Pasywacja kwasem fluorowodorowym wzmocniona światłem: czuła technika wykrywania dużych defektów krzemu

8.9K wyświetleń

Cytowany 6 razy

09:15 min

4 stycznia 2016

10.3791/53614-v

4 stycznia 2016

8.9K wyświetleń

Opisano technikę pasywacji powierzchni cieczy RT do badania aktywności rekombinacyjnej masowych defektów krzemu. Aby technika była skuteczna, wymagane są trzy kluczowe etapy: (i) chemiczne czyszczenie i wytrawianie krzemu, (ii) zanurzenie krzemu w 15% kwasie fluorowodorowym oraz (iii) oświetlenie przez 1 minutę.

Przeglądaj więcej filmów

Pomiary fotoprzewodno ci

Chapters in this video

0:05

Title

1:02

Cleaning and Etching the Silicon Wafers

4:08

Silicon Wafer Passivation and Photoconductive (PC) Measurement

7:08

Results: Silicon Wafer Photoconductive Measurement after Surface Passivation

8:10

Conclusion

Related Videos