Method Article

قابلة للتطوير حل معالجتها استراتيجية تصنيع عالية الأداء، مرنة، أقطاب شفافة مع شبكة معدنية جزءا لا يتجزأ

DOI:

10.3791/56019

⸱

June 23rd, 2017

 ,  ,  ,  ,  ,  ,  , 
1Department of Mechanical Engineering, University of Hong Kong, 2Department of Mechanical Engineering, University of Michigan, 3Department of Electrical Engineering and Computer Science, University of Michigan, 4Department of Chemistry, University of Hong Kong, 5HKU-Shenzhen Institute of Research and Innovation

In This Article

Summary

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

يصف هذا البروتوكول استراتيجية تلفيق القائم على حل للأقطاب عالية الأداء ومرنة وشفافة مع جزءا لا يتجزأ من، شبكة معدنية سميكة. أقطاب شفافة مرنة ملفقة من قبل هذه العملية تظهر بين أعلى أداء ذكرت، بما في ذلك مقاومة منخفضة جدا ورقة، ونفاذية بصرية عالية والاستقرار الميكانيكي تحت الانحناء، التصاق الركيزة قوية، نعومة السطح، والاستقرار البيئي.

Abstract

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

هنا، فإن المؤلفين تقرير جزءا لا يتجزأ من شبكة معدنية معدنية شفافة (إمت)، قطب شفاف جديد (تي) مع شبكة معدنية جزءا لا يتجزأ تماما في فيلم البوليمر. تقدم هذه الورقة أيضا منخفضة التكلفة، خالية من فراغ طريقة التصنيع لهذه الرواية تي. النهج يجمع بين الطباعة الحجرية، والطلاء بالكهرباء، ونقل بصمة (ليت) المعالجة. وتوفر الطبيعة المضمنة ل إمتس العديد من المزايا، مثل نعومة السطح العالية، وهو أمر ضروري لإنتاج الأجهزة الإلكترونية العضوية؛ الاستقرار الميكانيكية متفوقة خلال الانحناء؛ مقاومة مواتية للمواد الكيميائية والرطوبة؛ والتصاق قوي مع فيلم من البلاستيك. ليت تلفيق يتميز عملية الطلاء الكهربائي لترسب المعادن خالية من فراغ ومواتية للإنتاج الضخم الصناعي. وعلاوة على ذلك، يسمح ليت لتصنيع شبكة معدنية مع نسبة ارتفاع عالية ( أي سمك لينويدث)، وتعزيز كبير في تصرفها الكهربائي دون خسارة سلبا تر البصريةansmittance. نحن نبرهن على نماذج متعددة من إمتس مرنة، مع مقاومة ورقة أقل من 1 Ω / متر مربع والنفاذية أكبر من 90٪، مما أدى إلى أرقام عالية جدا من الجدارة - ما يصل إلى 1.5 × 10 4 - وهي من بين أفضل القيم في المؤلفات المنشورة.

Introduction

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

ويجري في جميع أنحاء العالم إجراء دراسات للبحث عن بدائل للأكاسيد الموصلات الشفافة الصلبة، مثل أكسيد القصدير الإنديوم وأكسيد القصدير المخدر بالفلورين (فتو)، وذلك من أجل تفريق تيس مرنة / قابلة للتمديد لاستخدامها في المستقبل / الأجهزة الضوئية لمط 1 . وهذا يتطلب مواد جديدة مع أساليب تصنيع جديدة.

وقد درست المواد النانوية، مثل الجرافين 2 ، والبوليمرات 3 و 4 والأنابيب النانوية الكربونية 5 ، وشبكات أسلاك متناهية الصغر المعدنية العشوائية 6 و 7 و 8 و 9 و 10 و 11 ، وأظهرت قدراتها في أنظمة تيس مرنة، تعالج أوجه القصور في (تيس) القائمة على تكو، بما في ذلك هشاشة 12 ، وانخفاض نفاذية الأشعة تحت الحمراء 13 ، وفرة منخفضة 14 . حتى مع هذه الإمكانات، فإنه لا يزال من الصعب تحقيق عالية الكهربائية والبصرية تصرف دون تدهور تحت الانحناء المستمر.

في هذا الإطار، يتشكل المعدن العادي 15 ، 16 ، 17 ، 18 ، 19 ، 20 تتطور كمرشح واعد وقد أنجزت بشكل ملحوظ الشفافية البصرية العالية ومقاومة ورقة منخفضة، والتي يمكن أن تكون الانضباطي على الطلب. ومع ذلك، فقد أعيق الاستخدام الواسع النطاق لشبكات تيس التي تعتمد على شبكات معدنية بسبب العديد من التحديات. أولا، تلفيق غالبا ما ينطوي على مكلفة، ترسب فراغ القائم على المعادن 16 ، 17 ، 18 ، 21 . ثانيا، سمك قد يسبب بسهولة الكهربائية قصيرة الدائرة 22 ، 23 ، 24 ، 25 في الأغشية الرقيقة الأجهزة الضوئية العضوية. ثالثا، التصاق ضعيف مع نتائج السطح الركيزة في ضعف المرونة 26 ، 27 . وقد أفضت القيود المذكورة أعلاه إلى إنشاء هياكل تي جديدة تعتمد على شبكة معدنية، ومناهج قابلة للتطوير.

في هذه الدراسة، ونحن تقرير هيكل جديد من تيس مرنة التي تحتوي على شبكة معدنية جزءا لا يتجزأ تماما في فيلم البوليمر. نحن أيضا وصف مبتكرة، القائم على حل، ومنخفضة التكلفة تلفيق النهج الذي يجمع بين الطباعة الحجرية، إليكتروديبوسيتيون، ونقل بصمة. وقد تم تحقيق قيم ال فوم التي تصل إلى 15 ألف على عينة إمت. نظرا لطبيعة جزءا لا يتجزأ منوقد لوحظت إمتس، والكيميائية ملحوظا، والميكانيكية، والاستقرار البيئي. وعلاوة على ذلك، يمكن استخدام تقنية التصنيع المصنعة للحل التي أنشئت في هذا العمل لإنتاج منخفضة التكلفة وإنتاجية عالية من إمتس المقترحة. هذه التقنية تلفيق قابلة لل أدق شبكة معدنية لينويدثس، مساحات أكبر، ومجموعة من المعادن.

Access restricted. Please log in or start a trial to view this content.

Protocol

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

تنبيه: يرجى الانتباه إلى سلامة شعاع الالكترون. يرجى ارتداء النظارات الواقية الصحيحة والملابس. أيضا، التعامل مع جميع المذيبات القابلة للاشتعال والحلول بعناية.

1. فوتوليثوغرافي القائم على تصنيع إمت

  1. فوتوليثوغرافي لتفريق نمط شبكة.
    1. تنظيف ركائز فتو الزجاج (3 سم × 3 سم) مع المنظفات السائلة باستخدام مسحة القطن. شطف لهم جيدا مع منزوع الأيونات (دي) المياه باستخدام مسحة القطن نظيفة. مزيد من تنظيفها باستخدام فائقة سونيكاتيون (تردد = 40 كيلوهرتز، ودرجة الحرارة = 25 درجة مئوية) في الكحول الآيزوبروبيل (إيبا) لمدة 30 ثانية قبل تجفيفها مع الهواء المضغوط.
      تنبيه: التعامل مع الهواء المضغوط بعناية.
    2. سبينكوات 100 ميكرولتر من مقاوم الضوء على الزجاج فتو تنظيفها لمدة 60 ثانية في 4000 دورة في الدقيقة (حوالي 350 x ج للعينات مع دائرة نصف قطرها 2 سم) للحصول على 1.8 ميكرون سميكة، فيلم موحد.
    3. خبز الفيلم مقاومة للضوء على موقد لمدة 50 ثانية في100 درجة مئوية.
    4. فضح فيلم مقاوم للضوء من خلال الضوئية مع نمط شبكة (3 ميكرون لينويدث، 50 ميكرون الملعب) باستخدام أليغنر قناع الأشعة فوق البنفسجية لجرعة 20 ميج / سم 2 .
    5. تطوير مقاوم للضوء من خلال غمر العينة في حل المطور لمدة 50 ثانية.
    6. شطف العينة في الماء دي وتجفيفه مع الهواء المضغوط.
      تنبيه: التعامل مع الهواء المضغوط بعناية.
  2. الإلكترودبوسيتيون من المعادن.
    1. صب 100 مل من النحاس محلول طلاء مائي في كوب 250 مل.
      ملاحظة: يمكن استخدام حلول الطلاء المائية الأخرى (على سبيل المثال، الفضة والذهب والنيكل والزنك) لتصنيع إمتس مع المعادن المعنية.
      تنبيه: إيلاء الاهتمام للسلامة الكيميائية.
    2. ربط الزجاج فتوريسيست المغطاة مقاومة للضوء إلى محطة سلبية للإعداد الكهربائي إليكترودبوسيتيون وتزجها في حل الطلاء كما القطب العمل.
    3. ربط شريط معدني النحاسإلى محطة إيجابية للإعداد الكهربائي الكهربائي ثنائي القطب كما القطب العداد.
    4. توريد ثابت 5-أماه الحالي (الكثافة الحالية: ~ 3 مللي أمبير / سم 2 ) باستخدام الجهد / مصادر الحالية والقياس أداة ( مثل سورسيميتر) لمدة 15 دقيقة لإيداع المعدن إلى سمك ما يقرب من 1.5 ميكرون.
    5. شطف تماما فوتوريسيست المغلفة فتو عينة الزجاج مع دي المياه وجففه مع الهواء المضغوط.
      تنبيه: التعامل مع الهواء المضغوط بعناية.
    6. وضع فوتوريسيست المغلفة فتو عينة الزجاج في الأسيتون لمدة 5 دقائق إلى حل فيلم مقاوم للضوء، مع شبكة المعدن على رأس الزجاج فتو.
  3. نقل بصمة الحرارية من شبكة معدنية إلى الركيزة مرنة.
    1. وضع شبكة معدنية غطت فتو عينة الزجاج على بلاتنس ساخنة كهربائيا من السدادة الحرارية ووضع 100 ميكرون سميكة مرنة دوري البوليمرات الأوليفين (كوك) فيلم على رأس العينة، التي تواجهالجانب شبكة معدنية.
    2. تسخين لوحات الصحافة ساخنة إلى 100 درجة مئوية.
    3. تطبيق 15 مبا من الضغط بصمة وعقد لمدة 5 دقائق.
      تنبيه: الانتباه إلى السلامة عند استخدام الصحافة ساخنة.
      ملاحظة: يمكن أن يتم نقل بصمة في ضغط أقل. قيمة الضغط (15 ميجا باسكال) ذكرت هنا مرتفعة نسبيا. تم استخدام هذا الضغط العالي لضمان أن شبكة معدنية جزءا لا يتجزأ تماما في فيلم كوك.
    4. تبريد بلاتنس ساخنة لدرجة حرارة ديمولدينغ من 40 درجة مئوية.
    5. الافراج عن ضغط بصمة.
    6. تقشر فيلم كوك من الزجاج فتو، مع شبكة معدنية جزءا لا يتجزأ تماما في فيلم كوك.

2. تصنيع ميكرون الفرعية إمتس

  1. تصنيع ميكرون شبه ميكرون باستخدام الطباعة الحجرية شعاع الالكترون (إبل).
    1. سبينكوات 100 ميكرولتر من محلول ميثيل ميثاكريلات (بمما) (15K ميغاواط، 4٪ بالوزن في أنيسول) على الزجاج فتو تنظيفها لمدة 60 سار 2500 دورة في الدقيقة (حوالي 140 x ج للعينات التي يبلغ قطرها 2 سم) لتحقيق 150 نانومتر سميكة، فيلم موحد.
    2. خبز الفيلم بمما على موقد لمدة 30 دقيقة في 170 درجة مئوية.
    3. بدوره على نظام إبل وتصميم نمط شبكة (400 نانومتر لينويدث، 5 ميكرون الملعب) باستخدام مولد نمط 29 .
    4. وضع العينة في المجهر الإلكتروني الماسح الضوئي متصلا مولد نمط وتنفيذ عملية الكتابة 29 .
    5. تطوير مقاومة لمدة 60 ثانية في محلول مختلط من كيتون الأيزوبروبيل الميثيل والأيزوبروبانول في نسبة 1: 3.
    6. شطف العينة مع الماء دي وتجفيفه مع الهواء المضغوط.
      تنبيه: التعامل مع الهواء المضغوط بعناية.
    7. وضع 100 مل من محلول الطلاء المائية النحاس في كوب متوسط ​​الحجم.
      ملاحظة: ينبغي استخدام حلول الطلاء المائية الأخرى ( مثل حلول الفضة والذهب والنيكل والزنك الطلاء) لتصنيع إمتس مع المعادن المعنية.
    8. إرفاق الزجاج فتو المغلفة بمما إلى محطة سلبية للإعداد الكهربائي إليكترودبوسيتيون، تراجع في حل الطلاء كما القطب العمل، وربط شريط المعادن النحاس إلى محطة إيجابية لاستكمال الدائرة.
      ملاحظة: يجب استخدام قضبان المعادن الأخرى ( أي الفضة والذهب والنيكل والزنك) للالكهربائية المعدنية المعنية.
    9. تطبيق التيار المناسب، المقابلة مع كثافة الحالية حوالي 3 مللي أمبير / سم 2 ، إلى منطقة نمط شبكة لمدة 2 دقيقة لإيداع المعادن إلى سمك ما يقرب من 200 نانومتر (يجب أن يحدد سمك الفعلي من قبل سيم أو عفم).
    10. غسل بعناية العينة مع الماء دي ووضعه في الأسيتون لمدة 5 دقائق إلى حل فيلم بمما.
    11. وضع شبكة معدنية غطت فتو عينة الزجاج على بلاتنس ساخنة كهربائيا من السدادة الحرارية ووضع فيلم كوك (100 ميكرون سميكة) على رأس العينة.
    12. تسخين لوحات إلى 100 درجة مئوية، وتطبيق 15مبا بصمة الضغط، وعقد لمدة 5 دقائق.
    13. تبريد بلاتنس ساخنة لدرجة حرارة ديمولدينغ من 40 درجة مئوية والافراج عن الضغط بصمة.
    14. تقشر فيلم كوك من الزجاج فتو، جنبا إلى جنب مع شبكة معدنية ثيسوب ميكرون جزءا لا يتجزأ تماما في فيلم كوك.

3 - قياس أداء نظم الرصد والتقييم

  1. ورقة قياس المقاومة.
    1. انتشر معجون الفضة على طرفين متعاكسين من العينة مربع وانتظر حتى يجف.
    2. وضع بعناية تحقيقات الأربعة من جهاز قياس المقاومة على منصات الفضة، بعد تعليمات المعدات.
    3. التبديل إلى وضع قياس المقاومة من مصدر الطاقة / أداة القياس وتسجيل القيمة على الشاشة.
  2. قياس الإرسال البصري.
    1. تشغيل الإعداد قياس الأشعة فوق البنفسجية فيس ومعايرة مطياف ( أي ربط قراءات الطرافةها عينة القياسية للتحقق من دقة الصك).
    2. وضع عينة إمت على حامل عينة مطياف ومحاذاة الاتجاه البصري بشكل صحيح.
    3. ضبط مطياف لنفاذية 100٪.
      ملاحظة: يتم تطبيع جميع قيم النفاذية المعروضة هنا إلى النفاذية المطلقة من خلال الركيزة فيلم كوك العارية.
    4. قياس نفاذية العينة.
    5. حفظ القياس والخروج من الإعداد.

Access restricted. Please log in or start a trial to view this content.

Results

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

ويبين الشكل 1 مخطط التخطيطي والتصنيع من عينات إمت. كما هو مبين في الشكل 1A ، يتكون إمت من شبكة معدنية جزءا لا يتجزأ تماما في فيلم البوليمر. الوجه العلوي للشبكة هو على نفس المستوى كما الركيزة، وعرض منصة على نحو سلس عموما لإنتاج الجهاز لاحق. يتم شرح تقنية تلفيقيا في الشكل 1B - ه . بعد سبينكواتينغ فيلم مقاوم للضوء على الركيزة الزجاج فتو، ويستخدم ...

Access restricted. Please log in or start a trial to view this content.

Discussion

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

لدينا طريقة تلفيق يمكن تعديلها مرة أخرى للسماح للتدرج من أحجام ميزة والمناطق من العينة واستخدام مواد مختلفة. نجاح تلفيق ميكروميتر-لينويدث الفرعية ( الشكل 3A-3C ) إمتس النحاس باستخدام إبل يثبت أن هيكل إمت والخطوات الرئيسية في تصنيع ليت، بما في ذلك الكهربائي ونقل بصمة، ويمكن تقليص موثوق بها وصولا الى نطاق ميكرومتر الفرعي. وبالمثل، فإن عمليات الطباعة الحجرية مساحة كبيرة أخرى، مثل مرحلة التحول ضوئي 30 ، نانويمبرينت الطباعة الحج...

Access restricted. Please log in or start a trial to view this content.

Disclosures

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

الكتاب ليس لديهم ما يكشف.

Acknowledgements

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,

وقد حظي هذا العمل بدعم جزئي من صندوق البحوث العامة التابع لمجلس منح البحوث التابع لمنطقة هونغ كونغ الإدارية الخاصة (الجائزة رقم 17246116)، وبرنامج الباحثين الشباب التابع للمؤسسة الوطنية للعلوم الطبيعية في الصين (61306123)، وبرنامج البحوث الأساسية - البرنامج العام من لجنة العلوم والتكنولوجيا والابتكار لبلدية شنتشن (JCYJ20140903112959959)، وبرنامج البحث والتطوير الرئيسية من إدارة مقاطعة تشجيانغ للعلوم والتكنولوجيا (2017C01058). ويود المؤلفون أن يشكروا Y.-T. هوانغ و سب فنغ لمساعدتهم مع القياسات البصرية.

Access restricted. Please log in or start a trial to view this content.

Materials

List of materials used in this article
NameCompanyCatalog NumberComments
الأسيتونسيجما ألدريتشW332615
الأيزوبروبانولسيجما ألدريتششديد الاشتعال 190764شديدة الاشتعال
جنوب الصين شيانغ S & T ، الصين
PhotoresistClariant ، سويسرا54611L11AZ 1500 مقاومة نغمة إيجابية (20cP)
محاذاة قناع الأشعة فوق البنفسجية الأكاديميةالصينية للعلوم ، الصينURE-2000/35
مطور مقاوم للضوءClariant ، سويسرا184411AZ 300 MIF Developer
Cu و Ag و Au و Ni و Zn حلول الطلاء الكهربائيCaswell ، الولايات المتحدة الأمريكيةحلول جاهزة للاستخدام (PLUG N 'PLATE)
Keithley 2400 SourceMeterKeithley ، الولايات المتحدة الأمريكية41J2103
COC Plastic FilmsTOPAS ، ألمانياF13-19-1Grade 8007 (درجة حرارة التزجج: 78 درجة ؛ ج)
الصحافة الهيدروليكيةSpecac Ltd. ، المملكة المتحدةGS15011مع طقم حمولة منخفضة (0-1 طن قياس)
التحكم في درجة الحرارةSpecac Ltd. ، المملكة المتحدةGS15515الصفائح الساخنة المبردة بالماء ووحدة التحكم
ChillerGrant Instruments ، المملكة المتحدةT100-ST5
بولي ميثيل ميثاكريلات (PMMA)سيجما ألدريتش200336
أنيزولSigma-Aldrich96109عالي الاشتعال
Philips ، هولنداFEI XL30مجهر إلكتروني ماسح مجهز بمولد نمط JC Nabity   ؛  
الأيزوبروبيل كيتونسيجما ألدريتش108-10-1
معجون الفضةتيد بيلا ، الولايات المتحدة الأمريكية16031
الأشعة فوق البنفسجية &ndash ؛ مطياف فيسبيركين إلمر ، الولايات المتحدة الأمريكيةL950
ركائز زجاجية FTO جهاز إعداد EBL

References

$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,
  1. Hecht, D. S., Hu, L., Irvin, G. Emerging Transparent Electrodes Based on Thin Films of Carbon Nanotubes, Graphene, and Metallic Nanostructures. Adv Mater. 23 (13), 1482-1513 (2011).
  2. Bonaccorso, F., Sun, Z., Hasan, T., Ferrari, A. C. Graphene photonics and optoelectronics. Nat Photonics. 4 (9), 611-622 (2010).
  3. Kirchmeyer, S., Reuter, K. Scientific importance, properties and growing applications of poly(3,4-ethylenedioxythiophene). J Mater Chem. 15 (21), 2077-2088 (2005).
  4. Vosgueritchian, M., Lipomi, D. J., Bao, Z. Highly Conductive and Transparent PEDOT:PSS Films with a Fluorosurfactant for Stretchable and Flexible Transparent Electrodes. Adv Funct Mater. 22 (2), 421-428 (2012).
  5. Zhang, M., et al. Strong, Transparent, Multifunctional, Carbon Nanotube Sheets. Science. 309 (5738), 1215-1219 (2005).
  6. De, S., et al. Silver Nanowire Networks as Flexible, Transparent, Conducting Films: Extremely High DC to Optical Conductivity Ratios. ACS Nano. 3 (7), 1767-1774 (2009).
  7. van de Groep, J., Spinelli, P., Polman, A. Transparent Conducting Silver Nanowire Networks. Nano Lett. 12 (6), 3138-3144 (2012).
  8. Hong, S., et al. Highly Stretchable and Transparent Metal Nanowire Heater for Wearable Electronics Applications. Adv Mater. 27 (32), 4744-4751 (2015).
  9. Bari, B., et al. Simple hydrothermal synthesis of very-long and thin silver nanowires and their application in high quality transparent electrodes. J Mater Chem A. 4 (29), 11365-11371 (2016).
  10. Hyunjin, M., Phillip, W., Jinhwan, L., Seung Hwan, K. Low-haze, annealing-free, very long Ag nanowire synthesis and its application in a flexible transparent touch panel. Nanotechnol. 27 (29), 295201(2016).
  11. Lee, H., et al. Highly Stretchable and Transparent Supercapacitor by Ag-Au Core-Shell Nanowire Network with High Electrochemical Stability. ACS Appl Mater Interfaces. 8 (24), 15449-15458 (2016).
  12. Cairns, D. R., et al. Strain-dependent electrical resistance of tin-doped indium oxide on polymer substrates. Appl Phys Lett. 76 (11), 1425-1427 (2000).
  13. Bel Hadj Tahar, R., Ban, T., Ohya, Y., Takahashi, Y. Tin doped indium oxide thin films: Electrical properties. J Appl Phys. 83 (5), 2631-2645 (1998).
  14. Kumar, A., Zhou, C. The Race To Replace Tin-Doped Indium Oxide: Which Material Will Win? ACS Nano. 4 (1), 11-14 (2010).
  15. Hong, S., et al. Nonvacuum, Maskless Fabrication of a Flexible Metal Grid Transparent Conductor by Low-Temperature Selective Laser Sintering of Nanoparticle Ink. ACS Nano. 7 (6), 5024-5031 (2013).
  16. Wu, H., et al. A Transparent Electrode Based on a Metal Nanotrough Network. Nat Nanotechnol. 8 (6), 421-425 (2013).
  17. Han, B., et al. Uniform Self-Forming Metallic Network as a High-Performance Transparent Conductive Electrode. Adv Mater. 26 (6), 873-877 (2014).
  18. Kim, H. -J., et al. High-Durable AgNi Nanomesh Film for a Transparent Conducting Electrode. Small. 10 (18), 3767-3774 (2014).
  19. Kwon, J., et al. Low-Temperature Oxidation-Free Selective Laser Sintering of Cu Nanoparticle Paste on a Polymer Substrate for the Flexible Touch Panel Applications. ACS Appl Mater Interfaces. 8 (18), 11575-11582 (2016).
  20. Suh, Y. D., et al. Nanowire reinforced nanoparticle nanocomposite for highly flexible transparent electrodes: borrowing ideas from macrocomposites in steel-wire reinforced concrete. J Mater Chem C. 5 (4), 791-798 (2017).
  21. Bao, C., et al. In Situ Fabrication of Highly Conductive Metal Nanowire Networks with High Transmittance from Deep-Ultraviolet to Near-Infrared. ACS Nano. 9 (3), 2502-2509 (2015).
  22. van Osch, T. H. J., Perelaer, J., de Laat, A. W. M., Schubert, U. S. Inkjet Printing of Narrow Conductive Tracks on Untreated Polymeric Substrates. Adv Mater. 20 (2), 343-345 (2008).
  23. Ahn, B. Y., et al. Omnidirectional Printing of Flexible, Stretchable, and Spanning Silver Microelectrodes. Science. 323 (5921), 1590-1593 (2009).
  24. Khan, A., Rahman, K., Hyun, M. -T., Kim, D. -S., Choi, K. -H. Multi-nozzle electrohydrodynamic inkjet printing of silver colloidal solution for the fabrication of electrically functional microstructures. Appl Phys A. 104 (4), 1113-1120 (2011).
  25. Khan, A., Rahman, K., Kim, D. S., Choi, K. H. Direct printing of copper conductive micro-tracks by multi-nozzle electrohydrodynamic inkjet printing process. J Mater Process Technol. 212 (3), 700-706 (2012).
  26. Ellmer, K. Past achievements and future challenges in the development of optically transparent electrodes. Nat Photonics. 6 (12), 809-817 (2012).
  27. Choi, H. -J., et al. Uniformly embedded silver nanomesh as highly bendable transparent conducting electrode. Nanotechnol. 26 (5), 055305(2015).
  28. Khan, A., Li, S., Tang, X., Li, W. -D. Nanostructure Transfer Using Cyclic Olefin Copolymer Templates Fabricated by Thermal Nanoimprint Lithography. J Vac Sci Technol B. 32 (6), (2014).
  29. Khan, A., et al. High-Performance Flexible Transparent Electrode with an Embedded Metal Mesh Fabricated by Cost-Effective Solution Process. Small. 12 (22), 3021-3030 (2016).
  30. Moon Kyu, K., Jong, G. O., Jae Yong, L., Guo, L. J. Continuous phase-shift lithography with a roll-type mask and application to transparent conductor fabrication. Nanotechnol. 23 (34), 344008(2012).
  31. Chou, S. Y., Krauss, P. R., Renstrom, P. J. Imprint of sub-25 nm vias and trenches in polymers. Appl Phys Lett. 67 (21), 3114-3116 (1995).
  32. Manfrinato, V. R., et al. Resolution Limits of Electron-Beam Lithography toward the Atomic Scale. Nano Lett. 13 (4), 1555-1558 (2013).
  33. Khan, A., et al. Solution-processed Transparent Nickel-mesh Counter Electrode with In-situ Electrodeposited Platinum Nanoparticles for Full-Plastic Bifacial Dye-sensitized Solar Cells. ACS Appl Mater Interfaces. 9 (9), 8083-8091 (2017).
  34. Lee, J., et al. A dual-scale metal nanowire network transparent conductor for highly efficient and flexible organic light emitting diodes. Nanoscale. 9 (5), 1978-1985 (2017).
  35. Khan, S., et al. Direct patterning and electrospray deposition through EHD for fabrication of printed thin film transistors. Current Appl Phys. 11 (1), S271-S279 (2011).

Access restricted. Please log in or start a trial to view this content.

Reprints and Permissions

Request permission to reuse the text or figures of this JoVE article

Request Permission

Tags

Embedded Metal MeshTransparent ElectrodeSolution ProcessingLithography Electroplating Imprint TransferElectroplating ProcessMetal Mesh FabricationFlexible Transparent ElectrodesHigh Aspect Ratio MeshSheet Resistance MeasurementOptical Transmittance Analysis

Related Articles