Создание массивов с помощью оптических насыщающихся переходов - Изготовление и характеристика
11 декабря 2014 г.
6.3K просмотров
Мы сообщаем, что дифракционный предел обычной оптической литографии может быть преодолен за счет использования переходов органических фотохромных производных, вызванных их фотоизомеризацией при низких интенсивностях света. 1-3 В данной статье описывается наша технология изготовления и два механизма блокировки, а именно: растворение одного фотоизомера и электрохимическое окисление.