 표면이 깨끗해지면 충전 보정을 활성화하고 원하는 홍수 총 설정을 로드합니다. 그런 다음 ROI에 보조 이온 이미지를 다시 초점을 맞춥니다. 집중되면 이차 이온 이미지가 사라질 때까지 반사전압 전압을 늘립니다.그런 다음 전압을 20볼트로 줄이고 조정을 중지합니다. 다음으로 이미징 창에서 질량 스펙트럼을 열고 금속 페인트 인터페이스의 ROI를 표시합니다. 빠른 검사를 시작하고 스펙트럼이 나타나면 검사를 중지합니다.그런 다음 질량 스펙트럼 창에서 빠른 스캔에서 질량 스펙트럼에서 알려진 피크를 선택하고 수식을 채웁니다. 그런 다음 관심 피크를 피크 목록에 추가합니다. 측정 창을 열고 래스터 유형을 임의로 설정하고 크기는 128x 128픽셀로 설정하고 픽셀당 한 샷으로 속도를 설정합니다.60개의 스캔을 수행하기 위해 계측기를 설정하고 측정을 시작합니다. 나중에 완성된 스펙트럼을 저장합니다. 그런 다음 ROI 위치를 지정하고 저장합니다.스테이지를 이동하여 분석할 새 ROI를 찾습니다. 다음으로 LMIG에 원하는 고해상도 SIMS 이미징 설정을 로드합니다. 샘플 스테이지를 패러데이 컵으로 이동하고 이미징을 위해 이온 빔을 다시 정렬하고 다시 초점을 맞춥니다.그런 다음 스테이지를 저장된 ROI 위치로 다시 이동합니다. 반사판 전압을 조정하고, 빠른 스펙트럼을 획득하고, 질량 보정을 수행합니다. 그런 다음 래스터 유형을 임의로 설정하고 크기는 256xx256픽셀로 설정하고 속도를 픽셀당 한 샷으로 설정합니다.스캔 수를 150으로 설정하고 이미지 수집을 실행합니다. 완료되면 데이터를 내보내고 샘플을 제거하고 계측기를 종료합니다. 이차 이온 질량 분석법은 공기에만 노출된 시료의 알루미늄 페인트 인터페이스에서 작은 알루미늄 산화물 및 옥시하이드록시드 피크를 보여 주었으며, 이는 온화한 부식을 나타낸다.대조적으로, 소금물로 처리된 견본은 훨씬 더 큰 봉우리 및 추가 옥시하이드록시드 종을 가지고 있었습니다. 이는 공기에만 노출된 시료보다 더 심한 부식을 경험한 염수 처리 시료와 일치하였다. 2D 분자 이미지는 알루미늄 산화물 및 옥시 하이드로시드 종이 염수로 처리된 샘플에서 훨씬 더 널리 퍼졌다는 것을 확인합니다.표면 손상 및 부식 개발을 이해하는 것은 매우 어렵습니다. ToF-SIMS는 이 절차에 설명된 대로 이 응용 프로그램에 적합한 도구입니다. ToF-SIMS는 부식 공정을 연구하는 것 외에도 방사선, 생물학적 및 환경 샘플의 재료 표면 특성화에 널리 사용되어 왔습니다.질량 스펙트럼 및 이미지 수집의 설정은 LMIG의 유형, LMIG의 남은 수명 및 기타 요인에 따라 달라집니다. 우리는 ToF-SIMS가 마이크로 스케일에서 얼굴 간 화학을 드러내고 높은 측면 분포와 높은 질량 정확도로 화학 매핑을 제공하는 데 매우 강력하다는 것을 이 방법을 보여줍니다. ToF-SIMS는 표면에 민감한 기술입니다.항상 장갑을 착용하고 취급하는 샘플을 보호하십시오.

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탈착 전기 분무 이온화 질량 분석법 (DESI-MS)는 생체 조직 등의 시료는 최소한의 샘플 준비로 이미징 할 수있는 주위 방법입니다. 이온화 프로브 아래에 샘플을 래스터로,이 스프레이 기반 기술은 조직 섹션에서 관심의 분자 기능을 식별 할 수있는 충분한 공간 해상도를 제공합니다.

탈착 전기 분무 이온화 질량 분석에 의한 생물 조직의 이미지

여기에서는 소형 금속 의료 기기의 공식 부식을 분석하기 위해 체외 전위차역학적 부식 시스템을 설정하고 실행하는 프로토콜을 제시합니다.

동전 위 부식 테스트

정량적으로 레이저 어블 레이션에 의해 조직에 금속을 매핑 - 유도 결합 플라즈마 - 질량 분석 (LA-ICP-MS)는 금속이 정상적인 기능과 질병 과정에 참여하는 방법에 대한 새로운 통찰력을 제공 할 수있는 민감한 분석 기술이다. 여기, 우리는 정량적 마우스 신경 조직의 얇은 섹션에서 금속 이미징을위한 프로토콜을 설명합니다.

유도 결합 플라즈마 - - 레이저 박리에 의한 뇌 조직의 이미징 금속 질량 분석 (LA-ICP-MS)

억제된 산성 용액에서 X선 광전자 분광계로 샘플을 이동하는 동안 금속 기판의 산화를 피하기 위한 프로토콜이 제시됩니다.

XPS와 부식 억제제 / 금속 인터페이스의 화학 성분을 결정 : 최소화 포스트 집중 산화

여기, 선물이 음이온 종의 광전자 이미징에 대 한 프로토콜. 음이온 vacuo에서 생성 하 고 질량 분석으로 구분 속도 매핑된 광전자 이미징, 음이온 전자 상태의 자연과 음이온 및 중립 에너지 레벨, 음이온, 중립 구조 상세 정보 제공을 사용 하 여 조사 됩니다.

F− 의 310 Nm 분리에 의해 설명 하는 음이온의 광전자 이미징

해발 라멜라의 형태, 구성 및 간격을 분석하면 화산 및 변형과 관련된 지질 학적 과정을 이해하는 데 필수적인 정보를 제공 할 수 있습니다. 우리는 이러한 라멜라의 특성화를 위한 APT의 새로운 적용을 제시하고 전자 현미경 검사법 및 FIB 기지를 둔 나노단층 촬영의 전통적인 사용에 이 접근을 비교합니다.

원자 프로브 단층 촬영 분석 의 Exsolved 광물 상

제시된 방법은 2차 이온 질량 분석법과 관련된 측정 아티팩트를 식별 및 해결하고 고체 물질에서 불순물/도펀트의 사실적인 3D 분포를 얻는 방법을 설명합니다.

2차 이온 질량분석법을 사용한 분리된 불순물의 3D 깊이 프로파일 재구성

표면 분석을 위한 나노입자를 준비하기 위한 여러 가지 절차가 제시됩니다(낙하 주조, 스핀 코팅, 분말의 증착 및 극저온). 각 방법의 과제, 기회 및 가능한 응용 프로그램, 특히 서로 다른 준비 방법으로 인한 표면 속성의 변화에 대해 설명합니다.

ToF-SIMS 및 XPS 분석을 위한 나노 입자 의 준비

켈빈 프로브 힘 현미경(KPFM)은 표면 지형과 표면 전위의 차이를 측정하는 반면, 주사 전자 현미경(SEM) 및 관련 분광법은 표면 형태, 구성, 결정도 및 결정학적 방향을 밝힐 수 있습니다. 따라서 SEM과 KPFM의 공동 국소화는 나노 스케일 조성 및 표면 구조가 부식에 미치는 영향에 대한 통찰력을 제공 할 수 있습니다.

켈빈 프로브 힘 현미경을 다른 현미경 및 분광학과 공동 위치 파악: 합금의 부식 특성화에서 선택된 응용 분야

(탈)리튬화 동안 Si 나노입자의 부피 변화를 활용하여, 본 프로토콜은 현장 투과 전자 현미경을 사용하여 전고체 배터리에 대한 전위 코팅의 스크리닝 방법을 설명합니다.

In Situ Transmission Electron Microscopy를 사용한 전고체 배터리용 코팅 스크리닝

이 연구는 비선형 광학 분광법 및 질량 분광 이미징을 사용하여 연조직 내 약물의 상관 이미징 방법을 제시합니다. 고해상도 피부 이미징과 민감한 약물 검출을 결합하면 피부 내 약물 분포를 연구할 수 있는 유용한 접근 방식을 얻을 수 있으며, 이는 우수한 국소 제품 개발에 매우 중요합니다.

Correlative Optical Spectroscopy 및 Mass Spectrometry Imaging methodology를 통해 연조직 절편에서의 약물 분포를 시각화합니다.

학습하세요 금속-페인트 계면의 부식을 ToF-SIMS로 분석하는 방법을 알루미늄 합금에 적용하여. 이 기법은 고해상도 화학 매핑으로 부식 메커니즘을 이해하는 데 필수적입니다.

비행 시간 보조 이온 질량 분석기를 사용 하 여 금속 페인트 인터페이스의 이미징 부식

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