Эпитаксисные наноструктурированные α-кварцевые фильмы о кремнии: от материала к новым устройствам

4.4K просмотров

Цитируется: 2

11:34 мин.

6 октября 2020 г.

10.3791/61766-v

6 октября 2020 г.

4.4K просмотров
 ,  ,  ,  , 

Эта работа представляет собой подробный протокол для микрофабрики наноструктурированных α-кварцевой кантилевер на Силиконово-On-Insulator (SOI) технологии субстрата, начиная с эпитаксиального роста кварцевой пленки с методом погружения покрытия, а затем наноструктурации тонкой пленки с помощью наноимпринтной литографии.

Больше видео

Эпитаксиальные кварцевые пленки

Chapters in this video

0:05

Introduction

0:54

Preparation of PDMS Templates and Gel Film Deposition on SOI Substrates by Dip-Coating

2:55

Surface Micro/Nanostructuration by Soft Imprint Lithography and Gel Film Crystallization by Thermal Treatment

4:00

Preparing and Patterning of the Quartz Samples for the Cantilever Microfabrication Process

8:49

Results: Qualitative Analysis of the Progressive Epitaxial Nanostructured α-Quartz Film Thickness Developed on Silicon

10:20

Conclusion

Related Videos