É necessária uma assinatura do JoVE para visualizar este conteúdo. Faça login ou inicie seu teste gratuito.

Artigo de método

Integração da luz Interceptação de prata Nanoestruturas em células solares de silício hidrogenado microcristalina por Transferência de impressão

7.6K visualizações

⸱

DOI:

10.3791/53276

⸱

9 de novembro de 2015

Neste artigo

Resumo

Uma metodologia viável baseada em impressão de transferência para introduzir nanoestruturas de metal plasmônico em células solares é descrita. Usando selos de poli (dimetilsiloxano) de nanopilares, uma matriz de nanodisco ordenada baseada em Ag foi integrada com células solares de Si microcristalinas hidrogenadas padrão, o que levou a um melhor desempenho do dispositivo devido ao aprisionamento de luz plasmônica.

Resumo

Uma das aplicações potenciais das nanoestruturas metálicas é o aprisionamento de luz em células solares, onde as propriedades ópticas únicas dos metais nanométricos, comumente conhecidas como efeitos plasmônicos, desempenham um papel importante. A pesquisa neste campo foi, no entanto, impedida devido à dificuldade de fabricar dispositivos contendo as nanoestruturas metálicas funcionais desejadas. A fim de fornecer uma estratégia viável para esse problema, mostramos aqui uma abordagem baseada em impressão por transferência que permite a integração rápida e de baixo custo de nanoestruturas metálicas projetadas com uma variedade de arquiteturas de dispositivos, incluindo células solares. Os selos de poli (dimetilsiloxano) (PDMS) de nanopilares foram fabricados a partir de um filme plástico de nanofuros disponível comercialmente como molde mestre. Nestes selos PDMS nanopadronizados, foram depositados filmes de Ag, que foram então impressos por transferência na superfície de Si microcristalino hidrogenado revestido com copolímero de bloco (camada de ligação) (μc-Si: H) para fornecer estruturas de nanodisco Ag ordenadas. Foi confirmado que as células solares μc-Si:H incorporadas a nanodiscos de Ag resultantes mostram desempenhos mais altos em comparação com uma célula sem os nanodiscos de Ag impressos por transferência, graças ao efeito de captura de luz plasmônica derivado dos nanodiscos de Ag. Devido à simplicidade e versatilidade, a aplicação adicional do dispositivo também seria viável por meio dessa abordagem.

Introdução

Tem havido uma demanda de longa data para a aplicação de nanoestruturas funcionais em uma ampla gama de campo tecnológico. Uma das expectativas para esta tendência é abrir novo design de arquiteturas de dispositivos que levam a performances melhoradas ou inovadoras. No campo das células solares, por exemplo, o uso de nanoestruturas de metal tem sido activamente explorado devido às suas propriedades intrigantes ópticos (isto é, 1), plasmonic potencialmente benéficos para a construção de sistemas de luz de armadilhagem eficazes. 2,3 estudos Na verdade, alguns teóricos 4 -6 têm sugerido que tal luz trapping plasmonic podia ter e....

Acesso restrito. Inicie sessão ou comece um teste para visualizar este conteúdo.

Protocolo

1. Preparação de PDMS selos

  1. Definir um molde nanohole (ciclo nanoimprinted filme plástico de polímero de olefina, tamanho: 50 mm x 50 mm) de um recipiente (PTFE) politetrafluoroetileno.
  2. Pesar copolímero de dimetilsiloxano-vinilmetilsiloxano (0,76 g para o molde 50 mm × 50 mm) numa garrafa de vidro descartável e misturá-lo com o complexo de Pt-diviniltetrametildissiloxano (6 ul, utilizando uma micro pipeta digital com uma ponta de polipropileno descartável) e 2,4, 6,8-tetramethyltetra-vinylcyclotetrasiloxane (24 ul, utilizando uma micro pipeta digital com uma ponta de polipropileno descartável).
  3. Adicionar copolímero de dimetilsiloxano-me....

Acesso restrito. Inicie sessão ou comece um teste para visualizar este conteúdo.

Resultados

A Figura 2 descreve o processo geral para a impressão por transferência de nanodiscos Ag sobre a superfície de uC-Si: H (camada N). Resumidamente, uma película de Ag (espessura: 10-80 nm) é depositado em primeiro lugar sobre a superfície de um selo nanopillar PDMS por evaporação por feixe de electrões. Em paralelo, uma solução -P2VP b PS- rotação é revestida sobre a superfície de um recém-preparado uC-Si: H camada n. Subsequentemente, uma gotícula de EtOH é colocada na superfí.......

Acesso restrito. Inicie sessão ou comece um teste para visualizar este conteúdo.

Discussão

Neste artigo, um disco / PDMS suaves composto duplo em camadas foi empregado como materiais de selo. 27 Esta combinação mostrou-se essencial para replicar precisamente a nanoestrutura pai no molde, que foi uma matriz rodada buracos hexagonal close-embalados cujo diâmetro de 230 nm, profundidade de 500 nm, e o furo espaçamento centro-a-centro de 460 nm. Quando apenas PDMS macios foi usada, o selo sempre resultou em uma superfície nanoestruturada mal (por exemplo, nenhuma borda afiada na estrutura de pilar inve.......

Acesso restrito. Inicie sessão ou comece um teste para visualizar este conteúdo.

Divulgações

Os autores não têm nada a divulgar.

Agradecimentos

Os autores agradecem à Organização de Desenvolvimento de Novas Energias e Tecnologia Industrial (NEDO) do Ministério da Economia, Comércio e Indústria (METI), Japão, pelo apoio financeiro.

....

Acesso restrito. Inicie sessão ou comece um teste para visualizar este conteúdo.

Materiais

Lista de materiais utilizados neste artigo
NomeEmpresaNúmero de catálogoComentários
Molde de NanoholeScivaxFLH230/500-120
Recipiente de PTFEEishinn/aFeito-à-medida
Hard-PDMS materiais
Vinilmetilsiloxano-dimetilsiloxano-copolímero de dimetilsiloxano<a href="http://www.gelest.com/gelest/forms/ Home/home.aspx">GelestVDT-731
  Complexo de Pt-diviniltetrametildisiloxanoGelestSIP6831.1
Copolímero de metilhidrossiloxano-dimetilsiloxanoGelestHMS-301
2,4,6,8-tetrametiltetra-vinilciclotetrasiloxanoSigma-Aldrich396281Aditivo para materiais Soft-PDMS rígidos
Dow CorningSylgard-184Precursor de silicone
PS-b-P2VPa href="http://polymersource.com">Fonte do polímeroP5742-S2VPMn × 103 = 133-b-132
Substratos de vidro/SnO2:FAsahi Glass Co. Ltd.Type VUQuímico polido mecânico pela D-process Inc. (http://d-process.jp/index.html) para aplainar as superfícies
DetergenteFruuchi Chemical Co.
http://www.furuchi.co.jp/eng/main.htm
Semico-clean 56Usado para a limpeza de substratos de vidro / SnO2< / sub>: F
ZnO: Ga supputtering targetAGC Ceramics Co. Ltd.< / a>5.7GZO
Ag supputtering targetMitsubishi Materials Co.< / a>4NAg
Fita adesiva dupla faceNisshin EM Co.732
Fita de poliimidaDupontKapton 650S#25
Soldaà base de Sn-ZnKuroda Techno Co., Ltd.Cerasolzer AL-200
Digital micro pipetaNichiryo00-NPX2-20
00-NPX2-200
00-NPX2-1000
Câmarade aquecimentoTokyo Rikakikai Co., Ltd.VOS-201SD
Evaporador de feixe de elétronsCanon-Anelvan/aEvaporador de
feixe de elétronsAriosn/aFeito sob medida
Sistema de pulverização catódicaUlvacSBR-2306
Sistema PECVDShimadzu Emit Co. Ltd.SLCM-13
Sistema de plasma ArDiner Electric GmbhFemto
Sistema RIESamco Inc.RIE-10NR
Dispositivo de solda ultrassônicaColby-Eishin Enterprises, Inc.SUNBONDER
EQE sistema de mediçãoBunkoukeiki Co. Ltd.CEP-25BXS
Sistema de medição de características JVBunkoukeiki Co. Ltd.OTENTOSUN-5S-I/V
Célula de referência de si amorfoBunkoukeiki Co. Ltd.WPVS-NPB-S1Para calibração de intensidade de luz
Multímetro digitalKeithley Instruments Inc.2400
< feito sob medida

Referências

  1. Murray, W. A., Barns, W. L. Plasmonic Materials. Adv. Mater. 19, 3771-3782 (2007).
  2. Atwater, H. A., Polman, A. Plasmonics for improved photovoltaic devices. Nat. Mater. 9, 205-213 (2010).
  3. Green, M. A., Pillai, S.

Acesso restrito. Inicie sessão ou comece um teste para visualizar este conteúdo.

Reimpressões e permissões

Etiquetas

Efeitos PlasmônicosCarimbos de PDMS de NanopilaresEvaporação por Feixe de ElétronsLigação de Copolímeros em BlocoNanodiscos de PrataEficiência de Células Solares