U2O5 фильм подготовка через UO2 осаждения путем распыления постоянного тока и последовательных окисления и сокращения с атомарного кислорода и атомарного водорода

7.7K просмотров

Цитируется: 1

12:05 мин.

21 февраля 2019 г.

10.3791/59017-v

21 февраля 2019 г.

7.7K просмотров

Этот протокол свидетельствует подготовка U2O5 тонких пленок полученные в situ под ультра-высокого вакуума. Этот процесс включает окисления и сокращение UO2 фильмов с атомарного кислорода и атомарный водород, соответственно.

Больше видео

DC

Chapters in this video

0:04

Title

1:06

The Labstation Modular Machine

2:11

Introduction of the Sample and Sample Holder into the Labstation

3:10

Transfer the Sample Holder to the Preparation Chamber

4:03

In situ Cleaning of the Sample Holder and Sample Holder Characterization

5:39

Deposition of a UO2 Thin Film

6:50

UO2 Sample Characterization

7:38

Oxidation of UO2 with Atomic Oxygen and Analysis of the UO3 Obtained

8:52

Reduction of UO3 by Atomic Hydrogen and Analysis of the U2O5 Obtained

9:45

Results: Identification of Uranium(V) in Thin Films

10:51

Conclusion

Related Videos