Name: Fabbricazione di matrici Nanocup oro periodica mediante Litografia colloidale (Video) | JoVE Journal
Uploaded: 2017-09-02T13:00:00.000+00:00
Duration: 8 min 21 s
Description: Scopri la fabbricazione di matrici nanocup oro periodiche mediante litografia colloidale per nanotecnologia plasmonica. Questa tecnica a basso costo consente di ottenere film flessibili e trasparenti con applicazioni nel sensing chimico e nei fotovoltaici.

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Questa ricerca è stata eseguita presso laboratorio nazionale Pacific Northwest (PNNL), che è funzionato dal Battelle Memorial Institute per il Department of Energy (DOE) sotto contratto no. DE-AC05-76RL01830. Gli autori riconoscono con gratitudine supporto dal U.S. Department of State, attraverso il tasto verifica patrimonio (fondo V) sotto Interagency accordo SIAA15AVCVPO10.

1. preparazione dei materiali <ol><li>inserire diversi wafer di silicio di 2 pollici in un vettore di quarzo per la pulizia e caricare i wafer di silicio nel plasma etching sistema. Svuotamento della camera del vuoto fino a raggiungere almeno 75 mTorr. Questo potrebbe richiedere alcuni minuti.</li>
	<li>Per avviare il flusso di gas di O 2 (30 sccm) e consentire la pressione si stabilizzi. Impostare il tempo di etch a 15 min. Una volta che la pressione dell'alloggiamento ha stabilizzato avviare il plasma di radiofrequenza (RF) 13,56 MHz 250 W. 
	Nota: Questo passaggio pulisce i wafer di silicio di qualsiasi organico contamina e functionalizes la superficie con idrossilati (-OH) garantendo una superficie idrofila moiety.</li>
	<li>Mentre in attesa per la pulizia al plasma passo per finire, rimuovere le nanosfere di polistirolo acquistate in commercio (170 nm di diametro, 10% di solidi, 0,5% sodio dodecil solfato) dal frigorifero (4 ° C). Consentire il contenitore a temperatura ambiente.</li>
	<li>Brevemente vortice (1 min) e Sonicare (35 kHz, 1 min) il polistirolo nanosfere per minimizzare nanosphere agglomerazione.</li>
	<li>In un flacone di vetro pulito, misurare 1,0 mL dei 170 nm polistirolo nanosfere e aggiungere 1,0 mL di H 2 O per ottenere una sospensione colloidale di 5% solidi.</li>
	<li>Dopo 15 min, fermare il flusso di O 2, sfogare la camera a vuoto e rimuovere i wafer appena puliti.</li>
</ol> 2. Rivestimento per rotazione del polistirolo nanosfere modello <ol><li>Scarica il silicio pulito wafer dall'incisore al plasma. Poi montare un wafer di 2 pollici sulla spin-coater. Assicurarsi che sia correttamente centrato e che l'o-ring sia libera da eventuali detriti. Avviare il vuoto e verificare che la cialda è saldamente alla fase.</li>
	<li>Impostare i parametri di rotazione di spin-coater. Questi parametri variano in base alla dimensione di nanosfere. Per una soluzione di 5% 170 nm nanosfere, impostare la spin-spalmatrice a un processo di 1 passaggio con un tempo di rotazione di 1 min, una velocità di 3.000 giri/min e un'accelerazione di 2.000 giri/min/s.</li>
	<li>Utilizzando una siringa monouso, ritirare ~ 1 mL di sospensione colloidale dal flaconcino. Mettere da parte il flaconcino. Prendere una siringa filtro 5 µm e metterla all'estremità della siringa. Deprimere la siringa fino a quando una goccia di sospensione Cancella la punta. Il filtro rimuove indesiderati aggregati e particolato che può ridurre significativamente la qualità della pellicola.</li>
	<li>Cassetta abbastanza sospensione direttamente sul centro del wafer tale che circa 2/3 della superficie è coperto. Tenta di ridurre al minimo le bolle perché quelli possono influenzare la qualità della pellicola. Chiudere il coperchio di spin coater e premere Start. Durante questo processo, è possibile vedere gli effetti di interferenza a film sottile sulla superficie del wafer come le nanosfere assemblarsi. Questo varia in base al diametro nanosphere.</li>
	<li>Rimuovere la cialda spin-rivestito dopo la disattivazione del vuoto. Pulire la ciotola e coperchio di spin-coater per rimuovere l'eccesso nanosfere.</li>
</ol> 3. Valutazione della qualità e preparazione per incisione della pellicola <ol><li>valutare visivamente la qualità del film auto-assemblati mediante la ricerca di difetti evidenti come striature o buchi che potrebbero essere stati causati dal particolato durante il processo di rivestimento per rotazione.</li>
	<li>Valutare la qualità del film inserendo il wafer sotto un microscopio ottico. Contorni di grano e alcuni difetti sono normali. Se la cialda ha grandi aree non rivestiti o multistrati ovvi, è necessario regolare i parametri di rotazione per ottenere una pellicola più uniforme. Microscopia elettronica può anche essere utilizzata per valutare la qualità del film.</li>
	<li>Attivare la sorgente di luce al microscopio e messa a fuoco sulla superficie del wafer di silicio utilizzando un obiettivo X 20. Valutare la qualità in diversi punti in tutta la cialda per assicurare uniformità.</li>
	<li>La qualità finale del film verifica consiste nell'utilizzare la microscopia elettronica a scansione (SEM) per visualizzare il trattamento nanosphere auto-assemblaggio su nanoscala. È possibile valutare il grado di multistrati, fori e grano limiti/difetti attraverso piccole porzioni del wafer relativamente rapidamente utilizzando questa tecnica.</li>
	<li>Una volta ottenuta una pellicola sufficiente, posizionare la cialda in un forno (107 ° C) per 2 min temprare le nanosfere auto-assemblate. Questo aiuta a incoraggiare l'adesione al substrato e produce una superficie nanostrutturata meglio dopo acquaforte.</li>
</ol> 4. Acquaforte, deposizione di metallo e caratterizzazione ottica <ol><li>caricare la cialda ricotta nell'incisore al plasma e avviare la pompa giù processo.</li>
	<li>Una volta che la camera a vuoto raggiunge almeno 75 mTorr, iniziare il flusso di gas di O 2 (20 sccm) e attendere che la pressione si stabilizzi. Avviare il plasma RF (75 W) per 165 s.</li>
	<li>Una volta completato il ciclo di plasma RF, fermare il flusso di O 2 e sfiatare la camera.</li>
	<li>Il substrato è ora incisa e pronta per la deposizione dei metalli. L'esempio di una macchina a polverizzazione di trasportare e depositare un sottile (20 nm) strato di oro. Variando gli angoli di deposizione può essere utilizzato per modificare le proprietà ottiche della nanocups. In questo caso, è stata eseguita la deposizione dei metalli normalmente incidente al substrato.</li>
	<li>Dopo la deposizione del metallo, il substrato può essere caratterizzato usando spettroscopia ottica. Focus microspectrophotometer sulla superficie del substrato metallizzato e misurare gli spettri di riflettanza. Per 170 nm inciso nanosphere matrici, la LSPR era a 615 nm.</li>
	<li>Nastro adesivo sensibile alla pressione di utilizzo, posizionare delicatamente la pellicola a contatto con il substrato. Può essere necessario rimuovere eventuali bolle d'aria che formata all'interfaccia utilizzando una pinzetta.</li>
	<li>Una volta che il nastro è in contatto con il substrato, il nastro può essere immediatamente stacca per rimuovere il nanocups dalla superficie del substrato. Delicatamente la buccia indietro il nastro e il risultato è un film flessibile e conformal di oro nanocups.</li>
</ol>

<ol><li>Fang, Y., Sun, M. <a target="_blank" href="https://www.nature.com/lsa/journal/v4/n6/full/lsa201567a.html">Nanoplasmonic waveguides: towards applications in integrated nanophotonic circuits.</a> Light Sci Appl. 4, e294(2015).</li>
<li>Li, J. F., Anema, J. R., Wandlowski, T., Tian, Z. Q. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Dielectric+shell+isolated+and+graphene+shell+isolated+nanoparticle+enhanced+Raman+spectroscopies+and+their+applications%5BTitle%5D)+AND+%22Chemical+Society+Reviews%22%5BJournal%5D)">Dielectric shell isolated and graphene shell isolated nanoparticle enhanced Raman spectroscopies and their applications.</a> Chemical Society Reviews. 44 (23), 8399-8409 (2015).</li>
<li>Wang, L., et al. <a target="_blank" href="http://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/acsphotonics.5b00725">Large Area Plasmonic Color Palettes with Expanded Gamut Using Colloidal Self-Assembly.</a> ACS Photonics. , (2016).</li>
<li>Taylor, A. B., Michaux, P., Mohsin, A. S. M., Chon, J. W. M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Electron-beam+lithography+of+plasmonic+nanorod+arrays+for+multilayered+optical+storage%5BTitle%5D)+AND+%22Optics+Express%22%5BJournal%5D)">Electron-beam lithography of plasmonic nanorod arrays for multilayered optical storage.</a> Optics Express. 22 (11), 13234-13243 (2014).</li>
<li>Endo, H., Mochizuki, Y., Tamura, M., Kawai, T. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Fabrication+and+Functionalization+of+Periodically+Aligned+Metallic+Nanocup+Arrays+Using+Colloidal+Lithography+with+a+Sinusoidally+Wrinkled+Substrate%5BTitle%5D)+AND+%22Langmuir%22%5BJournal%5D)">Fabrication and Functionalization of Periodically Aligned Metallic Nanocup Arrays Using Colloidal Lithography with a Sinusoidally Wrinkled Substrate.</a> Langmuir. 29 (48), 15058-15064 (2013).</li>
<li>Wang, H., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Symmetry+breaking+in+individual+plasmonic+nanoparticles%5BTitle%5D)+AND+%22Proceedings+of+the+National+Academy+of+Sciences%22%5BJournal%5D)">Symmetry breaking in individual plasmonic nanoparticles.</a> Proceedings of the National Academy of Sciences. 103 (29), 10856-10860 (2006).</li>
<li>Wollet, L., et al. <a target="_blank" href="https://www.osapublishing.org/ome/abstract.cfm?uri=ome-2-10-1384">Plasmon hybridization in stacked metallic nanocups.</a> Optical Materials Express. 2 (10), 1384-1390 (2012).</li>
<li>Duempelmann, L., Casari, D., Luu-Dinh, A., Gallinet, B., Novotny, L. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Color+Rendering+Plasmonic+Aluminum+Substrates+with+Angular+Symmetry+Breaking%5BTitle%5D)+AND+%22ACS+Nano%22%5BJournal%5D)">Color Rendering Plasmonic Aluminum Substrates with Angular Symmetry Breaking.</a> ACS Nano. 9 (12), 12383-12391 (2015).</li>
<li>King, N. S., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Angle-+and+Spectral-Dependent+Light+Scattering+from+Plasmonic+Nanocups%5BTitle%5D)+AND+%22ACS+Nano%22%5BJournal%5D)">Angle- and Spectral-Dependent Light Scattering from Plasmonic Nanocups.</a> ACS Nano. 5 (9), 7254-7262 (2011).</li>
<li>Mirin, N. A., Halas, N. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Light-Bending+Nanoparticles%5BTitle%5D)+AND+%22Nano+Letters%22%5BJournal%5D)">Light-Bending Nanoparticles.</a> Nano Letters. 9 (3), 1255-1259 (2009).</li>
<li>Eggleston, M. S., Messer, K., Zhang, L., Yablonovitch, E., Wu, M. C. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Optical+antenna+enhanced+spontaneous+emission%5BTitle%5D)+AND+%22Proceedings+of+the+National+Academy+of+Sciences%22%5BJournal%5D)">Optical antenna enhanced spontaneous emission.</a> Proceedings of the National Academy of Sciences. 112 (6), 1704-1709 (2015).</li>
<li>Bora, M., et al. <a target="_blank" href="http://aip.scitation.org/doi/abs/10.1063/1.4802910?journalCode=apl">Plasmonic black metals in resonant nanocavities.</a> Applied Physics Letters. 102 (25), 251105(2013).</li>
<li>Akselrod, G. M., et al. <a target="_blank" href="http://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/acsphotonics.6b00357">Efficient Nanosecond Photoluminescence from Infrared PbS Quantum Dots Coupled to Plasmonic Nanoantennas.</a> ACS Photonics. , (2016).</li>
</ol>

Gli autori non hanno nulla a rivelare.

Questo protocollo viene illustrata una tecnica efficiente e a basso costo per la realizzazione di matrici periodiche di plasmonici nanocups oro. Questa tecnica è particolarmente vantaggiosa perché evita seriali processi top-down come Litografia a fascio di elettroni o fascio ionico focalizzato di fresatura. La tecnica presentata mostra che commercialmente disponibili nanosfere polimeriche auto-montabile in modo semplice per servire come un modello di dimensioni nano per l'ulteriore elaborazione.
<p class="jove_conten...

L'emergere di plasmonica in combinazione con migliorata nanofabbricazione e tecniche di sintesi hanno portato su una vasta gamma di entusiasmanti tecnologie come Sub-diffrazione limitata i circuiti, migliorata individuazione di prodotti chimici edi telerilevamento ottico 1 ,2,3. In questo protocollo, dimostriamo una tecnica relativamente a basso costo e scalabile in grado di fabbricare nanostrutturata plasmoniche substrati utilizzando nanosfere polimeriche commercialmente disponibili e un passo di acquaforte seguita dalla deposizione dei metalli. A differenza di altre tecniche per la realizzazione di substrati nanostrutturati, come elettrone fascio Litografia4, questa tecnica può rapidamente ed efficientemente essere scalata a wafer da 300 mm e oltre con minimo sforzo e usi un trasferimento passo per produrre flessibile e conformal film5.
Fin dall'epoca romana, abbiamo saputo che alcuni metalli come oro e argento possono avere proprietà ottiche brillanti quando essi sono finemente suddivisi. Oggi, abbiamo capito che queste particelle metalliche esibiscono un effetto chiamato la "risonanza plasmonica di superficie localizzata" (LSPR) quando le loro dimensioni si avvicinano alla nanoscala. LSPR è analoga a un'onda stazionaria in cui elettroni debolmente legati trovati nel metallo oscillano coerentemente quando luce di certe frequenze illumina le particelle di metallo. Anisotropici nanostrutture sono di particolare interesse perché uniche risonanze ottiche possono emergere a seguito di rottura6,7,8simmetria.
L'illuminazione delle strutture semi-guscio (nanocup) con la luce può eccitare dipolo elettrico o modalità di plasmon dipolo magnetico, a seconda di fattori quali l'angolo di deposizione del metallo, l'orientamento del substrato rispetto alla luce incidente e la polarizzazione della luce incidente9. Nanocups sono state spesso considerate analoghe a tridimensionale cerchietto risuonatori, in cui la frequenza di risonanza possa approssimate come un oscillatore LC10,11. La frequenza di risonanza per la dimensione di nanosfere polimeriche utilizzate qui (170 nm), la quantità di oro depositato (20 nm), e le tariffe di etch producono frequenze di risonanza che attraversa il visibile e vicino-IR.
Le proprietà ottiche di nanocups l'oro possono essere misurate in trasmissione o riflessione, a seconda del substrato utilizzato per spin-coating. Nel protocollo presentato, abbiamo scelto di utilizzare wafer di silicio 2 pollici come il substrato ed eseguire misure in riflettanza dopo deposizione metallica. Le misurazioni sono state eseguite utilizzando un microscopio accoppiato ad uno spettrometro dispersivo con una fonte di luce alogena. Abbiamo anche avuto successo con l'utilizzo di substrati di vetro, permettendo per le misure di riflessione e trasmissione immediatamente dopo la deposizione del metallo. Inoltre, questa tecnica è facilmente scalabile e non è limitata a wafer di 2 pollici. A causa della disponibilità commercio di nanosfere polimeriche monodisperse di alta qualità, è semplice per ottimizzare le proprietà ottiche di queste strutture semplicemente iniziando con nanosfere di dimensioni diverse.
In questo protocollo, una tecnica per fabbricare anisotropo oro mezzo guscio (o nanocup), nanostrutture utilizzando un metodo chiamato Litografia colloidale è dimostrato. Litografia colloidale utilizza auto-assemblaggio di altamente monodispersi nanosfere polimerici per campire rapidamente un substrato che può essere ulteriormente trasformato in un substrato plasmonico dopo polverizza rivestimento un sottile strato di oro. Allo stesso modo, è possibile accordare l'anisotropia del substrato inclinando il substrato del campione durante la deposizione dei metalli. Le strutture risultanti sono sensibili alla polarizzazione a causa dell'anisotropia della nanostruttura formata. Qui, dimostriamo un particolare eseguire decollo per trasferire le strutture ad una pellicola trasparente, flessibile e caratterizzazione ottica e di caso.

<table><tbody><tr><td>Microsfere di polistirene</td><td>Bangs Laboratories, Inc.</td><td>PS02N</td><td>170 nm &ndash; 580 nm di diametro</td></tr><tr><td>Wafer di silicio</td><td>El-CAT, Inc.</td><td>3489</td><td>300 mm di spessore, un lato lucidato [100]</td></tr><tr><td>Nastro adesivo</td><td>3M</td><td>Scotch 600</td><td></td></tr><tr><td>Spin coater</td><td>Laurell</td><td>WS-650-23B</td><td></td></tr><tr><td>Incisore al plasma</td><td>Nordson March&nbsp;</td><td>AP-600</td><td></td></tr><tr><td>Microspettrofotometro</td><td>CRAIC</td><td>380-PV</td><td></td></tr><tr><td>Sonicatore</td><td>VWR</td><td>97043-932</td><td></td></tr><tr><td>Fiale a scintillazione</td><td>Wheaton</td><td>986734</td><td></td></tr><tr><td>Filtro per siringa da 5 um</td><td>Millex</td><td>SLSV025LS</td><td></td></tr><tr><td>Ossigeno gassoso</td><td>Oxarc</td><td>PO249&nbsp;</td><td>Grado industriale Purezza del 99,5%</td></tr><tr><td>Pompa a vuoto</td><td>Kurt J. Lesker</td><td>Edwards 28</td><td></td></tr><tr><td>Siringhe monouso</td><td>Air Tite Products Co.</td><td>14-817-25</td><td>Capacità 1 mL</td></tr><tr><td>Acqua</td><td>Sigma-Aldrich</td><td>W4502</td><td></td></tr></tbody></table>

fabbricazione di matrici nanocup oro periodica mediante litografia colloidale

Fabrication of Periodic Gold Nanocup Arrays Using Colloidal Lithography

In anni recenti, il campo di plasmonica è esploso come i ricercatori hanno dimostrato interessanti applicazioni legate alla chimica e optical sensing in combinazione con nuove tecniche di nanofabbricazione. Un plasmon è un quantum di oscillazione di densità di carica che presta su scala nanometrica metalli come oro e argento proprietà ottiche uniche. In particolare, nanoparticelle di oro e argento presentano oscillazioni di densità di carica di risonanze-collettivo plasmonica di superficie localizzata sulla superficie del componente nanoparticella dello spettro visibile. Qui, ci concentriamo sulla fabbricazione di matrici periodiche di Nanostrutture plasmoniche anisotropo. Queste strutture semiguscio (o nanocup) possono esibire ulteriore unica luce-piegatura e polarizzazione dipendente dalla proprietà ottiche non è che semplice nanostrutture isotropo. I ricercatori sono interessati nella fabbricazione di matrici periodiche di nanocups per una vasta gamma di applicazioni quali dispositivi ottici a basso costo, Superficie-enhanced Raman scattering e indicazione di manomissione. Presentiamo una tecnica scalabile basata su Litografia colloidale in cui è possibile facilmente fabbricare grandi array periodico di nanocups tramite rivestimento per rotazione e self-assembled nanosfere polimeriche disponibili in commercio. La microscopia elettronica e spettroscopia ottica dal visibile all'infrarosso (vicino-IR) è stato effettuato per confermare il successo nanocup fabbricazione. Concludiamo con una dimostrazione del trasferimento di nanocups ad una pellicola adesiva flessibile, conformal.

Nanocups d'oro sono state preparate utilizzando 170 nm di diametro con nanosfere di polistirolo. Dopo ricottura per 2 min a 107 ° C e incisione con un 75 W, 20 sccm O2 plasma per 165 s, la pellicola risultante è stata caratterizzata mediante SEM (Figura 1). Per valutare la qualità del film spin-casted, ottica microscopia-in aggiunta alla ispezione visiva-maggio essere utilizzato (Figura 2). I film di alta qualità devon...

Dimostriamo la realizzazione di matrici periodiche nanocup oro utilizzando tecniche litografiche colloidale e discutere l'importanza di nanoplasmonic film.

Fabbricazione di matrici Nanocup oro periodica mediante Litografia colloidale

Within recent years, the field of plasmonics has exploded as researchers have demonstrated exciting applications related to chemical and optical sensing ...

L'obiettivo generale di questa procedura è realizzare e caratterizzare array periodici di nanotazze d'oro utilizzando una tecnica semplice ed economica chiamata litografia colloidale. Le nanotazze d'oro o i nanogusci presentano proprietà ottiche uniche che hanno trovato applicazione in settori come l'ottica non lineare, i metamateriali e il rilevamento chimico. In questo video, imparerai come realizzare film flessibili e trasparenti con array nano-plasmonici utilizzando una tecnica economica basata sull'autoassemblaggio di nanosfere di polistirene altamente monodisperse.Questo approccio presenta il vantaggio della scalabilità rispetto a processi seriali come la litografia EUV. Questi film composti da reticoli periodici di nanotazze o nanogusci d'oro trovano applicazioni che spaziano dalla rilevazione chimica alla segnalazione di manomissioni e al fotovoltaico. Inoltre, è semplice regolare la risonanza plasmonica di questi film dal visibile al vicino infrarosso, a seconda dell'applicazione desiderata.In questo video verrà descritta la fabbricazione di array di nanotazze d'oro su un substrato di silicone sacrificabile, la caratterizzazione ottica delle strutture ottenute e il trasferimento dei film su un film adesivo trasparente. Innanzitutto, posizionare diversi wafer di silicone in un portacampioni di quarzo per la pulizia al plasma. Questo garantisce una superficie pulita e idrofila, essenziale per l'autoassemblaggio delle nanosfere polimeriche.Successivamente, posizionare il supporto in quarzo nel sistema al plasma e avviare il vuoto. Il sistema è stato configurato per una pulizia al plasma con ossigeno di 250 watt per 15 minuti, con una portata di 30 SCCM di ossigeno. Mentre le wafer di silicone vengono pulite al plasma, rimuovere la soluzione di nanosfere di polistirene dal refrigeratore e lasciarle riscaldare a temperatura ambiente.Per favorire un'ottenzione di una soluzione uniforme, agitare brevemente la soluzione con un vortex per un minuto. Successivamente sottoporre la soluzione a sonicazione per un minuto. Per ottenere un monocstrato durante la deposizione mediante spin coating, è generalmente necessario diluire la soluzione al 10 percento in peso di nanosfere.Per fare ciò, utilizziamo acqua pura e priva di contaminanti per diluire la soluzione di nanosfere fino a ottenere un solido al cinque percento in peso. Rimuovere le wafer di silicio pulite dal sistema al plasma ed esaminarle alla ricerca di eventuali contaminanti come polvere o residui organici. Se una wafer è accettabile, montarla al centro del dispositivo di centrifugazione e attivare il vuoto.Successivamente, impostare la centrifuga per rivestimenti alla velocità, accelerazione e durata di rotazione appropriate. Questi parametri varieranno in base alle dimensioni e alla concentrazione delle nanosfere di polistirene utilizzate. In questo caso, impostare la centrifuga per rivestimenti a 3.000 giri al minuto, con un'accelerazione di 2.000 giri al minuto al secondo, per un minuto, al fine di ottenere un rivestimento monocellulare.Prelevare una soluzione diluita di nanosfere e, utilizzando una siringa di plastica, aspirare circa un millilitro di soluzione di nanosfere. Successivamente, fissare un filtro da cinque micron all'estremità della siringa. Questo passaggio consentirà di rimuovere eventuali agglomerati che potrebbero compromettere la qualità del film autoassemblato.Tenere la siringa sopra il coater a centrifuga più robusto e premere lo stantuffo fino a rilasciare una goccia di soluzione di nanosfere. Quindi, con un movimento fluido, distribuire una quantità sufficiente di soluzione al centro della wafer finché circa i 2/3 della superficie non risultano ricoperti. Chiudere il coperchio e avviare il ciclo di centrifugazione.Attendere il completamento del ciclo di centrifugazione, quindi rilasciare il vuoto, aprire il coperchio ed estrarre la piastrina. Pulire l'interno del dispositivo di spin coating, assicurandosi di rimuovere ogni eccesso di soluzione di nanosfere. Prima di proseguire, è essenziale valutare la qualità del film ottenuto mediante spin coating.Prima, possiamo esaminare ad occhio nudo, cercando eventuali difetti causati da bolle d'aria, polvere o agglomerati. Successivamente, possiamo utilizzare la microscopia ottica per valutare ulteriormente la qualità del film. Dopo aver acceso la sorgente luminosa e posizionato il campione sotto l'obiettivo, possiamo valutare chiaramente la qualità del film, inclusa la formazione di strati multipli, difetti o fori.In queste immagini, osserviamo un film di alta qualità, un film costituito da strati multipli e un film contenente fori. L'ultima tecnica per valutare la qualità del film consiste nell'utilizzare la microscopia elettronica a scansione. Questo approccio ci permette di visualizzare il film a livello nanometrico.Dopo aver valutato la qualità del film, dobbiamo ora ricotturare le nanosfere sul substrato. Posizionare il substrato in un forno a 107 gradi Celsius per circa due minuti. Rimuovere il substrato dal forno e lasciarlo raffreddare brevemente a temperatura ambiente.Successivamente, trasferire il substrato ricotto nel sistema al plasma per la corrosione. Impostare il sistema al plasma su 75 watt, 20 SCCM di ossigeno e un tempo di incisione di 175 secondi. Iniziare il flusso di ossigeno.Attendere finché la pressione non si è stabilizzata e quindi avviare il plasma RF. Come mostrato, il plasma di ossigeno incide isotropicamente le nanosfere di polistirene, producendo un reticolo periodico di sfere uniformemente distanziate. Dopo l'incisione, depositare uno strato intermedio di 29 di oro mediante rivestimento a spruzzo.Strutture anisotrope possono essere ottenute variando l'angolo di deposizione. Per questi campioni, l'oro è stato depositato normalmente al substrato. A sinistra è mostrato un wafer da due pollici di nanosfere di polistirene ottenute per spin-coating.A destra si trova un wafer dopo la deposizione dell'oro. Viene utilizzato un microspettrofotometro per misurare le proprietà ottiche dell'array di nanotazze d'oro sul substrato in silicone. Il picco di risonanza plasmonica si verifica a circa 650 nanometri.L'ultimo passaggio di questo protocollo consiste nel trasferire l'array di nanotazze d'oro su un film flessibile e conformabile. Utilizziamo un nastro adesivo trasparente sensibile alla pressione per eseguire questa tecnica di rimozione rapida e semplice. Prendendo una striscia di nastro, posizionarla con attenzione a contatto con il substrato rivestito d'oro.Potrebbe essere necessario rimuovere delicatamente eventuali bolle d'aria formatesi tra la superficie della wafer e il nastro. Una volta che il nastro ha aderito bene al substrato, staccarlo con delicatezza. Dopo aver rimosso completamente il nastro, si ottiene un film flessibile e conformale costituito da nanotazze disposte in modo periodico.Utilizzando questo metodo, sono stati realizzati film nano plasmonici mediante litografia colloidale, incisione plasmatica e metallizzazione, in cui le nanosfere di polistirene hanno funzionato da maschera autoassemblante per il deposito di nanotazze metalliche. I risultati del processo di fabbricazione sono stati verificati mediante microscopia elettronica a scansione. Qui vediamo le microfotografie del monostrato autoassemblato di nanosfere di polistirene, delle nanosfere incise e delle nanotazze dopo il deposito del metallo.Le proprietà ottiche di questi film includono una buona trasmissione della luce fino a circa il 70% nello spettro visibile, mantenendo al contempo una risonanza plasmonica chiaramente identificabile. La litografia colloidale è una tecnica rapida e potenzialmente a basso costo per fabbricare film nano plasmonici. Questa tecnica richiede soltanto apparecchiature comunemente disponibili e i film nano plasmonici possono essere preparati in poche ore.Qui, abbiamo mostrato come utilizzare questa tecnica per realizzare film costituiti da matrici periodiche di nanotazze d'oro con una risposta plasmonica nello spettro visibile. Una volta padroneggiata questa tecnica, sarai in grado di fabbricare una vasta gamma di film nano-plasmonici con risposte ottiche sia nel visibile che nell'infrarosso vicino.

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Altissima densità Array of allineato verticalmente Nanofili organici piccola molecolari su substrati arbitrarie

Una tecnica semplice, robusta e scalabile di funzionalizzare e di auto-assemblarsi film monostrato di nanoparticelle-ligando macroscopici su substrati libero di modello è descritto in questo protocollo.

Una tecnica di funzionalizzare e Self-montare macroscopiche nanoparticelle-ligando monostrato Films su substrati privi di modello

Un protocollo per la sintesi colloidale di nanocubi d'argento e fabbricazione di plasmoniche antenne patch nanoscala con sub-10 nm lacune è presentato.

Colloidale Sintesi di Nanopatch Antenne per applicazioni in Plasmonics e nanofotonica

Qui, presentiamo un protocollo per la fabbricazione di piastre gradiente GNSM via nanoimprinting termica e il metodo di screening risposte di cellule progenitrici endoteliali umane alle nanostrutture. Utilizzando la tecnologia descritta, è possibile produrre un ponteggio che può manipolare il comportamento delle cellule di stimoli fisici.

Fabbricazione di GNSM gradiente termico Nanoimprinting tecnica e Screening della risposta delle cellule endoteliali umane formanti colonie

Questo protocollo dettaglia una tecnica novella di nano-fabbricazione che può essere utilizzata per fare film di nanoparticelle controllabile e personalizzabile su grandi superfici, basati sull'auto-assemblaggio di bagnabilità di film metallici ricoperti.

Grande Area nanofabbricazione di substrato a base di nanoparticelle di oro controllabile e personalizzabile tramite ridotta bagnabilità

Qui è descritto un metodo di litografia a nanosfera per la fabbricazione parallela di guide d'onda in modalità zero, che sono array di nanoperture in una microscopia in vetro rivestita di metallo coverlip per l'imaging di singole molecole a concentrazioni nano-micromolari di fluorofori. Il metodo sfrutta l'autoassemicolo del cristallo colloidale per creare un modello di guida d'onda.

Fabbricazione di guide d'onda in modalità zero per microscopia ad alta concentrazione a singola molecola

Viene presentato un protocollo per sintetizzare nanoparticelle d'oro di ~12 nm di diametro (nanoparticelle Au) in un solvente organico. Le nanoparticelle d'oro sono sormontate da ligandi di orelammina per prevenire l'agglomerazione. Le nanoparticelle d'oro sono solubili in solventi organici come il toluene.

Sintesi della nanoparticella d'oro

Scopri la fabbricazione di matrici nanocup oro periodiche mediante litografia colloidale per nanotecnologia plasmonica. Questa tecnica a basso costo consente di ottenere film flessibili e trasparenti con applicazioni nel sensing chimico e nei fotovoltaici.

Fabbricazione di matrici Nanocup oro periodica mediante Litografia colloidale

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