Есть несколько способов изготовления нанометрических зазоров с контролируемым расстояния, но точный контроль над субнанометровым расстояние между двумя электродами и их генерации в практических количествах-прежнему сложным. Подготовка нанометрических зазоров электродов использованием nanoskiving, которая является одной из форм краю литография, это быстрый, простой и мощный метод. Этот способ полностью механический процесс, который не включает в себя фото-или электронно-лучевой литографии и шаги не требует специального оборудования или инфраструктуры, такой как чистые номера. Nanoskiving используется для изготовления электрически адресуемого нанометрических зазоров с контролем всех трех измерениях; наименьший размер этих структур определяется толщина удаляемого слоя (Al или Ag) или самоорганизующихся монослоев. Эти провода можно вручную позиционируется транспортировки их на капли воды и непосредственно электрически адресацией; не дальше, литографии не требуется подключить их кэлектрометра.