Мы описываем использование лазерного оплавления диоксид углерода техника для изготовления кремния резонаторов, в том числе свободно стоящая микросфер и встроенным microtoroids. Оплавления метод удаляет поверхностные дефекты, что позволяет долго фотон жизни в обоих устройствах. В результате устройства имеют крайне высокие коэффициенты качества, позволяя приложениям, начиная от телекоммуникаций до biodetection.
Для просмотра этого контента требуется подписка на JoVE. Войдите или начните свой бесплатный пробный период.
Методическая статья
Изготовление кремния сверхвысокой микрорезонаторов Фактор качества
В этой статье
Краткое содержание
Аннотация
Резонаторы с шепчущей галереей удерживают свет на круговых орбитах по своей периферии.1-2 Время хранения фотонов в резонаторе, количественно определяемое добротностью (Q) резонатора, может превышать 500ns для резонаторов с добротностью выше 100 миллионов. Благодаря низким потерям в материале, кварцевые микрорезонаторы продемонстрировали одни из самых длительных времен жизни фотонов на сегодняшний день1-2. Поскольку часть циркулирующего света выходит за пределы резонатора, эти устройства также могут быть использованы для зондирования окружающей среды. Такое взаимодействие позволило провести многочисленные эксперименты в биологии, такие как биодетекция единичных молекул и изучение кинетики антиген-антител, а также привело к открытиям в других областях, включая разработку микролазеров с ультранизким порогом генерации, характеризацию тонких пленок и исследования в области квантовой электродинамики резонаторов.3-7
Двумя основными геометриями кварцевых резонаторов являются микросфера и микротороид. Оба устройства создаются с помощью этапа расплавления углекислотным лазером для достижения сверхвысоких добротностей (Q>100 миллионов).1-2,8-9 Однако между этими двумя структурами существуют заметные различия. Кварцевые микросферы являются свободновисящими и поддерживаются одним оптическим волокном, тогда как кварцевые микротороиды могут быть изготовлены на кремниевой пластине в виде больших массивов с использованием комбинации этапов литографии и травления. Эти различия определяют, какое устройство будет оптимальным для конкретного эксперимента.
Здесь мы представляем подробные протоколы изготовления обоих типов резонансных резонаторов. В то время как изготовление микросферных резонаторов достаточно простое, создание микротороидальных резонаторов требует дополнительного специализированного оборудования и условий (чистого помещения). Следовательно, это дополнительное требование также может повлиять на выбор устройства для конкретного эксперимента.
Введение
Оптический резонатор эффективно удерживает свет на определенных длинах волн, известных как резонансные длины волн устройства. 1-2 Общим показателем эффективности для таких оптических резонаторов является добротность или Q-фактор. Этот термин описывает время жизни фотона (τo) внутри резонатора, которое напрямую связано с оптическими потерями резонатора. Следовательно, оптический резонатор с высокой добротностью характеризуется низкими оптическими потерями, длительным временем жизни фотонов и очень низкой скоростью их распада (1/τo). Благодаря длительному времени жизни фотонов в этих устройствах можно достичь чрезвычайно высокой интенсивности циркулирующего оптического поля. Это уникальное свойство позволило использовать данные устройства в качестве лазерных источников и интегрированных биосенсоров.10
Уникальным подклассом резонаторов являются оптические микрорезонаторы с модами шепчущей галереи. В этих устройствах свет удерживается на круговых орбитах по периферии. Следовательно, поле не ограничено полностью внутри устройства, а затухает (эванесцентно проникает) в окружающую среду. Оптические резонаторы с модами шепчущей галереи на сегодняшний день демонстрируют одни из самых высоких значений добротности среди всех типов оптических резонансных полостей.9,11 Благодаря этому данные устройства широко применяются в науке и технике, включая исследования в области фундаментальной физики, телекоммуникации, а также эксперименты по биодетекции. 3-7,12
Оптические микрорезонаторы могут быть изготовлены из широкого спектра материалов и иметь самое разнообразное строение. В качестве примеров можно привести микротороиды из кварца и кремния, микродиски из кремния, нитрида кремния и кварца, микростолбики, а также микрокольца из кварца и полимеров.13-17 Диапазон значений добротности (Q) варьируется так же значительно, как и геометрия. Хотя и геометрия, и высокая добротность Q являются важными аспектами в любой области, во многих приложениях гораздо больше возможностей для повышения производительности устройства именно за счет увеличения Q. Среди многочисленных вариантов, описанных ранее, микросферные и микротороидальные резонаторы из кварца достигли одних из самых высоких значений добротности Q на сегодняшний день.1,9 Кроме того, благодаря чрезвычайно низким оптическим потерям в кварце в диапазоне от видимого до ближнего ИК-излучения, и микросферы, и микротороиды способны сохранять свои значения добротности Q в широком диапазоне рабочих длин волн.18 Наконец, поскольку кварц по своей природе биосовместим, он регулярно используется в экспериментах по биодетекции.
Помимо высокого поглощения материалом, существуют и другие потенциальные механизмы потерь, включая шероховатость поверхности, радиационные потери и потери из-за загрязнения.2 Путем оптимизации размеров устройства можно исключить радиационные потери, возникающие из-за недостаточного удержания оптического поля внутри устройства. Аналогичным образом, хранение устройства в соответствующим образом чистой среде позволяет минимизировать загрязнение поверхности. Таким образом, наряду с потерями в материале, основным значимым механизмом потерь является поверхностное рассеяние.2,8
В устройствах из кварцевого стекла поверхностное рассеяние сводится к минимуму с помощью метода лазерного оплавления, при котором кварц плавится за счет рефлоу, вызванного поверхностным натяжением. Хотя сферические оптические резонаторы изучались на протяжении многих лет, только благодаря последним достижениям в технологиях изготовления исследователи смогли создавать высококачественные кварцевые тороидальные микрорезонаторы (Q>100 миллионов) на кремниевой подложке, что открыло путь к их интеграции с микрофлюидикой.1
В данной серии протоколов подробно описывается процесс изготовления резонансных резонаторов в виде силикатных микросфер и микротороидов. В то время как использование силикатных микросферных резонаторов является общепризнанным методом, микротороидальные резонансные резонаторы были изобретены совсем недавно.1 Поскольку многие из основных методов, используемых для изготовления микросфер, также применяются в более сложной процедуре изготовления микротороидов, объединение обоих методов в одном протоколе позволит исследователям легче выявлять и устранять ошибки в своих экспериментах.
Протокол
1. Изготовление микросфер
- Выберите небольшое количество (около 5 см) оптического волокна, ленты ~ 1.5 "оболочка из одного конца и очистить либо метанол или этанол (рис. 1а, б).
- Если возможно, расщепляют конец с оптическим волокном нож. Если нет, вырезать с кусачками или ножницами так, что ~ 0.5 "не осталось. Преимущество использования оптических волокон ножа является то, что он производит очень гладкой, однородной сокращения как показано на рисунке 1b. Чрезмерное шероховатостей и дефектов от разреза может привести к неравномерность оплавления, снижение добротности результате сферах.
- Предоставьте очистку волокна конец 3W СО 2-лазер мощностью сосредоточены на ~ 500 мкм размер пятна диаметром ~ 1 секунду (рис. 1в, г, е). Это приводит к сфере ~ 200 мкм в диаметре, однако размер может быть настроен путем увеличения или уменьшения диаметра оптического волокна. Немного настройки интенсивности лазерного излучения может бэлектронная необходимо оплавления большей или меньшей сферы.
2. Изготовление Microtoroid
- Разработать и внести фотошаблонов с темными твердыми кругами, в расстояние и диаметр по вашему выбору. Важно отметить, что торы производства будет на 25-30% меньше, чем круги на маску. Например, твердый круг диаметром 100 микрон будет производить тороид диаметром около 75 мкм. Кроме того, рекомендуется оставить по крайней мере 1-2мм расстояние между каждым кругом и не менее 5 мм свободного пространства между массивами кругах и по краям маски. Поскольку образец пластины должны быть тщательно обработаны с помощью пинцета, важно, чтобы оставить место для пинцет для захвата, не повреждая сердечниками. Дополнительное пространство также предоставляет возможность для конических оптического волокна пару света в готовой устройств, и позволяет образцы быть сокращены на более мелкие массивы более легко. Для этой процедуры, мы использовали маски с рядами 160 мкм диameter кругах ~ 1 мм друг от друга, с ~ 5 мм, расстояние между каждой строке кругах. Готовый тороидов около 110 мкм в диаметре.
- Начните с кремниевых пластин с 2 мкм слоя термически выращенные кремнезема. Клив пластин по размеру желаемого microdisk узор на фотолитографии маски, оставляя место для фоторезиста край борта. Обратите внимание, что в начале производства, как правило, наиболее удобным для травления несколько массивов круги на большие куски кремниевых пластин (~ нескольких см х несколько см). Большие пластины позволяют фотолитографии и травления Англии больше образцов за один раз, и более легко обрабатываются с помощью пинцета. Позже, перед травлением XeF 2 шага, рекомендуется для расщепления больших пластин на более мелкие массивы, чтобы быстрее, более равномерное XeF 2 травления.
- В fumehood, тщательно очистить пластин путем промывания ацетон, метанол, изопропиловый спирт и дистиллированной воды. Удар образцов вытрите азота или фильтруется Compressed пневматического оружия, и разместить их на горячей плите установлена в 120 ° C в течение 2 минут, чтобы высохнуть.
- Дав пластин прохладно, поместите их в горючий / растворитель fumehood и подвергать HMDS в течение 2 минут с помощью метода осаждения паров. Простой метод осаждения из газовой фазы: нанести несколько капель HMDS в маленьком стакане 10 мл, а затем покрытие пластин и небольшой стакан с большой стеклянной тары для хранения пар.
- Поместите образец на счетчике с соответствующего размера гору. С помощью бутылки пипетки или шприца и фильтра, примените фоторезиста к образцу. Спиновая слой фоторезиста S1813 на каждого образца в течение 5 секунд на 500rpm, а затем на 45 секунд при 3000 оборотов в минуту. Пограничный шарик удаление не требуется, если пластины достаточно большой, чтобы края шарика не влияет на кучность стрельбы.
- Мягкие выпекать фоторезиста на горячей плите при температуре 95 ° С в течение 2 минут.
- Использование УФ-выравниватель маски и желаемого фотошаблонов, подвергать фоторезиста покрытые образцыВсего 80mJ/cm 2 УФ-излучения.
- Погрузитесь образцов в MF-321 разработчиков для удаления фоторезиста который подвергается ультрафиолетовому излучению. В то время как развивающиеся, внимательно смотреть, как фоторезист удаляется с пластины и растворился. Важно, чтобы вызвать / свист контейнера постоянно во время этого процесса для обеспечения фоторезиста удаляется равномерно. По заданным параметрам, фоторезиста занимает около 30 секунд, чтобы развиваться.
- Когда большинство нежелательных фоторезиста растворился в разработчика, промойте образцы тщательно под проточной водой, аккуратно сушить образцов с использованием азота или пневматический пистолет и проверить образцы под микроскопом, чтобы убедиться, что все нежелательные фоторезист был удален. При необходимости образцы могут быть погружены снова разработчика, однако, следует быть осторожным, чтобы не передержать образцов в качестве искомой модели фоторезиста также может быть поврежден. (Если нужный шаблоны поврежденные или дефектные, фоторезист может бытьудалить с помощью ацетона и шаги 2.1-2.9 может быть повторена еще раз).
- После разработки, тщательно промыть образцов в проточной воде, осторожно сушить образцы, и трудно испечь их на горячей плите при температуре 110 ° С в течение 2 минут. Этот шаг нагревает фоторезиста выше его температуры стеклования, оплавлении фоторезиста и частично ремонт шероховатости, которые произошли в процессе разработки.
- Использование контейнеров тефлон и необходимых защитных средств, погрузить образцы в буфере улучшение оксида травителя (BOE). BOE содержит HF, который вытравливает кремния не распространяется фоторезиста для формирования круговой прокладки кремния на кремниевой подложке (рис. 2а-в). Улучшенная буферной HF дает более гладкую травления, минимизируя неровности в результате кругах кремнезема. Хотя это можно смешивать буферной HF, начиная с 49% HF, это может привести к весьма различные результаты, как правило, только в небольших количествах производятся.
- Примерно через 15-20 минут (гepending о структуре, размер выборки и количества образцов), удалить образцы из Англии использование тефлоновых пинцетом. Тщательно промойте образцов в проточной воде. Кремния был удален, когда образцы становятся гидрофобными.
- После травления, промывки и сушки образцов, проверять их с помощью оптического микроскопа. Убедитесь, что желаемые модели были выгравированы совершенно и все нежелательные кремния был удален. В случае необходимости, вернуть образцы Англии для дальнейшего травления. Надо быть осторожным, чтобы не overetch образцов, или круговой модели под фоторезистом могут быть повреждены.
- После травления Англии завершена, тщательно промыть образцов в дистиллированной воде и сушить. Если образцы находятся на большие куски кремниевых пластин, также рекомендуется сократить их (с помощью пилы или перетасовки алмаз писец) на более мелкие части с отдельными строками кремнезема кругах. Индивидуальные ряды круги травления быстро и равномерно в XeF2 этап травления (2.16). Кремний пыли, образовавшейся при резке удалены во время уборки в следующем шаге.
- Удаление фоторезиста путем промывания ацетон, метанол, изопропиловый спирт и дистиллированной водой, и высушить образцы помощью пистолета азота и отопление на 120 ° C горячая пластина, по крайней мере 2 минуты.
- Использование гравер XeF 2, подорвать кремния под круговой прокладки кремния и диоксида кремния образуют microdisks (Рис. 2d-е). Сумма травление должно быть примерно 1/3 от размера кремнезема круг, так что столб в результате microdisk составляет примерно 1/3-1/2 от общего диаметра диска, как это определено осмотр с помощью оптического микроскопа. Количество XeF 2 импульсов и длительность каждого импульса зависит от количества кремния в камере и типа XeF 2 гравер используется.
- После XeF 2 травления, подвергать образцы направлены CO 2-лазера примерно в 12W интенсивности ~ 3 секунд или до получения однородной тороид формируется (рисунок 2г-я). В зависимости от точного размера диска и количества XeF 2 подрезать, чуть выше или ниже интенсивности и времени воздействия могут быть необходимы, чтобы сформировать microtoroid. Важно, что центр лазерного луча и центр microdisk выровнены так, что кремний microdisk образуют гладкие, круглые microtoroid.
3. Представитель Результаты
Микросфер и microtoroid устройства могут быть отображены с использованием как оптической микроскопии и сканирующей электронной микроскопии (рис. 1д, е, рис 2 часа, я). Во всех изображений, однородность поверхности устройства является очевидной.
Чтобы убедиться, что детальный подход создает ультра-высокой добротностью устройств, мы также характеризуются добротностью несколько устройств, выполняя ширины линии (Δλ) измерения и вычисления загруженныхВопрос от простого выражения: Q = λ / Δλ = ωτ, где λ = резонансная длина волны, ω = частота, а τ = жизни фотона. Представитель спектры каждого устройства изготовлены с использованием ранее подробные процедуры 1,9 и сравнение графика несколько устройств показано на рисунке 3. Добротности все устройства выше 10 млн., при этом большинство из которых свыше 100 миллионов долларов.
Спектр микросфер был один резонанс, о том, что свет в сочетании либо по часовой стрелке или против часовой стрелки, распространяющегося оптического режима. Тем не менее, спектр тороид выставлены раскол резонанс, о том, что свет в сочетании как по часовой стрелке и против часовой стрелки режимах одновременно. Это явление происходит, когда есть небольшой дефект в связи сайта. Установив спектра двойного Лоренца, добротность обоих режимах можно определить. Явление резонанса расколпа может происходить в обоих сфере и тороид резонаторов, но чаще наблюдается в тороидов, поскольку они более восприимчивы к несовершенства и меньше оптических мод по сравнению с сферах.
Рисунок 1. Схема микросфер процесс изготовления полости. а) оказание б) оптического микроскопа в очистке и расщепляется оптического волокна. с) Оказание, г) оптического микроскопа и электронной) сканирующей электронной микрофотографии microspere резонатора.
Рисунок 2. Блок-схема microtoroid процесс изготовления полости. а) оказание, б) верхний зрения оптического микроскопа, в) вид сбоку сканирующего электронного микроскопа круговой площадки оксид, определенного с помощью фотолитографии и травления Англии. Обратите внимание на небольшой клиновидной форме оксида, которая формируется в Англии. д) оказание, е), верхний зренияоптического микроскопа и е) вид сбоку сканирующего электронного микроскопа оксидной площадку после травления XeF 2 шага. Обратите внимание, что диск содержит оксид клиновидный периферии. г) оказание, ч) наверх зрения оптического микроскопа и я), вид сбоку сканирующей электронной микрофотографии microtoroid полости.
Рисунок 3. Представитель добротность спектров) микросфер и б) microtoroid резонаторов, как определяется с использованием метода измерения ширины. В очень высоких устройства Q, можно наблюдать в режиме расщепления или двойной пик, в которой свет отражается от небольшого дефекта и циркулирует по часовой и против часовой стрелки направления. в) Сравнение график добротности несколько микросфер и microtoroid резонаторов. Нажмите здесь для увеличения рисунка .
Рисунок 4. Схема СО 2-лазера оплавления настройки. СО 2-лазера луч (сплошная синяя линия) находит свое отражение, а затем направлены на образец. Она проходит через 10,6 мкм / 633 нм луч комбайнера, который передает 10,6 мкм и отражает 633 нм. Оптических изображений колонке отражения образца прочь комбайнера луч, поэтому изображение немного красного. Список необходимых частей для этой установки в таблице 4.
Рисунок 5. Неправильно reflowed) микросфер и б) microtoroid резонаторов. Из-за неправильного размещения в пучке, устройство мал сформирован. в) В результате бедные фотошаблонов или плохой литографии, тороида в форме полумесяца.
Доступ ограничен. Войдите в систему или начните пробный период, чтобы просмотреть этот контент.
Обсуждение
Как и в любой оптической структуры, поддержание чистоты на каждом этапе производственного процесса имеет решающее значение. Поскольку существует множество учебников, написанных на тему литографии и производства, предложения ниже, не претендует на полноту, но выделить несколько наиболее распространенных вопросов, с которыми сталкиваются исследователи. 19-20
Потому что равномерность периферии microtoroid определяется по однородности начального диск, очень важно, чтобы картина очень ...
Доступ ограничен. Войдите в систему или начните пробный период, чтобы просмотреть этот контент.
Раскрытие информации
Нет конфликта интересов объявлены.
Благодарности
А. Maker был поддержан Фондом Анненберга Высшее исследовательский грант, и эта работа была поддержана Национальным Научным Фондом [085281 и 1028440].
Доступ ограничен. Войдите в систему или начните пробный период, чтобы просмотреть этот контент.
Материалы
| Имя | Компания | Каталожный номер | Комментарии |
|---|---|---|---|
| Название части | Компания | Номер по каталогу | Комментарии |
| Волоконно писец | Ньюпорт | F-RFS | Необязательный |
| Оптоволокно | Ньюпорт | F-SMF-28 | Любой тип оптического волокна могут быть использованы. |
| Зачистки волокон покрытие | Ньюпорт | F-STR-175 | Устройства для зачистки проводов также может быть использована |
| Этанол | Любой поставщик | Растворителей уровня чистоты | Метанол или изопропанол являются заменителями |
Таблица 1. Микросферы Материалы изготовление.
| Название реагента | Компания | <сильный Номер по каталогу> | Комментарии |
|---|---|---|---|
| Кремниевые пластины с 2 мкм термически выращенные кремния | WRS материалы | н / д | Мы используем внутренние 8, <100>, 4 ", диаметр |
| HMDS (гексаметилдисилазан) | Aldrich | 440191 | |
| Фоторезист | Шипли | S1813 | |
| Разработчик | Шипли | MF-321 | |
| Буферизацией HF - Улучшенный | Transene | н / д | Улучшение буферной HF дает более гладкую, более высокое качество травления, чем простой Англии или HF |
| Ацетон, метанол, изопропанол | Любой поставщик | 99,8% чистоты |
Таблица 2. MICRotoroid материалов Производство.
| Название оборудования | Производитель | Номер по каталогу | Комментарии |
|---|---|---|---|
| Прядильщик | Solitec | 5110-ND | Любой счетчик может быть использован. |
| Aligner | Суссе Microtec | ГСК 3 | Любой выравниватель могут быть использованы. |
| XeF 2 гравер | Advanced Communication Devices, Inc | # ADCETCH2007 |
Таблица 3. Microtoroid изготовление оборудования.
| Название части | Компания | Номер по каталогу | Комментарии |
|---|---|---|---|
| CO 2 Лазерная | Synrad | Серии 48 | |
| 3-осные этап | OptoSigma | 120-0770 | Наличие других производителей, а также. |
| Si отражатель 1 "в диаметре) | II-VI | 308325 | Наличие других производителей, а также. |
| Кинематическая карданного крепления (для Si отражателя) | Thor Labs | KX1G | Наличие других производителей, а также. |
| Луч комбайнера (1 "в диаметре) | Меллер оптики | L19100008-B0 | Наличие других производителей, а также. |
| 4 "фокусным расстоянием (1" в диаметре) | Меллер оптики или II-VI | Наличие других производителей, а также | |
| Набор сообщений, объектив крепления | Thor Labs, Ньюпорт, Эдмунд оптики или Optosigma | ||
| Увеличить 6000 системы машинного зрения | Navitar | н / д | Необходим общий камера USB и компьютера в режиме реального времени изображения. Это приобретается в комплекте. |
| Сосредоточитель для увеличения System 6000 | Эдмунд оптики | 54-792 | Наличие других производителей, а также. |
| XZ оси Позиционеры для увеличения 6000 | Паркер затейливые | CR4457, CR4452, 4499 | CR4457 X-оси, CR4452 Z-оси, 4499 в монтажный кронштейн. |
Таблица 4. СО 2-лазера Reflow настройки.
Ссылки
- Armani, D. K., Kippenberg, T. J., Spillane, S. M., Vahala, K. J. Ultra-high-Q toroid microcavity on a chip. Nature. 421, 925-928 (2003).
- Gorodetsky, M. L., Savchenkov, A. A., Ilchenko, V. S. Ultimate Q of optical microsphere resonators. Optics Letters. 21, 453-455 (1996).
- Armani, A. M., Kulkarni, R. P., Fraser, S. E., Flagan, R. C., Vahala, K. J. Label-Free, Single-Molecule Detection with Optical Microcavities. Science. 317, 783(2007).
- Choi, H. S., Ismail, S., Armani, A. M. Studying polymer thin films with hybrid optical microcavities. Optics Letters. 36, 2152-2154 (2011).
- Aoki, T. Observation of strong coupling between one atom and a monolithic microresonator. Nature. 443, 671-674 (2006).
- Hsu, H. -S., Cai, C., Armani, A. M. Ultra-low threshold Er:Yb sol-gel microlaser on silicon. Optics Express. 17, 23265(2009).
- Zhu, J. On-chip single nanoparticle detection and sizing by mode splitting in an ultrahigh-Q microresonator. Nature Photonics. 4, 46-49 (2009).
- Zhang, X., Choi, H. -S., Armani, A. M. Ultimate quality factor of silica microtoroid resonant cavities. Applied Physics Letters. 96, 153304(2010).
- Vernooy, D. W., Ilchenko, V. S., Mabuchi, H., Streed, E. W., Kimble, H. J. High-Q measurements of fused-silica microspheres in the near infrared. Optics Letters. 23, 247-249 (1998).
- Saleh, B. E. A., Teich, M. C. Fundamentals of Photonics. , 2nd edn, Wiley-Interscience. (2007).
- Ilchenko, V. S. Crystal quartz optical whispering-gallery resonators. Optics Letters. 33, 1569-1571 (2008).
- Soteropulos, C., Hunt, H., Armani, A. M. Determination of binding kinetics using whispering gallery mode microcavities. Applied Physics Letters. 99, 103703(2011).
- Barclay, P. E., Srinivasan, K., Painter, O., Lev, B., Mabuchi, H. Integration of fiber-coupled high-Q SiNx microdisks with atom chips. Applied Physics Letters. 89, (2006).
- Srinivasan, K., Painter, O. Mode coupling and cavity-quantum-dot interactions in a fiber-coupled microdisk cavity. Physical Review. A. 75, (2007).
- Xu, Q. F., Lipson, M. All-optical logic based on silicon micro-ring resonators. Optics Express. 15, 924-929 (2007).
- Martin, A. L., Armani, D. K., Yang, L., Vahala, K. J. Replica-molded high-Q polymer microresonators. Optics Letters. 29, 533-535 (2004).
- Chao, C. Y., Guo, L. J. Polymer microring resonators fabricated by nanoimprint technique. Journal of Vacuum Science Technology B. 20, 2862-2866 (2002).
- Armani, A. M., Armani, D. K., Min, B., Vahala, K. J., Spillane, S. M. Ultra-high-Q microcavity operation in H2O and D2O. Applied Physics Letters. 87, 151118(2005).
- Kovacs, G. T. A. Micromachined Transducers Sourcebook. , McGraw Hill. (1998).
- Kovacs, G. T. A., Maluf, N. I., Petersen, K. E. Bulk Micromaching of Silicon. Proceedings of the IEEE. 86, 1536-1551 (1998).
Доступ ограничен. Войдите в систему или начните пробный период, чтобы просмотреть этот контент.
Перепечатки и разрешения
