Een abonnement op JoVE is vereist om deze inhoud te bekijken. Log in of start vandaag met uw gratis proefperiode.

Methodenartikel

Plasmonische Trapping en het vrijkomen van nanodeeltjes in een Monitoring Milieu

7.2K weergaven

⸱

DOI:

10.3791/55258

⸱

4 april 2017

 , 
1Division of Scientific Instrumentation, Korea Basic Science Institute (KBSI), 2School of Mechanical Engineering, Gwangju Institute of Science and Technology (GIST)

In dit artikel

Samenvatting

Een microchip fabricageproces dat plasmonische pincet opgenomen wordt hier gepresenteerd. De microchip maakt het afbeelden van een gevangen deeltje trapping maximale krachten meten.

Samenvatting

Plasmonische pincet gebruiken surface plasmon polaritonen om polariseerbare nanoschaal objecten beperken. Onder de verschillende ontwerpen van plasmonische pincet, kan slechts een paar geïmmobiliseerde deeltjes observeren. Bovendien zijn een beperkt aantal studies experimenteel gemeten exertable krachten op de deeltjes. De ontwerpen kunnen worden aangemerkt als de uitstekende soort nanodisk of de onderdrukte nanohole type. Voor deze laatste, microscopische observatie is zeer uitdagend. In dit artikel wordt een nieuw plasmonische pincet ingevoerde deeltjes, die beide in richtingen parallel en loodrecht op de symmetrieas van een plasmon nanohole structuur. Deze functie maakt het mogelijk om de beweging van elk deeltje observeren nabij de rand van de nanohole. Bovendien kunnen we kwantitatief schatten de maximale vangst krachten met behulp van een nieuwe vloeistofkanaal.

Inleiding

De mogelijkheid om microschaal objecten te manipuleren is een onmisbare functie voor veel micro / nano-experimenten. Direct contact manipulaties kunnen de gemanipuleerde objecten beschadigen. Het loslaten van de eerder gehouden voorwerpen is ook een uitdaging vanwege stiction problemen. Om deze problemen te overwinnen, verschillende indirecte werkwijzen waarbij fluïdische 1, 2 elektrische, magnetische 3 of fotonische krachten 4, 5, 6, 7, 8 voorgesteld. Plasmpnische trekker waarmee fotonische krachten gebruiken zijn gebaseerd op de fysische buitengewone veldversterking verscheidene orden groter is dan de invallende intensiteit 9. Deze uiterst sterke veld enhancement maakt het vangen van extreem kleine nanodeeltjes. Zo is aangetoond immobiliseren en te manipuleren nanoschaalvoorwerpen, zoals polystyreendeeltjes 7, 10, 11, 12, 13, 14, 15 polymeerketens, 16 eiwitten, quantum dots 17 en DNA-moleculen 8, 18. Zonder plasmonische pincet, is het moeilijk te controleren nanodeeltjes omdat ze snel verdwijnen voordat ze daadwerkelijk zijn onderzocht of omdat ze beschadigd door de hoge intensiteit van de laser.

Vele plasmonische studies hebben gebruik gemaakt van verschillende nanoschaal goud structuren. We kunnen de goudstructuren indelen als uitstekende nanodisk types 12, 13, 14, 15, 19 , 20, 21 of onderdrukt nanohole types 7, 8, 10, 11, 22, 23. Qua beeldvorming gemak typen nanodisk zijn geschikter dan de soorten nanohole omdat in het laatste geval kan de goudsubstraten de waarnemingsoverzicht belemmeren. Bovendien is de plasmonische trapping optreedt nabij het plasmonische structuur en maakt waarneming nog lastiger. Om het beste van onze kennis, werd plasmonische trapping op nanohole types alleen geverifieerd met behulp van indirecte verstrooiing signalen. Er zijn echter geen succesvolle directe waarnemingen, zoals microscopische beelden, zijn gemeld. Er zijn maar weinig studies hebben de positie van de gevangen deeltjes beschreven. Een voorbeeld van zo'n resultaat werd gepresenteerd door Wang et al. Creëerden ze een gouden pilaar op een gouden ondergrond en observeerde de pArtikel beweging met behulp van een fluorescentiemicroscoop 24. Dit is echter alleen effectief voor het bewaken zijwaartse bewegingen niet in de richting parallel aan de bundelas.

In dit artikel introduceren we nieuwe fluidic microchip ontwerp en de fabricage procedures. Met deze chip tonen we de controle op plasmonically ingesloten deeltjes, zowel in richtingen parallel en loodrecht op de plasmonische nanostructuur. Verder meten we de maximale kracht van het geïmmobiliseerde deeltje door verhoging van de fluïdumsnelheid als het kantelpunt snelheid in de microchip vinden. Deze studie is uniek omdat de meeste studies over plasmonische pincet kan niet kwantitatief de maximale trapping krachten die in hun experimentele opstellingen te tonen.

Toegang beperkt. Log in of start een proefperiode om deze inhoud te bekijken.

Protocol

Let op: Gelieve al het relevante materiaal veiligheidsvoorschriften voor gebruik. Een aantal van de chemicaliën die worden gebruikt in microchip fabricage zijn acuut giftig en kankerverwekkend. Gelieve gebruik maken van alle passende veiligheidsmaatregelen in acht bij het uitvoeren van de fotolithografie en etsen processen, waaronder het gebruik van technische controles (zuurkast, hete plaat, en aligner) en persoonlijke beschermingsmiddelen (veiligheidsbril, handschoenen, laboratoriumjas, full-length broek, en gesloten -toe schoenen).

1. Fabricage van de PDMS Microchannel

  1. Fabricage van het microkanaal matrijs door de werkwijze photolithograph
    1. Volledig verwijderen van vreemde stoffen op de 4 inch Si-wafel oppervlak met piranha reinigen (figuur 1a). Meng zwavelzuur (H 2 SO 4) en waterstofperoxide (H 2 O 2) in een verhouding van 3: 1 tot Piranha oplossing in de schotel. Meng door geleidelijk toevoegen van kleine hoeveelheden van het sterke zuur (H2O 2) aan het zwakke zuur (H 2 SO 4); omkeren van deze orde kan een explosie veroorzaken vanwege de sterk reactieve sterk zuur.
    2. Dompel het wafeltje piranha-oplossing gedurende 10 min. Vervolgens dompel de wafer in gedeïoniseerd (DI) water gedurende 3 minuten om de resterende piranha-oplossing te verwijderen. Spoel de wafer met stromend gedemineraliseerd water gedurende 10 s. Herhaal wasprocedure 3 keer en droog N2 gas naar de resterende DI verwijderen.
    3. Leg de wafel op een hete plaat gedurende 20 minuten bij 180 ° C op de wafer verder te dehydrateren.
    4. Pour 5 ml van de negatieve fotolak bovenop de wafel en spin-coat gedurende 45 seconden bij 1.500 rpm (figuur 1b); Na spincoating, wordt een fotoresist kraal gemaakt aan de wafelrand vanwege de relatief hoge viscositeit van de fotoresist.
    5. De balans van de fotoresist gecoate wafer door vlakken op een waterpas stand gedurende 5 uur.
    6. Plaats de fotoresist gecoate wafer op een hete plaat gedurende 12 minuten bij 65° C, 35 minuten bij 95 ° C en 12 minuten bij 65 ° C (zacht bakken).
    7. Bevestig de film masker op de maskerhouder en zacht gebakken wafer op het substraatplatform van de uitlijner. Blootstellen aan ultraviolet (UV) licht gedurende 43 s bij 650 mJ / cm2 om de fotoresist stollen.
    8. Plaats de wafer op de hete plaat gedurende 5 minuten bij 65 ° C, 15 minuten bij 95 ° C en 5 minuten bij 65 ° C (na blootstelling bakken).
    9. Dompel de wafer in de fotoresist ontwikkelaar gedurende 30 min uitgeharde fotolak te verwijderen.
    10. Spoel de wafer met isopropylalcohol (IPA) en droog met N2 gas naar de resterende IPA te verwijderen.
  2. Productie van de PDMS microkanaal
    1. Behandel het oppervlak van de wafer en de fotoresist matrijs gedurende 1 minuut bij een vermogen van 200 W onder toepassing van een atmosferisch plasma machine 25; de gasstromen CH4 en hij moet 6 en 30 sccm zijn, respectievelijk. Voer deze hydrofobe behandeling gemakkelijk los het polydimethylsiloxane (PDMS) microkanaal van het oppervlak van de wafer en de fotoresist matrijs (figuur 1c).
    2. Bereid de PDMS oplossing door mengen van de PDMS basis en verharder in een verhouding van 10: 1. Roer het mengsel gedurende 2 min.
    3. Plaatst de wafel in een petrischaaltje (150 mm x 15 mm) en voeg 100 mL van de PDMS oplossing. De bellen die zijn gemaakt van roeren met een exsiccator.
    4. Plaats de petrischaal in de oven gedurende 2 uur bij 80 ° C aan de oplossing PDMS (figuur 1d en h) vast.
    5. Knip langs de contouren van het PDMS microkanaal met een scheermesje en trek het van de wafel; de gefabriceerde PDMS microkanaal dient de volgende afmetingen: 13 mm lang, 300 urn breed en 150 urn hoge (figuren 1 e, f en i).
      Opmerking: twee typen gaten worden geproduceerd door een micropuncture de enkelmodusvezel (SMF) kabel en de buisjes (een inlaatnd uitlaat) van de PDMS microkanaal (Figuur 1g). De SMF kabel wordt gebruikt om de laserbundel naar de nanohole gefreesd op de gouden plaat emitteren. De buis wordt gebruikt om in te voegen / extract het deeltje oplossing van / naar het PDMS microkanaal.
    6. Punctie 1,5 mm inlaat- en uitlaatgaten aan elk uiteinde van het microkanaal PDMS. Doorboren 0,3 mm SMF kabeldoorvoer in het midden van de PDMS microkanaal.

2. Werkwijze etsen van de Gold Plate

  1. Een in de handel verkrijgbaar gouden plaat met afmetingen van 25 x 6,25 mm2 (Figuur 2a).
  2. Verwijder eventuele vreemde stoffen op de gouden plaat met de volgende reiniging procedures. Clean in deze volgorde door onderdompeling in aceton, methanol, en DI-water gedurende 5 minuten elk.
  3. Spoel de gouden plaat 3 keer met DI-water gedurende 10 s en droog de plaat met N2 gas naar de resterende DI water te verwijderen.
  4. Plaats de gouden plaat op een hete plaat voor20 min bij 180 ° C om achtergebleven vocht volledig te verwijderen.
  5. Pour 0,5 ml hexamethyldisilazaan (HMDS) op de gouden plaat en draaien laag gedurende 40 seconden bij 3000 tpm.
  6. Pour 0,5 mL positieve fotolak bovenop de gespincoat HMDS en rotatie laag gedurende 40 seconden bij 3.000 rpm (figuur 2b).
  7. Plaats de fotoresist beklede gouden plaat op de hete plaat gedurende 90 seconden bij 110 ° C (zacht bakken).
  8. Bevestig de film masker op de glazen wafer en plaats de zacht gebakken gouden plaat op het substraatplatform. Blootstellen aan UV licht gedurende 4,5 s bij 64 mJ / cm2 om de fotoresist te lossen.
  9. Dompel de gouden plaat in de fotoresist ontwikkelaar gedurende 1 minuut om de opgeloste fotoresist (figuur 2c) te verwijderen. Spoel de gouden plaat met DI water en droog N2 gas.
  10. Dompel de gouden plaat in de Au etsmiddel gedurende 45 seconden bij een etssnelheid van 28 A / s blootgestelde Au (figuur 2d) te verwijderen. Spoel de gouden plaat met DI water en droge N2 gas.
  11. Dompel de gouden plaat in de Ti etsmiddel gedurende 5 s bij een etssnelheid van 25 A / s blootgestelde Ti (figuur 2e) te verwijderen. Spoel de gouden plaat met DI water en droog N2 gas.
  12. Verwijder de overgebleven fotoresist op de gouden plaat door onderdompeling in aceton, methanol, en DI-water gedurende 3 minuten elk (figuur 2f); Dompel de plaat in de schriftelijke.
  13. Spoel de gouden plaat 3 maal met DI-water gedurende 10 s. Droog met N2 gas aan DI water te verwijderen.
  14. Plaats de gouden plaat op de hete plaat gedurende 3 minuten bij 120 ° C om het vocht volledig te verwijderen; het geproduceerde goud blok moet 400 x 150 pm2 (figuur 2h).
  15. Mill een 400 nm nanohole behulp van een gefocusseerde ionenbundel (FIB) in het midden van de goud blok dat werd vervaardigd na het etsen (figuren 2g en i). Maak een 370-nm cirkel patroon om zich te concentreren op de gouden block een ionen versnellingsspanning van 30 kV bij 28 Pa gedurende 3 s.

3. Montage van de Microchip

  1. Behandel de twee oppervlakken van de PDMS microkanaal en gouden plaat gedurende 1 min aan O2 plasma om ze aan elkaar te bevestigen met een plasmasysteem met een vermogen van 80 W en een druk van 825 mTorr 25.
    LET OP: Het is bijzonder moeilijk om ze in te voegen met precisie, omdat de gouden blok en PDMS microkanaal op de micrometer niveau. Vandaar, gebruik een richter met een camera en een handleiding podium.
  2. Bevestig de glazen wafer die wordt gebruikt om de film masker op het maskerhouder van de uitlijner (figuur 3a) vastmaken.
  3. Bevestig de O2-plasma-behandelde PDMS microkanaal naar het glazen wafer; omdat de PDMS is hydrofiel, zal het gemakkelijk hechten aan de glazen wafer zonder hechting oplossing. Bevestig de gouden plaat op het substraatplatform van de uitlijner (figuur 3a).
  4. Zoek de centra van the SMF kabeldoorvoer en goud blok, die zijn uitgelijnd op dezelfde as, met de camera op de aligner. Til de handmatige fase om de twee delen (figuren 3b en c) combineren.

4. Verbetering van de Microchip Side oppervlakteruwheid PDMS Coating

OPMERKING: De gouden plaat met vaste afmetingen 400 x 150 pm2 relatief moeilijker te snijden dan de PDMS materiaal. Daarom de PDMS microkanaal van de wafel te verwijderen, wordt een scheermesje gebruikt voor het snijden van een groter stuk dan de gouden plaat. Na het combineren van de twee delen, moet de overtollige delen van de PDMS opzichte van de gouden plaat dan worden gesneden, waardoor de binnenkant van het kanaal vanaf de zijkant behulp van een microscoop (figuur 4a) kan worden waargenomen. Echter, het snijvlak, dat wordt gebruikt als een venster, een hoge oppervlakteruwheid en bijgevolg produceert troebel afbeeldingen van de deeltjes die stromen in het kanaal (fig4b). Coating met de PDMS oplossing wordt opnieuw uitgevoerd om dit probleem op te lossen.

  1. Bereid de PDMS oplossing door mengen van de PDMS basis en verharder bij een 10: 1 verhouding en roer gedurende 2 min.
  2. Pour 2 ml van de PDMS oplossing in de petrischaal en voer de spinbekleding gedurende 30 seconden bij 1.000 rpm (figuur 4c).
  3. Plaats de microchip oppervlak zal worden op de microscoop op de petrischaal (figuur 4d). Plaats de petrischaal in de oven gedurende 1 uur bij 80 ° C om de PDMS oplossing stollen.
  4. Snijd de rand van de microchip en PDMS met behulp van een scheermesje en daarna los te maken van de petrischaal (figuren 4e, f).

5. Laser koppeling met de SMF-kabel Steek de Microchip

Opmerking: Voor het plasmonische pincet systeem wordt een optische vezel incident laser met een golflengte 1064 nm gebruikt. De SMF kabel wordt gebruikt omdat de diameter van de incident laser (5 mm) is veel te groot om de laserstraal emitteren bij de nanohole gefreesd goud blok (400 x 150 pm2) in de microchip. De manteldiameter van de SMF kabel 125 urn. Zo mag de invallende laser en SMF kabel gekoppeld.

  1. Sluit een 40X objectief naar de microscoop objectief te monteren op de SMF koppeling. Bevestig de SMF kabel aan de vezelklem van de SMF koppelaar. Richt de invallende laserbundel achterin apertuur van de objectieflens te vullen.
  2. Focus van de laserstraal op de kern van de SMF kabel door aanpassing van de drieassige handmatige fase voorzien op de SMF koppeling.
  3. Plaats het andere uiteinde van de kabel in de SMF SMF kabelopening van de microchip. Meet het laservermogen voorafgaand aan het inbrengen aan de rand van de vezelkabel, omdat de vaste vezelkabel op de microchip niet te nemen.
  4. Dicht de SMF kabelopening via epoxylijm om lekkage van de stromende deeltjes oplossing uit de spleet tussen de SMF cabine blokkerenle opening (300 pm) en de bekleding van de SMF kabel (125 um); het einde van de ingebrachte vezelkabel mag het microkanaal niet in de fluïdumstroom te voorkomen. Handmatig uitlijnen van de vezelkabel met behulp van visuele feedback, zodat deze loodrecht op de goud blok dat nanohole gastheren.

6. Plasmonische Trapping van Single Fluorescent polystyreen Particle in de Microchip

  1. Bevestig de injectiespuit, die is gevuld met de deeltjes oplossing met een injectiespuit micropomp. Plaats het deksel glas op het monster etappe van de fluorescentiemicroscoop. Verbinden pijpen naar de inlaat / uitlaatgaten van de microchip. Plaats de PDMS-beklede chip oppervlak bovenop het dekglas.
  2. Plaats de microchip loodrecht op de 60X water immersie objectief en houdt de binnenkant van het kanaal met de camera op de fluorescentiemicroscoop geïnstalleerd. Gebruik transparante tape aan de microchip in plaats vast te zetten. Sluit de inlaatbuis van de microchip met de injectiespuit needle.
  3. Plaats het deeltje oplossing voor de microchip door regeling van de micropomp 20 um / s. Momenteel, bevestigen dat de fluorescerende deeltjes goed worden waargenomen in het kanaal wanneer de fluorescentielamp wordt ingeschakeld.
  4. Wacht totdat het deeltje oplossing verlaat de uitlaat van de microchip. Toerentalniveau 3,4 um / s.
  5. Draai de laserbron zodat de laser in de nanohole uitzendt; de fluorescerende deeltjes worden opgesloten in de rand van de nanohole.
  6. Ramp de fluïdumsnelheid in stappen van 0,4 um / s door regeling van de micropomp totdat de gevangen deeltjes ontsnapt. Meet de vloeistof snelheid bij de gevangen deeltjes te ontsnappen. Het verkrijgen van de maximale vangst kracht voor elke laser intensiteit met deze gemeten fluïdumsnelheid.

Toegang beperkt. Log in of start een proefperiode om deze inhoud te bekijken.

Resultaten

Het fabricageproces van de PDMS microkanaal en nanohole gouden plaat is weergegeven in figuren 1 en 2. De methode om de twee delen samen de werkelijke microchip is weergegeven in figuur 3. De PDMS werd gesneden aan de binnenzijde van het kanaal zichtbaar vanaf de zijde van de microchip. Het was echter moeilijk de deeltjes stroomt in het kanaal als gevolg van de oppervlakteruwheid van het snijvlak te observeren. Daarom introduceerden we d...

Toegang beperkt. Log in of start een proefperiode om deze inhoud te bekijken.

Discussie

De SMF kabel werd ingevoegd in de SMF kabelgat de microchip, zoals in de rechthoekige stip van figuur 6a. Omdat de SMF kabelgat groter dan de kabeldiameter, werd epoxylijm gebruikt om het gat af te dichten om de lekkage van de stromende deeltjes oplossing blokkeren. Vóór het aanbrengen van epoxylijm, moet het goud blok kabelrand coaxiaal uitgelijnd met de hand met behulp van een microscoop. Hoewel het ideaal voor de ingebrachte kabelrand en nanohole coaxiaal uitgelijnd, kan een kleine speling getolereer...

Toegang beperkt. Log in of start een proefperiode om deze inhoud te bekijken.

Openbaarmakingen

De auteurs hebben niets te onthullen.

Dankbetuigingen

Dit werk werd ondersteund door de ICT-R & D-programma van MSIP / IITP (R0190-15-2040, Ontwikkeling van een inhoud configuratie management-systeem en een simulator voor 3D printen met behulp van slimme materialen).

Toegang beperkt. Log in of start een proefperiode om deze inhoud te bekijken.

Materialen

Lijst van materialen gebruikt in dit artikel
NaamBedrijfCatalogusnummerOpmerkingen
Negatieve fotoresist MicroChemSU-8 2075
OntwikkelaarMicroChemSU-8 Ontwikkelaar
Positieve fotoresist Merck Ltd.AZ GXR-601
AZ Fotoresist OntwikkelaarsMerck Ltd.AZ 300 MIF
HMDSMerck Ltd.AZ Adhesion Promoter
AlignerMidas SystemMDA 400M
Atmosferische plasmamachine Atmospheric Process
Plasma Co.		IDP-1000
Polydimethylsiloxane (PDMS)Dow CorningSylgard 184 A/B
Goud gecoate testslidesEMF Co.TA124(Ti/Au)
Au-etsmiddel Transene Inc.TFA
Ti-etsmiddel Transene Inc.TFT
40X objectieflens Edmund Optics40X DIN
60X waterimmersie
objectieflens 		OlympusLUMPLFLN 60XW
Optische vezel incident laser IPG PhotonicYLR 10
SMF koppelingThorlabsMBT612D/M
SpuitmicropompHarvardPC2 70-4501
Fluorescentiemicroscoop OlympusIX-51
PlasmasysteemFemto Science IncCUTE-MPR

Referenties

  1. Crane, N. B., Onen, O., Carballo, J., Ni, Q., Guldiken, R. Fluidic assembly at the microscale: progress and prospects. Microfluid. Nanofluid. 14 (3), 383-419 (2013).
  2. Yao, B., Luo, G. A., Feng, X., Wang, W., Chen, L. X., Wang, Y. M. A microfluidic device based on gravity and electric force driving for flow cytometry and fluorescence activated cell sorting. Lab Chip. 4 (6), 603-607 (2004).
  3. Zhang, K., et al. On-chip manipulation of continuous picoliter-volume superparamagnetic droplets using a magnetic force. Lab Chip. 9 (20), 2992-2999 (2009).
  4. Park, I. Y., Sung, S. Y., Lee, J. H., Lee, Y. G. Manufacturing micro-scale structures by an optical tweezers system controlled by five finger tips. J. Micromech. Microeng. 17, N82-N89 (2007).
  5. Kim, J. D., Hwang, S. U., Lee, Y. G. Traceable assembly of microparts using optical tweezers. J. Micromech. Microeng. 22, 105003(2012).
  6. Kim, J. D., Lee, Y. G. Construction and actuation of a microscopic gear assembly formed using optical tweezers. J. Micromech. Microeng. 23, 065010(2013).
  7. Kim, J. D., Choi, J. H., Lee, Y. G. A measurement of the maximal forces in plasmonic tweezers. Nanotechnology. 26 (42), 425203(2015).
  8. Kim, J. D., Lee, Y. G. Trapping of a single DNA molecule using nanoplasmonic structures for biosensor applications. Biomed. Opt. Express. 5 (8), 2471-2480 (2014).
  9. Quidant, R. Plasmonic tweezers - the strength of surface plasmons. MRS Bull. 37 (8), 739-744 (2012).
  10. Juan, M. L., Gordon, R., Pang, Y., Eftekhari, F., Quidant, R. Self-induced back-action optical trapping of dielectric nanoparticles. Nat. Phys. 5, 915-919 (2009).
  11. Pang, Y., Gordon, R. Optical trapping of 12 nm dielectric spheres using double-nanoholes in a gold film. Nano Lett. 11 (9), 3763-3767 (2011).
  12. Tanaka, Y., Kaneda, S., Sasaki, K. Nanostructured potential of optical trapping using a plasmonic nanoblock pair. Nano Lett. 13 (5), 2146-2150 (2013).
  13. Kang, J. H., et al. Low-power nano-optical vortex trapping via plasmonic diabolo nanoantennas. Nat. Commun. 2, 582(2011).
  14. Roxworthy, B. J., et al. Application of plasmonic bowtie nanoantenna arrays for optical trapping, stacking, and sorting. Nano Lett. 12 (2), 796-801 (2012).
  15. Shoji, T., Tsuboi, Y. Plasmonic optical tweezers toward molecular manipulation: tailoring plasmonic nanostructure, light source, and resonant trapping. J. Phys. Chem. Lett. 5 (17), 2957-2967 (2014).
  16. Pang, Y., Gordon, R. Optical trapping of a single protein. Nano Lett. 12 (1), 402-406 (2012).
  17. Tsuboi, Y., et al. Optical trapping of quantum dots based on gap-mode-excitation of localized surface plasmon. J. Phys. Chem. Lett. 1, 2327-2333 (2010).
  18. Shoji, T., et al. Permanent fixing or reversible trapping and release of DNA micropatterns on a gold nanostructure using continuous-wave or femtosecond-pulsed near-infrared laser light. J. Am. Chem. Soc. 135 (17), 6643-6648 (2013).
  19. Grigrenko, A. N., Roberts, N. W., Dickson, M. R., Zhang, Y. Nanometric optical tweezers based on nanostructured substrates. Nat. Photonics. 2, 365-370 (2008).
  20. Righini, M., et al. Nano-optical trapping of rayleigh particles and escherichia coli bacteria with resonant optical antennas. Nano Lett. 9 (10), 3387-3391 (2009).
  21. Chen, K. Y., Lee, A. T., Hung, C. C., Huang, J. S., Yang, Y. T. Transport and trapping in two-dimensional nanoscale plasmonic optical lattice. Nano Lett. 13 (9), 4118-4122 (2013).
  22. Berthelot, J., et al. Three-dimensional manipulation with scanning near-field optical nanotweezers. Nat. Nanotechnol. 9 (4), 295-299 (2014).
  23. Chen, C., et al. Enhanced optical trapping and arrangement of nano-objects in a plasmonic nanocavity. Nano Lett. 12 (1), 125-132 (2011).
  24. Wang, K., Schonbrun, E., Steinvurzel, P., Crozier, K. B. Trapping and rotating nanoparticles using a plasmonic nano-tweezer with an integrated heat sink. Nat. Commun. 2, 469(2011).
  25. Byun, D., Cho, S. J., Kim, S. Fabrication of a flexible penetrating microelectrode array for use on curved surfaces of neural tissues. J. Micromech. Microeng. 23, 125010(2013).

Toegang beperkt. Log in of start een proefperiode om deze inhoud te bekijken.

Herprints en machtigingen

Tags

Plasmonische pincettennanoparticle-invangstplasmonisch nanogatfluïdisch kanaalpartikelmonitoringlaserinvangstkrachtmetingPDMS-microkanaalfabricage van gouden plaatfluorescerende partikels
Plasmonische Trapping en het vrijkomen van nanodeeltjes in een Monitoring Milieu
Neem contact met ons op
Aanbevelen aan de bibliotheek

Privacy

Gebruiksvoorwaarden

Beleidsoverzicht

Copyright © 2026 MyJoVE Corporation. Alle rechten voorbehouden.