Artigo de método

Preparação de partículas de Janus e medições eletroquimáticas de corrente alternada com uma matriz de eletrodo de estanho de estanho rapidamente fabricada

DOI:

10.3791/55950

⸱

23 de junho de 2017

 , 
1Institute of Applied Mechanics, National Taiwan University

Neste artigo

Resumo

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

Neste artigo, é demonstrado um método simples para preparar partículas metálicas parcialmente ou totalmente revestidas e para realizar medidas de propriedades eletroquimáticas de CA com um conjunto de eletrodos de óxido de índio e íon (ITO) rapidamente fabricado.

Resumo

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

Este artigo fornece um método simples para preparar partículas metálicas parcialmente ou totalmente revestidas e para realizar a fabricação rápida de arrays de eletrodos, o que pode facilitar experiências elétricas em dispositivos microfluídicos. As partículas Janus são partículas assimétricas que contêm duas propriedades de superfície diferentes em seus dois lados. Para preparar partículas de Janus, uma monocamada de partículas de sílica é preparada por um processo de secagem. Ouro (Au) é depositado em um lado de cada partícula usando um dispositivo de pulverização catódica. As partículas metálicas totalmente revestidas são completadas após o segundo processo de revestimento. Para analisar as propriedades da superfície elétrica das partículas de Janus, medições eletrocinéticas de corrente alternada (AC), como a dielectroforese (DEP) e a eletrorretação (EROT) - que requerem arrays de eletrodo especificamente projetados no dispositivo experimental - são realizadas. No entanto, os métodos tradicionais para fabricar arrays de eléctrodos, como a técnica fotolitográfica, requerem uma sérieDe procedimentos complicados. Aqui, apresentamos um método flexível para fabricar uma matriz de eletrodo projetada. Um vidro de óxido de estanho de índio (ITO) é modelado por uma máquina de marcação a laser de fibra (1,064 nm, 20 W, largura de pulso de 90 a 120 ns e freqüência de repetição de pulso de 20 a 80 kHz) para criar uma matriz de eletrodos de quatro fases. Para gerar o campo elétrico trifásico, os eletrodos são conectados a um gerador de função de 2 canais e a dois inversores. O deslocamento de fase entre eletrodos adjacentes é fixado em 90 ° (para EROT) ou 180 ° (para DEP). São apresentados resultados representativos das medições eletroquimáticas AC com um conjunto de eletrodos ITO trifásicos.

Introdução

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

As partículas de Janus, com o nome do deus romano com uma face dupla, são partículas assimétricas cujos dois lados têm propriedades de superfície fisicamente ou quimicamente diferentes 1 , 2 . Devido a essa característica assimétrica, as partículas de Janus exibem respostas especiais sob campos elétricos, como DEP 3 , 4 , 5 , 6 , EROT 2 e eletroforese de carga induzida (ICEP) 7 , 8 , 9 . Recentemente, vários métodos para preparar partículas Janus foram relatados, incluindo o método de emulsão Pickering 10 , o método de co-jato eletroidrodinâmico 11 e o método de fotopolimerização microfluídica 12 . No entanto, esses métodos requerem uma série de compAparelhos e procedimentos licenciados. Este artigo apresenta um método simples para preparar partículas Janus e partículas metálicas totalmente revestidas. Uma monocamada de partículas de sílica com micro escala é preparada num processo de secagem e é colocada num dispositivo de pulverização a ser revestido com Au. Um hemisfério da partícula está sombreado, e apenas o outro hemisfério é revestido com Au 2 , 13 . A monocamada da partícula Janus é estampada com um selo de polidimetilsiloxano (PDMS) e depois tratada com um segundo processo de revestimento para preparar partículas metálicas totalmente revestidas 14 .

Para caracterizar as propriedades elétricas de uma partícula Janus, diferentes respostas eletrocinéticas AC, como DEP, EROT e eletro-orientação, são amplamente utilizadas 9 , 15 , 16 , 17 , 18 , 19 . Por exemplo, EROT é a resposta rotacional em estado estacionário de uma partícula sob um campo elétrico rotativo imposta externamente 2 , 9 , 15 , 16 . Ao medir o EROT, pode-se obter a interação entre o dipolo induzido das partículas e os campos elétricos. O DEP, que decorre da interação entre os dipolos induzidos e um campo elétrico não uniforme, é capaz de levar ao movimento das partículas 3 , 4 , 5 , 9 , 15 . Diferentes tipos de partículas podem ser atraídos para (DEP positivo) ou repelir de (DEP negativo) os bordos dos eletrodos, que serve como um método geral para manipular e caracterizar partículas no dispositivo microfluídico. O translacional (DEP) e rota As características das partículas (EROT) da partícula sob o campo elétrico são dominadas pela parte real e imaginária do fator Clausius-Mossotti (CM), respectivamente. O fator CM depende das propriedades elétricas das partículas e do líquido circundante, que são reveladas a partir da freqüência característica, ω c = 2σ / aC DL , de DEP e EROT, onde σ é a condutividade líquida, a é o raio da partícula, E C DL é a capacitância da camada dupla elétrica 15 , 16 . Para medir o EROT e o DEP de partículas, são necessários padrões de matrizes de eléctrodos especialmente projetados. Tradicionalmente, uma técnica fotolitográfica é usada para criar matrizes de eletrodos e requer uma série de procedimentos complicados, incluindo revestimentos de fotorresistência, alinhamento de máscara, exposição e desenvolvimento 15 , 18 ,S = "xref"> 19 , 20 .

Neste artigo, a fabricação rápida de arrays de eletrodos é demonstrada por padrões óticos diretos. Uma camada ITO de película fina transparente, que é revestida no substrato de vidro, é parcialmente removida por uma máquina de marcação a laser de fibra (1,064 nm, 20 W, largura de pulso de 90 a 120 ns e freqüência de repetição de pulso de 20 a 80 kHz) para formar Uma matriz de eletrodos de quatro fases. A distância entre os eletrodos diagonais é de 150-800 μm, que pode ser ajustada de acordo com os experimentos. O conjunto de eletrodos de quatro fases pode ser usado para caracterizar e concentrar partículas em diferentes dispositivos microfluídicos 15 , 16 , 18 . Para gerar o campo elétrico trifásico, a matriz de eletrodos é conectada a um gerador de função de 2 canais e a dois inversores. O deslocamento de fase entre os eletrodos adjacentes é definido em 90 ° (para EROT) ou 180 ° (para DEP) 15 . O sinal de CA é aplicado a uma amplitude de tensão de 0,5 a 4 V pp e a frequência varia de 100 Hz a 5 MHz durante o processo de operação. Partículas Janus, partículas metálicas e partículas de sílica são usadas como amostras para medir suas propriedades eletrocinéticas AC. As suspensões das partículas são colocadas na região central do conjunto de eletrodos e são observadas sob um microscópio óptico invertido com um objetivo 40X, NA 0.6. O movimento de partículas e a rotação são gravados com uma câmera digital. O movimento DEP é gravado na região anular, entre 40 e 65 μm radialmente fora do centro da matriz, e o EROT é gravado na região circular, 65 μm radialmente fora do centro da matriz. A velocidade da partícula e a velocidade angular são medidas pelo método de rastreamento de partículas. Os centroóides de partículas são distinguidos por escala de cinza ou geometria de partículas usando o software. A velocidade da partícula e a velocidade angular são obtidas porMedindo os movimentos dos centroides de partículas.

Este artigo fornece um método simples para fabricar rapidamente arrays de eletrodos com padrões arbitrários. Ele introduz a preparação de partículas metálicas totalmente ou parcialmente revestidas, que podem ser usadas em diferentes campos, com usos que variam de biologia para aplicações industriais.

Acesso restrito. Inicie sessão ou comece um teste para visualizar este conteúdo.

Protocolo

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

1. Fabricação do Microchip

  1. Preparação do eletrodo ITO
    1. Use o software de ilustração comercial para desenhar um padrão cruzado. Defina a distância entre os eletrodos diagonais para 160 μm e faça com que os braços do padrão cruzado sejam 30 mm de largura e 55 mm de comprimento, como mostrado na Figura 1 . Salve o arquivo de ilustração como um arquivo DXF.
    2. Use um cortador de vidro para cortar o vidro ITO para um tamanho de 25 mm x 50 mm (largura x comprimento). Use 75% de etanol e água DI para enxaguar o vidro ITO várias vezes.
    3. Coloque o vidro ITO na máquina de marcação a laser de fibra pulsada. Focalize o laser na superfície do vidro ITO ajustando a distância entre o vidro ITO e o laser para 279,5 mm.
      NOTA: O laser utilizado aqui possui as seguintes especificações: 1.064 nm, 20 W, largura de pulso de 90 a 120 ns e freqüência de repetição de pulso de 20 a 80 kHz, com intensidade de luz pulsada em aproximadamente 5 x 10 5 W / cm 2).
    4. Insira diretamente o arquivo de ilustração (arquivo DXF) no computador da máquina de marcação a laser. Clique no botão "Mark Parameter" e insira os seguintes parâmetros: velocidade, "800 mm / s;" Poder, "60%;" E freqüência, "40 kHz". Marque os termos "Quadro", "Preencher" e "Preencher Primeiro".
      1. Clique no botão "Pré-visualizar" posicionar o padrão no centro de vidro ITO. Clique no botão "Mark Sample" para modelar o vidro ITO ( Figura 1 A ).
  2. Configurando um gerador trifásico e conectando o microchip experimental
    1. Construa os circuitos dos inversores, como mostrado na Figura 2 A.
    2. Conecte os 4 fios no eletrodo trifásico por contato direto com a fita, como mostrado na Figura 2 C. Divida o "ChannEl 1 "do gerador de função em dois ramos usando um conector BNC duplo.
      1. Conecte um ramo ao fio (# 1) conectado ao eletrodo ITO e o outro à entrada do inversor. Conecte a saída do inversor ao fio (# 3), como mostrado na Figura 2 B.
    3. Conecte o "Canal 2" com o mesmo procedimento que no passo 1.2.2, mas conecte-se aos fios (# 2 e # 4) como mostrado na Figura 2 B.
    4. Para as experiências EROT, ajuste o deslocamento de fase entre os dois canais para 90 °, diretamente no gerador de funções. Aplique uma onda de seno a uma amplitude de tensão de 0,5-4 V pp e uma freqüência variando de 100 Hz a 5 MHz durante as experiências, como mostrado na Figura 2 D.
    5. Para as experiências DEP, conecte um ramo do Canal 1 ao fio (# 1) conectado ao eletrodo ITO e o outro aoEntrada do inversor. Conecte a saída do inversor ao fio (# 2). Conecte o Canal 2 usando o mesmo procedimento, mas conecte-se aos fios (# 3 e # 4).
    6. Defina o deslocamento de fase entre os 2 canais a 0 °, diretamente no gerador de funções. Aplique uma onda de seno a uma amplitude de tensão de 0,5-4 V pp e uma freqüência variando de 100 Hz a 5 MHz durante as experiências, como mostrado na Figura 2 D.

2. Preparação das amostras

  1. Preparação de partículas Janus
    1. Centrifugue a suspensão aquosa de partículas de sílica de 2 μm (10% p / p) a 2.200 xg durante 1 min.
    2. Pipetar 2 μL de partículas de sílica sedimentar em um tubo de microcentrífuga de 1,5 mL e adicionar 500 μL de etanol (99,5% v / v).
      NOTA: O sobrenadante não precisa ser descartado; Apenas guarde na geladeira a 4 ° C. Não é necessário ressuspender antes da pipetinaG.
    3. Sonicate a suspensão de partículas de etanol e sílica usando um ultra-som (43 kHz, 50 W) por 1 min e depois centrifugá-lo a 2,200 xg durante 3 min.
    4. Substitua o sobrenadante com 500 μL de etanol e repita o passo 2.1.3 três vezes.
    5. Substituir o sobrenadante com 8 μL de etanol e sonificar a suspensão de partículas de etanol e sílica usando um ultra-som (43 kHz, 50 W) durante 3 min.
      NOTA: Cerca de 10 μL de suspensão de partículas de etanol e sílica devem permanecer no tubo neste passo.
    6. Pipetar 2 μL de suspensão de partículas de etanol e sílica e soltá-lo em uma lâmina de vidro normal (largura: 25 mm, comprimento: 75 mm e espessura: 1,2 mm) para formar uma gota.
      Nota: Esta quantidade de suspensão de partículas é suficiente para preparar as monocamadas para 5-6 lâminas (2 μL para cada lâmina).
    7. Arraste lentamente a gota de partículas de etanol e sílica ligeiramente com uma tampa de vidro para formar uma monocamada de partículas de sílica ( Figura 3 A ).
    8. Coloque o slide com a monocamada de partículas de sílica em um dispositivo de pulverização a ser revestido com Au.
      1. Retire o ar da câmara de pulverização a 100 mTorr e injete argônio durante 10 minutos (substitua o ar por árgon). Pare de injetar argônio e, em seguida, remova o argônio da câmara a 70 mTorr.
      2. Ajuste a corrente para 15 mA por 200 s. ( Figura 3 B ); Janus partículas já estão preparadas nesta etapa.
    9. Largue 20 μL de água DI na corrediça pulverizada e raspe as partículas Janus da monocamada usando uma ponta normal de 200 μL de pipeta.
      NOTA: As partículas Janus raspadas da monocamada suspendem na gota de água DI neste passo.
    10. Pipetar a gota de partículas Janus e soltar-a em outro tubo de centrifugação de 1,5 mL.
    11. Use a suspensão de partículas Janus para preparar a amostra diluyendo-a com água DI para uma concentração adequadaPara experiências.
      NOTA: A concentração da suspensão de partículas nas experiências aqui descritas é de cerca de 2.000 contagens / μL.
  2. Preparação de partículas metálicas totalmente revestidas 14
    1. Misture a base de polímero PDMS e o agente de cura com uma proporção em peso de 10: 1.
    2. Faixa em torno da lâmina de vidro para formar as paredes laterais do recipiente. Despeje a mistura de PDMS em uma corrediça gravada para obter uma camada PDMS de 2-3 mm, como mostrado na Figura 4 A.
    3. Coloque a corrediça gravada (recipiente) com a mistura PDMS em uma câmara hermética e execute a bomba de vácuo durante 30 min para remover as bolhas na mistura PDMS.
    4. Coloque o slide gravado (recipiente) com a mistura PDMS (passo 2.2.3) no forno. Cure a mistura PDMS a 70 ° C durante 2 h para formar um selo PDMS.
    5. Depois que o selo PDMS for curado, remova o slide e a fita adesiva para obter o selo PDMS, a superfícieDos quais anexados originalmente ao slide de vidro, formando uma superfície plana, como mostrado na Figura 4 B.
    6. Siga os passos de 2.1.1-2.1.8 para preparar uma monocamada de partículas Janus em um slide.
    7. Use a superfície plana do selo PDMS para selar a monocamada com pressão uniforme.
    8. Coloque o selo PDMS com a monocamada de partículas de Janus, que é invertida da corrediça de vidro feita no passo 2.1.8, no dispositivo de pulverização a ser revestida com Au.
      1. Retire o ar da câmara de pulverização a 100 mTorr e injete argônio durante 10 minutos (substitua o ar por árgon). Pare de injetar argônio e, em seguida, remova o argônio da câmara a 70 mTorr.
      2. Ajuste a corrente para 15 mA por 200 s ( Figura 4 C ); As partículas metálicas totalmente revestidas já estão preparadas nesta etapa.
    9. Siga as etapas de 2.1.9-2.1.11 para preparar a amostra para experiências.

    3. Experimentos para medição eletroquimática AC

    1. Enrole 5 peças de película de parafina para preparar um espaçador. Combine o conjunto de eletrodos ITO com o espaçador de película de 500 μm de espessura usando uma pistola de calor e coloque o eletrodo no estágio do microscópio.
      1. Soltar 8 μL de suspensão de partículas, que foi preparada nos passos 2.1 e 2.2, no centro da matriz de eletrodos cruzados. Coloque uma tampa no espaçador.
    2. Para as experiências EROT, no gerador de funções, ajuste o deslocamento de fase entre os 2 canais para 90 °. Aplique uma onda de seno com uma amplitude de tensão de 0,5-4 V pp e uma freqüência variando de 100 Hz a 5 MHz durante os experimentos (com base na conexão nas etapas 1.2.2-1.2.3).
      1. Escolha o formulário de onda clicando no botão "forma de onda" no gerador de funções. Insira o valor de tensão e freqüência usando os botões numerados na função geNerator e, em seguida, ative o sinal de CA clicando no botão "output".
    3. Para as experiências DEP, defina a mudança de fase entre os 2 canais para 0 °. Aplique uma onda de seno a 0,5-4 V pp de amplitude de tensão e uma freqüência de 100 Hz a 5 MHz durante as experiências (com base nas conexões no passo 1.2.5) configurando o gerador de funções como no passo 3.2.1.
    4. Ligue o sinal AC clicando no botão "saída" e capture as imagens de movimento e rotação de partículas sob um microscópio óptico invertido com um objetivo 40X, NA 0.6 usando uma câmera.
    5. Insira as imagens de movimento de partículas e rotação para o software e analise a trajetória de partículas por rastreamento de partículas para obter as velocidades de partículas e angulares.
      Nota: O software "Image J" e o plugin "MultiTracker" foram utilizados aqui para a binarização de imagens e rastreamento de partículas.

Acesso restrito. Inicie sessão ou comece um teste para visualizar este conteúdo.

Resultados

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

O conjunto de eletrodos de quatro fases é criado por uma máquina de marcação a laser de fibra. A camada condutora ITO revestida no vidro é removida por um laser de foco para formar um padrão cruzado com um intervalo de 160 μm, como mostrado na Figura 1 B.

figure-results-1
Figura 1

Acesso restrito. Inicie sessão ou comece um teste para visualizar este conteúdo.

Discussão

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

A fabricação de arrays de eletrodos ITO usando a máquina de marcação a laser de fibra fornece um método rápido para preparar eletrodos com padrões arbitrários. No entanto, ainda existem algumas desvantagens para este método, como menos portadores de carga e a menor precisão de fabricação de eletrodos ITO em comparação com eletrodos metálicos criados por métodos tradicionais. Essas desvantagens podem limitar algumas experiências. Por exemplo, menos transportadores podem afetar a distribuição do campo elétrico quando há u...

Acesso restrito. Inicie sessão ou comece um teste para visualizar este conteúdo.

Divulgações

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

Os autores não têm nada a revelar.

Agradecimentos

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

Este trabalho foi apoiado pelo Ministério da Ciência e Tecnologia, Taiwan, ROC, sob Grant NSC 103-2112-M-002-008-MY3.

Acesso restrito. Inicie sessão ou comece um teste para visualizar este conteúdo.

Materiais

Lista de materiais utilizados neste artigo
NomeEmpresaNúmero de catálogoComentários
Microesfera de Sílica-2.34 µ mBangs LaboratoriesSS04N
Álcool etílico (99,5%)KATAYAMA CHEMICALE-0105
SYLGARD 184 A& B Silicone Elastomer(PDMS)DOW CORNINGPDMS 
  Tecnologia de luminescência de vidro ITOLT-G001
Máquina de marcação a laser de fibraTaiwan Tecnologia de 3 eixosTAFB-R-20W
  Gerador de função de 2 canaisGwinsekAFG-2225
Point GreyGS3-U3-32S4M-C
SputterJEOLJFC-1100E
Amplificadores OperacionaisTexas InstrumentsLM6361NOP inversor 
Limpador ultrassônicoGui Lin Yiyuan Ultrasonic Machinery Co.DG-1
MicrocentrífugaEspecialidades Científicas, Inc.
Mini CentrífugaLMSMC-MCF-2360
Tampa de vidro para microscópioMarienfeld-Superior18*18mm
Microscópio óptico invertidoOlympusOX-71 
Espaçador parafilmebemis
Câmera CMOS 1.5ml

Referências

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,
  1. Walther, A., Müller, A. H. Janus particles. Soft Matter. 4 (4), 663-668 (2008).
  2. Chen, Y. -L., Jiang, H. -R. Electrorotation of a metallic coated Janus particle under AC electric fields. Appl Phys Lett. 109 (19), 191605(2016).
  3. Zhang, L., Zhu, Y. Directed assembly of janus particles under high frequency ac-electric fields: Effects of medium conductivity and colloidal surface chemistry. Langmuir. 28 (37), 13201-13207 (2012).
  4. Gangwal, S., Cayre, O. J., Velev, O. D. Dielectrophoretic assembly of metallodielectric Janus particles in AC electric fields. Langmuir. 24 (23), 13312-13320 (2008).
  5. Zhang, L., Zhu, Y. Dielectrophoresis of Janus particles under high frequency ac-electric fields. Appl Phys Lett. 96 (14), 141902(2010).
  6. Chen, J., Zhang, H., Zheng, X., Cui, H. Janus particle microshuttle: 1D directional self-propulsion modulated by AC electrical field. AIP Adv. 4 (3), 031325(2014).
  7. Gangwal, S., Cayre, O. J., Bazant, M. Z., Velev, O. D. Induced-charge electrophoresis of metallodielectric particles. Phys Rev Lett. 100 (5), 058302(2008).
  8. Peng, C., Lazo, I., Shiyanovskii, S. V., Lavrentovich, O. D. Induced-charge electro-osmosis around metal and Janus spheres in water: Patterns of flow and breaking symmetries. Phys Rev E. 90 (5), 051002(2014).
  9. Ramos, A., García-Sánchez, P., Morgan, H. AC electrokinetics of conducting microparticles: A review. Curr Opin Colloid Interface Sci. 24, 79-90 (2016).
  10. Hong, L., Jiang, S., Granick, S. Simple method to produce Janus colloidal particles in large quantity. Langmuir. 22 (23), 9495-9499 (2006).
  11. Bhaskar, S., Hitt, J., Chang, S. W. L., Lahann, J. Multicompartmental microcylinders. Angewandte Chemie International Edition. 48 (25), 4589-4593 (2009).
  12. Nie, Z., Li, W., Seo, M., Xu, S., Kumacheva, E. Janus and ternary particles generated by microfluidic synthesis: design, synthesis, and self-assembly. J Am Chem Soc. 128 (29), 9408-9412 (2006).
  13. Jiang, H. -R., Yoshinaga, N., Sano, M. Active motion of a Janus particle by self-thermophoresis in a defocused laser beam. Phys Rev Lett. 105 (26), 268302(2010).
  14. Pawar, A. B., Kretzschmar, I. Multifunctional patchy particles by glancing angle deposition. Langmuir. 25 (16), 9057-9063 (2009).
  15. García-Sánchez, P., Ren, Y., Arcenegui, J. J., Morgan, H., Ramos, A. Alternating current electrokinetic properties of gold-coated microspheres. Langmuir. 28 (39), 13861-13870 (2012).
  16. Ren, Y. K., Morganti, D., Jiang, H. Y., Ramos, A., Morgan, H. Electrorotation of metallic microspheres. Langmuir. 27 (6), 2128-2131 (2011).
  17. Jones, T. B., Jones, T. B. Electromechanics of particles. , Cambridge University Press. Cambridge, UK. (2005).
  18. Morganti, D. AC electrokinetic analysis of chemically modified microparticles. , University of Southampton. (2012).
  19. Morgan, H., Hughes, M. P., Green, N. G. Separation of submicron bioparticles by dielectrophoresis. Biophys J. 77 (1), 516-525 (1999).
  20. Ren, Y., et al. Induced-charge electroosmotic trapping of particles. Lab Chip. 15 (10), 2181-2191 (2015).

Acesso restrito. Inicie sessão ou comece um teste para visualizar este conteúdo.

Reimpressões e permissões

Solicitar permissão para reutilizar o texto ou as figuras deste artigo JoVE

Solicitar permissão

Etiquetas

Janus ParticlesITO Electrode ArrayAC Electrokinetic MeasurementsDielectrophoresisElectrorotationFiber Laser EngravingSilica Particle MonolayerGold Sputter CoatingPDMS Stamp TransferFour Phase Electrode

Artigos relacionados