Method Article

Nanoformowanie materiałów funkcjonalnych, wszechstronna metoda komplementarnej replikacji wzoru do nanoimprintingu

DOI:

10.3791/50177

January 23rd, 2013

In This Article

Summary

Loading...
$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

Opisujemy technikę nanoformowania, która pozwala na tanie wzorowanie na nanoskali funkcjonalnych materiałów, stosów materiałów i całych urządzeń. Nanoformowanie może być wykonywane na dowolnym zestawie nanoimprintingu i może być stosowane do szerokiej gamy materiałów i procesów osadzania.

Abstract

Loading...
$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

Opisujemy technikę nanoformowania, która pozwala na tanie wzorowanie na nanoskali funkcjonalnych materiałów, stosów materiałów i całych urządzeń. Nanoformowanie w połączeniu z przenoszeniem warstw umożliwia replikację dowolnych wzorów powierzchni ze struktury głównej na materiał funkcjonalny. Nanoformowanie może być wykonywane na dowolnym zestawie nanoimprintingu i może być stosowane do szerokiej gamy materiałów i procesów osadzania. W szczególności demonstrujemy wytwarzanie wzorzystych przezroczystych elektrod z tlenku do zastosowań związanych z zatrzymywaniem światła w ogniwach słonecznych.

Introduction

Loading...
$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

Nanopatterning zyskał ogromne znaczenie w wielu dziedzinach nanotechnologii i nauk stosowanych. Generowanie wzorców jest pierwszym krokiem i może być realizowane za pomocą podejść odgórnych, takich jak litografia wiązką elektronów lub podejść oddolnych opartych na metodach samoorganizacji, takich jak litografia nanosferyczna lub litografia z kopolimerów blokowych 1. Równie ważna jak generowanie wzorców jest replikacja wzorców. Oprócz fotolitografii, nanoimprinting (ryc. 1) okazał się obiecującą alternatywą, w szczególności nadającą się do wysokoprzepustowego modelowania nanoskali na dużych obszarach przy niskich kosztach 2-4. Pod....

Access restricted. Please log in or start a trial to view this content.

Protocol

Loading...
$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

1. Produkcja form

Używamy naszego domowego zestawu do nanoimprintingu do produkcji formy negatywowej zgodnie z Ref. 6, ale każdy alternatywny zestaw nanoimprintingu będzie działał poprawnie. Alternatywnie może również działać funkcjonalizowana forma z polidimetylosiloksanu (PDMS).

  1. Wyprodukuj lub kup odpowiedni wzorzec z nanoskalowym wzorcem, który ma zostać przeniesiony. W zasadzie każdy mistrz odpowiedni do nanoimprintingu wykona to zadanie. Używamy teksturowanej warstwy ZnO na tafli szkła (Schott, AF32 eco, 41 mm x 41 mm x 0,5 mm) osadzonej zgodnie z opisem w ppkt 3.1 jako struktury wzorcowej w celu zilustrowania me....

Access restricted. Please log in or start a trial to view this content.

Results

Loading...
$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

Rysunek 3 podsumowuje kilka ilustrujących przykładów struktur formowanych w nanoformie. Struktura wzorcowa ZnO wyhodowana metodą CVD na szkle jest pokazana w (a). Odpowiadająca jej nanoformowana replika ZnO jest pokazana w lit. d). Porównanie lokalnych histogramów wysokości (g) i kąta (j) wyodrębnionych z obrazów AFM ujawnia wysoką wierność procesu nanoformowania. Analogiczne wyniki przedstawiono dla jednowymiarowej siatki wykonanej metodą litografii interferencyjnej (b,e,h,k) i anodowo teksturowanego al.......

Access restricted. Please log in or start a trial to view this content.

Discussion

Loading...
$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

Nanoformowanie umożliwia przenoszenie nanowzorów na dowolne materiały funkcjonalne. Porównanie poszczególnych etapów przetwarzania na rysunkach 1 i 2 ujawnia ścisły związek między nanoformowaniem a nanoimprintingiem. Główną różnicą między nanoformowaniem a nanoimprintingiem jest dodatkowy etap osadzania materiału na rysunku 2e. Pozostały przebieg procesu jest identyczny. Nanoformowanie można zatem przeprowadzić na dowolnej dostępnej konfiguracji nanoimprintingu.

Access restricted. Please log in or start a trial to view this content.

Disclosures

Loading...
$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

Nie stwierdzono konfliktu interesów.

Acknowledgements

Loading...
$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

Autorzy dziękują M. Leboeuf za pomoc w AFM, W. Lee za anodycznie teksturowany aluminiowy master oraz Szwajcarskiemu Federalnemu Urzędowi Energetycznemu i Szwajcarskiej Narodowej Fundacji Nauki za finansowanie. Część tych prac została zrealizowana w ramach projektu 7PR "Szybka ścieżka" finansowanego przez KE na podstawie umowy o dofinansowanie nr 283501.

....

Access restricted. Please log in or start a trial to view this content.

Materials

List of materials used in this article
NameCompanyCatalog NumberComments
Żywica nanoimprintingowaMicroresistOrmostamp
(1H, 1H, 2H, 2H-Perfluoroktylo)-trichlorosilan, środek antyadhezyjnySigma Aldrich448931-10G
Szkiełka szklaneSchottAF32 eco0,5 mm
Arkusze polietylenowo-faltalanowe (PEN)GoodfellowES3610900,125 mm
(C2H5)2ZnAkzo Nobel
Ag spill target 4NHeraeus81062165
B2H6, SiH4, H2, B(CH3)3, PH3, CH4, CO2Messer
EQUIPMENT
Nanoimprinting system
system LP-CVDDomowy
system PVDLeyboldReaktor Univex 450 B
PE-CVDIndeotecOctopus I
SEMJEOLJSM-7500 TFE
AFMInstrumenty cyfroweNanoscope 3100
Domowy

References

Loading...
$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,
  1. Geissler, M., Xia, Y. Patterning: Principles and Some New Developments. Advanced Materials. 16 (15), 1249-1269 (2004).
  2. Guo, L. J. Nanoimprint Lithography: Methods and Material Requirements. Advanced Materials. 19, 495-513 (2007).
  3. Ahn, S. H., Guo, L. J.

Access restricted. Please log in or start a trial to view this content.

Reprints and Permissions

Request permission to reuse the text or figures of this JoVE article

Request Permission

Tags

NanomouldingNanoimprintingPattern TransferZinc Oxide DepositionUV Cured ResinChemical Vapor DepositionMaster Mold FabricationAnti Adhesion LayerLayer Transfer TechniqueFunctional Material Replication

Related Articles