本文介绍了一种利用光声效应结合全内反射来估算材料和表面光学特性的实验方案。该技术基于渐逝场的光声方法可用于构建光声计量系统,以估算材料的厚度、体相及薄膜的折射率,并研究其光学特性。
本文介绍了一种利用光声效应结合全内反射来估算材料和表面光学特性的实验方案。该技术基于渐逝场的光声方法可用于构建光声计量系统,以估算材料的厚度、体相及薄膜的折射率,并研究其光学特性。
本文介绍了一种利用光声效应结合全内反射来估算材料和表面光学特性的实验方案。对薄膜以及块体材料表面的光学特性进行评估,是理解新型光学材料体系及其应用的重要步骤。本方法可估算材料的厚度、折射率,并利用其吸收特性进行检测。该计量系统采用基于渐逝场的光声技术(EFPA),该技术领域建立在渐逝场与光声效应相互作用的基础之上。这种相互作用及其衍生的一系列技术,使得该方法能够探测样品表面数百纳米范围内的光学特性。这种光学近场效应使得材料特性(如折射率和薄膜厚度)可在与场尺度相当的范围内实现高精度估算。通过使用EFPA及其子技术,例如全内反射光声光谱(TIRPAS)和光学隧穿光声光谱(OTPAS),可在一台集成化仪器中实现纳米尺度的材料评估,而无需依赖多种仪器和可能成本高昂的实验手段。
对光学材料的理解不断深入1,3,4,6,7,10,13-16,为开发用于多种光学器件的薄膜材料提供了新的见解,这些器件包括镜头上的减反射涂层、高消光比光学滤光片以及高吸收平板波导17。若无多种表征技术的应用,这些进展将难以实现,例如椭圆偏振测量法4,6,18、接触角测量、原子力显微镜7,11,19以及扫描/透射电子显微镜,这些技术通过提供光学材料基本性质的直接测量或间接估算,助力这些技术的迭代改进。这些性质(如折射率)决定了材料与入射光子的相互作用方式,直接影响其功能及在光学应用中的使用。然而,每种技术均存在与分辨率、样品制备、成本和复杂性相关的局限性,且仅能提供全面表征材料所需数据的一部分。有鉴于此,一组被称为基于渐逝场的光声技术(EFPA)5,6,15,18,20-49的新方法(如图1所示)有望在一组整合性实验中实现对纳米尺度材料性质的估算。EFPA 包括全内反射光声光谱法(TIRPAS)23,25,26,33-35,43-45、光声光谱/全内反射光声光谱折射法(PAS/TIRPAS refractometry)18以及光学隧穿光声光谱法(OTPAS)6等子技术,已被用于估算体相材料和薄膜的折射率、薄膜厚度,并可用于检测棱镜/样品或基底/样品界面处的吸光材料。
为了理解EFPA机制,必须首先了解光声光谱(PAS)的概念。该概念指的是:在吸收超短(< µsec)光脉冲后,发色团因快速的热弹性膨胀而产生超声压力波(图1)。本文所讨论的光声效应的理论与数学框架可参见文献50-59。所产生的压力变化可通过超声麦克风或换能器进行检测。光声效应最初于1880年随着亚历山大·格雷厄姆·贝尔发明的光电话而被发现,后因激光与麦克风技术的进步,在20世纪70年代初被“重新发现”,并最终被应用于一系列特定领域,包括生物医学成像、薄膜分析以及材料的无损检测1,53-57,59-82。该效应可用一维波动方程进行数学描述,其中波为一个简单的声源,其压力(p)随位置(x)和时间(t)变化:

对于形式为64的简单声源,其解法如下

其中,p 为压力,Γ=αvs2/Cp ,α 为体积热膨胀系数,vs 为介质中的声速,Cp 为恒压热容,H0 为激光束的辐射曝光量,c 为激发介质中的声速,x 为长度,t 为时间。所产生的声波幅度直接依赖于材料的光学吸收系数 µa,该系数为光学穿透深度 δ 的倒数,而 δ 表示光在介质中传播至其初始光强衰减为 1/e 时所经过的距离。尽管公式(1)是一维平面波源的通用方程,典型的吸收体在三维空间中会发射球面声波。除了数学描述之外,光声效应的应用54 涵盖多种成像模式,如显微成像、断层成像,甚至分子成像,这得益于光声效应对天然存在的发色团血红蛋白具有较大的光学吸收,因而灵敏度较高。光声效应的其他应用还包括对各种薄膜特性的评估15,16,20,21,24,26-32,36-39,41,42,56,83,84。然而,光声光谱(PAS)也存在一定的局限性:(1)其较大的光学穿透深度使其无法探测表面附近的近场光学特性;(2)由于大部分声能以球面形式传播并远离探测器,导致探测器捕获发射声能的效率较低;(3)样品必须在所考虑的波长范围内含有发色团。
然而,当与基于隐逝场的技术结合时,这些限制中的许多可以得到改善。当一束光发生全内反射(TIR)时,就会产生隐逝场,这一现象由斯涅尔定律(Snell's Law)描述,该效应也使得光纤波导能够在计算和通信应用中引导光传播很长距离(千米级)。在实际应用中,隐逝场被用于多种表征和成像技术中,包括衰减全反射光谱法(ATR)。由于光被限制在感兴趣样品的最表层几百纳米范围内,因此可实现高对比度的成像。隐逝场表现为一种指数衰减的场,其延伸至外部介质中的光学穿透深度通常在所用光波长的数量级上(通常约为500 nm或更小),如公式3和公式4所示。

其中,I 表示在距离棱镜/样品界面 z 处的光强(%),I0 表示在界面处的初始光强(%),z 为距离(单位:纳米),δp 为光学穿透深度,如公式 4 所示。由于光学穿透深度极小,倏逝场能够与两种材料界面附近极近距离的环境发生相互作用,且作用范围远小于光学和声学衍射极限。处于该范围内的材料或颗粒的光学性质可能扰动倏逝场或以其他方式改变其产生,此类相互作用可通过多种方法检测3,5,6,10,15,17,18,21,23,25-27,29-47,84-95。
当衰逝波技术与光声效应(PAS)结合时,所产生的光声波形可用于表征与衰逝场相互作用的材料或颗粒,从而形成基于衰逝场的光声技术(EFPA)系列,如图1所示。该技术家族包括但不限于全内反射光声光谱(TIRPAS)、光学隧穿光声光谱(OTPAS)以及表面等离子体共振光声光谱(SPRPAS)。感兴趣的读者可参考以下文献以获取TIRPAS所用方程的推导过程5,6,18,23,25,26,33-35,43-47、PAS/TIRPAS折射率测量法18以及OTPAS的相关理论6。在每种情况下,光声效应的激发机制均不同于简单的棱镜透射;例如,在TIRPAS中,光通过棱镜/基底/样品界面以衰逝波耦合方式进入发色团(可能包括样品本身或样品中的客体分子);而在SPRPAS中,主要激发方式则是通过吸收表面等离子体,该等离子体是一种次级电磁波,由衰逝场的能量传递至沉积在棱镜表面的金属层中的电子云而产生。这一系列技术最初由Hinoue et al. 于20世纪80年代初发明,并由T. Inagaki et al. 通过发明SPRPAS进一步改进,但由于当时光源和检测设备的技术限制,发展极为有限。近年来,已有研究表明,采用现代聚偏氟乙烯(PVDF)超声探测器和调Q掺钕钇铝石榴石(Nd:YAG)激光器可显著提高此类技术的灵敏度和实用性。特别是纳秒脉冲Nd:YAG激光器可使峰值功率提高106倍,从而使EFPA技术成为评估多种材料和界面光学特性的有效工具5,6,15,18,21-29,31-47,84,96。此外,先前的研究还进一步证明,此类技术能够获取界面处材料的结构信息,而由于传统光声光谱(PAS)技术穿透深度相对较大,此前从未实现过此类测量53,55,57,59,61,62,69,73,75,80,81。
这一能力在后续基于OTPAS技术的实验方案中得以展示;然而,从更基本的层面来看,这三种技术各自依赖于一个不同的决定性方程,该方程决定了技术的性能。例如,在TIRPAS中,倏逝场的光学穿透深度δ'p主要决定了对吸收性样品产生的声学信号强度,其表达式如下:

其中 λ1 是光在棱镜介质中传播的波长,由关系式 λ 定义1 = λ/n1 其中 n1 是棱镜材料的折射率。此外, θ 指激发角,以及 n21 指各介质折射率的比值,由 n 定义21 = n2/1,其中 n2 是样品材料的折射率。光学穿透深度越大,被照射的材料就越多。对于光声效应而言,光学穿透深度越大,被激发以产生声波的材料就越多,从而导致更强的声信号。
然而,与TIRPAS不同,PAS/TIRPAS折射率测量中的主方程是斯涅尔定律:

其中,n1 为棱镜的折射率,θ1 为光在棱镜/样品界面的入射角,n2 为样品的折射率,θ2 为光在第二介质中折射后的折射角。对材料折射率的估计灵敏度主要取决于对 θ1 估计的准确性。在全内反射条件下(即当 θ1 超过产生渐逝场的临界角时),sin θ2 = 1,因此,公式5可简化为 n2 = n1sinθ1。(注:θ1 = θcritical)。已知光电声信号的数值导数(dP/dθ,其中 P 为光电声信号的峰峰值电压,θ 为光入射到样品上的角度)出现局部最小值时对应的角度,即可估算出 θ1,从而求解 n2,进而估算样品的整体折射率,如 图1 所示。
最后,在 OTPAS 中,以下公式将透光率(%)与光声信号的峰峰值电压关联起来:

其中 T 是光学透射率的百分比, p 是由带有薄膜的基底的角谱所产生的峰峰值电压, p0 是由基底的角谱产生的峰峰值电压, β 是基于棱镜和浸油折射率的耦合常数, α 是衰减因子,是一个包含样品薄膜在渐逝场内厚度和折射率的因子。该技术对厚度和折射率的灵敏度取决于对声学信号峰峰值强度 p 和 p 估算的准确性0 在角谱中的每个入射角下。已有研究表明 β 可根据棱镜和浸油的折射率直接计算;因此,计算每个入射角下的光学透射率,并通过统计曲线拟合分析提取薄膜折射率和厚度的估计值,是一项简单直接的任务。感兴趣的读者可参考 Goldschmidt 等 如需更多信息。5,6
EFPA 系统是一种基于光声效应的系统,能够通过光吸收来估计薄膜厚度、薄膜折射率、体相折射率,并生成用于检测的声信号。该系统由一台激光器和一套光学传输装置组成,用于将光引导至棱镜/样品以及激光能量测量端。激光能量测量端用于将光声信号归一化为入射激光能量,如图2所示。EFPA 系统由步进电机驱动器驱动,以旋转棱镜/样品,实现 PAS/TIRPAS 折射率测量和 OTPAS 中的角度光谱测量。系统通过数字采集卡获取数据,并通过内部开发的程序提供用户界面和自动化的载物台控制。
1. 系统设置
2. EFPA 系统初始化与光学校准
3. TIRPAS 技术
4. PAS/TIRPAS 折射率测定法
5. OTPAS
已展示EFPA平台内各子技术TIRPAS、PAS/TIRPAS折射率测量以及OTPAS的实验结果。图4显示了由吸收性样品产生的典型TIRPAS声波信号。声波的双极性特征是TIRPAS技术的典型表现,表明TIRPAS效应正在发生。这种双极波形是由于样品与玻璃基底界面处存在较大的声阻抗差异,导致声波在界面处发生反射所致。对于PAS/TIRPAS折射率测量,获得了图5和表1。图5展示了对样品进行测试时获得的角度谱及其数值微分结果,用于估算体相折射率。表1列出了使用PAS/TIRPAS折射率测量法估算水/聚乙二醇/直接红染料混合物的体相折射率结果,并与使用标准手持式折射计测得的体相折射率估算值进行了比较。最后,图7和表2展示了OTPAS的实验结果。图7包含在OTPAS测量过程中获取的两次角度扫描图谱。表2对OTPAS与光谱椭偏仪在相同薄膜样品上的测量结果进行了比较。

图 1. 渐逝场光声效应(EFPA)的子技术。 目前,EFPA 包含三种不同的子技术,分别为 TIRPAS、PAS/TIRPAS 折射率测量法和 OTPAS。每种技术均可用于评估材料,以推导或确定不同的材料特性。TIRPAS 基于材料的光吸收特性进行检测,用于生物传感;PAS/TIRPAS 折射率测量法用于评估体相折射率;OTPAS 则用于评估薄膜的折射率和厚度。在 TIRPAS 中,入射角超过临界角 θc 的光会产生渐逝场,当其与光学吸收体相互作用时可产生声波。在 PAS/TIRPAS 折射率测量法中,通过渐逝场光声激发和传统的光声激发,分别获取 TIRPAS 和 PAS 的波形信号。将这两种模式绘制在角度谱图上,可观察到过渡角,进而用于推导折射率。最后,在 OTPAS 中,对基底上的薄膜样品和裸基底分别在入射角超过临界角 θc 的激光照射下获取一系列声学信号。通过对数据应用非线性曲线拟合算法,可推导出薄膜的厚度和折射率。 请点击此处查看该图的放大版本。

图 2. EFPA 示意图/实物照片。 左图:搭建 EFPA 装置时,需将激光束扩束,使其完全覆盖乳胶橡胶所覆盖的传感区域。激光束初始入射角度应为 45 度,如图所示。右图:装置实物照片,显示光学传输路径。请点击此处查看该图的放大版本。

图3. 样品装载。 通过浸油使棱镜与基底形成光学接触,从而加载样品。在TIRPAS或PAS/TIRPAS折射率测定中,样品直接与基底上的液体接触以进行测试。在OTPA中,基底与红色乳胶橡胶之间额外添加的浸油实现了光学耦合,从而允许发生光隧穿效应。然后使用扭矩扳手和安装螺钉将装置夹紧固定。 请点击此处查看该图的放大版本。

图 4. TIRPAS 典型数据。 TIRPAS 波形通常呈现出双极性声学信号特征,这是 TIRPAS 方法的典型表现。请点击此处查看该图的放大版本。

图 5. PAS/TIRPAS 典型数据。 左图:通过在不同入射角下照射样品获得的角度光谱数据。右图:左图的数值导数,显示出一个局部极小值,表明从 PAS 到 TIRPAS 机制的转变,该转变对应于临界角的位置。经许可重印。18 请点击此处查看该图的放大版本。

图6. 程序流程图。该程序通过若干迭代步骤运行。首先将棱镜支架调至零度,然后选择参数,再启动程序。接着运行程序以获取基底和薄膜的角谱数据。最后,通过数据拟合曲线,估算薄膜的折射率和厚度。经许可转载。6 请点击此处查看此图的放大版本。

图 7. OTPAS 典型数据。 左图:该图分别显示了 MgF2 薄膜和 N-BK7 基底的角度谱扫描结果。右图:通过将 MgF2 薄膜的角度谱扫描数据除以 N-BK7 基底的扫描数据,并乘以一个常数因子 β,可得到光隧穿率(%)随入射角的变化关系,从而可用于估算薄膜的折射率和厚度。请点击此处查看该图的放大版本。
| PAS/TIRPAS | 样品 1 | 样品 2 | 样品 3 | 样品 4 | 样品 5 | Atago R-5000 |
| 直接红/PEG 125 µg/ml | 1.395 | 1.395 | 1.395 | 1.395 | 1.395 | 1.395-1.397 |
| 直接红/PEG 250 µg/ml | 1.39 | 1.39 | 1.39 | 1.39 | 1.39 | 1.390-1.396 |
| 直接红/PEG 500 µg/ml | 1.388 | 1.389 | 1.389 | 1.389 | 1.389 | 1.381-1.395 |
| 直接红/PEG 750 µg/ml | 1.382 | 1.382 | 1.387 | 1.387 | 1.387 | 1.372-1.395 |
| 肌红蛋白 460 µg/ml | 1.33 | 1.329 | 1.331 | 1.33 | 1.331 | 1.335 |
表1. PAS/TIRPAS 结果。 下表显示了加入50%聚乙二醇以提高折射率时,直接红染料的典型结果。经许可转载。18
| 测试类型 | 技术方法 | 薄膜类型 | 折射率 | 厚度 (nm) |
| 组内测试 | OTPAS | MgF2 200 nm | 1.384±0.004 | 203±6 |
| 组内测试 | 椭圆偏振法 | MgF2 200 nm | 1.393±0.001 | 192.4±1.1 |
| 组间测试 | OTPAS | MgF2 200 nm | 1.395±0.011 | 220±19 |
| 组间测试 | 椭圆偏振法 | MgF2 200 nm | 1.392±0.002 | 195.2±1.8 |
表2. OTPAS结果。 下表展示了200 nm氟化镁(MgF2)薄膜在OTPAS与光谱椭偏仪测量中的典型结果。组内差异指对同一薄膜重复测量十次,组间差异指对十个独立薄膜分别进行测量。经许可转载。6
| 平均次数 | 1 | 起始角度 | 60 | 预热时间(分钟) | 0 | 折射率(棱镜) | 1.519 |
| 扫描次数 | 1 | 步长 | 0.1 | 保存至 | “yourfilename”.csv | 微步数 | 10 |
| 设置Q开关 | 275 | 终止角度 | 80 | 激光器选择 | Surelite | 转速(rpm) | 500 |
| 误差容限(%) | 5 | 激光器启动 | 开启 | 低通滤波器(程序) | 1.00 x 107 | 加速度(RPS) | 200 |
表3. PAS/TIRPAS折射率测量中的角谱设置。 下表列出了PAS/TIRPAS折射率测量中获取角谱所需的各项参数设置。
| 平均次数 | 64 | 起始角度 | 70 | 预热时间(分钟) | 1 | 折射率(棱镜) | 1.519 |
| 扫描次数 | 1 | 步长 | 0.1 | 保存至 | “yourfilename”.csv | 微步数 | 10 |
| 设置Q开关 | 275 | 终止角度 | 72 | 激光器选择 | Surelite | 转速(rpm) | 500 |
| 误差容限(%) | 5 | 激光器启动 | 开启 | 低通滤波器(程序) | 1.00 x 107 | 加速度(RPS) | 200 |
表4. OTPAS的角谱设置。 下表列出了OTPAS中实现角谱测量所需的各项参数设置。
| 较低折射率 | 1 | 容差 | 1.00 x 10-12 | 耦合器折射率 | 1.519 | 基底数据 | 选择您的文件名.csv |
| 较低厚度 | 0 nm | 折射率初始估计值 | 1.3 | 波长 | 532 nm | 多个文件保存至 | 选择您的文件名.csv |
| 较高厚度 | 1,000 nm | 厚度初始估计值 | 200 nm | 偏振态 | P 偏振 | 文件数量 | 您想要拟合的文件数量 |
| 最大迭代次数 | 5,000 | 基底折射率 | 1.519 | 薄膜数据 | 选择您的文件名.csv | 拟合类型 | 单次拟合/批量拟合 |
表5. 曲线拟合参数。 下表列出了正确参数估计所需的曲线拟合参数。
补充代码文件: OTPAS thin film analyzer_USB-5133.vi。 请点击此处下载该文件。
为了开发新材料及材料组合以解决复杂且昂贵的社会问题,未来无疑将继续广泛使用纳米尺度材料表征设备。目前,尽管存在固有局限性且替代方法有限,人们仍普遍采用椭圆偏振法、原子力显微镜(AFM)和传统光声技术等方法对纳米尺度的材料特性进行评估。电场调制光声技术(EFPA)展现出良好的前景,它是一套整合性的技术体系,有望突破传统光声效应的常规限制,提供一种可用于纳米尺度材料表征的单一仪器解决方案。
本文所述的实验方案及其相关子技术能够估算材料的体相和薄膜折射率、薄膜厚度,并具备多种生物传感应用的检测能力。OTPAS 技术的特定优势在于,即使薄膜本身不含有内在吸收性色素,仍可估算纳米尺度薄膜的厚度和折射率。EFPA 作为一套整合技术,相较于椭圆偏振测量法、原子力显微镜以及传统光声效应等方法,具有若干优势。首先,EFPA 的搭建成本相对较低。一个典型的 EFPA 装置可同时估算体相和表面的折射率、估算厚度,并可用于探测吸收性材料,其搭建成本约为 5,000 美元。相比之下,原子力显微镜(AFM)装置的成本约为 50,000 美元,且无法估算光学性质。其次,EFPA 可在数分钟内完成这些性质的测定,无需如椭圆偏振法中那样进行复杂的参数输入,避免了因输入参数误差导致结果偏差的问题。最后,与传统光声效应相比,EFPA 的轴向分辨率高出 100 倍,能够估算厚度低至 200 nm 的薄膜6,而使用相似激光器和装置时,传统光声效应的分辨率仅限于 7,500 纳米82。方便的是,几乎所有材料都具有独立且不同的表面与体相折射率特性以及吸收特性,这些特性共同决定了它们在光学研究系统中应用的功能差异。
该方案中的关键步骤可归结为三个主要考虑因素。首先,样品(无论是液体还是薄膜)的光学耦合对于获得可靠且可重复的结果至关重要。浸油或样品中的气泡会导致对厚度和折射率的表征不准确,而在某些情况下,由于超声波难以有效穿过液体/空气界面(两者声阻抗差异极大),传感器对被激发样品完全失去灵敏度。其次,针对OTPAS技术,激光束照射区域内的样品应具有均匀的厚度,以确保扫描过程中厚度值的一致性,因为目前EFPA尚无法分辨激发区域内样品的厚度差异。最后,同样针对OTPAS技术,样品薄膜必须对所用波长的光透明。这是描述OTPAS如何测定厚度和折射率的数学方程中的一个基本假设。如果薄膜对光的吸收较强,导致入射光中有超过1%被吸收,则测得的表征结果将无法真实反映薄膜的实际厚度和折射率。
对EFPA技术进行改进相对容易,也可替换其他类型的组件以实现更有效的扫描或增强功能。然而,在构建EFPA系统时,必须解决以下主要问题:首先,必须具备一种能够自动旋转棱镜支架并在微小角度(0.05度)增量下采集声学信号的方法;其次,需要具备纳秒级或更短脉冲宽度的激光系统,以利用光声效应激发样品;第三,需要配备图形用户界面或程序,用于采集数据并进行数学曲线拟合及数值微分,从而估算厚度以及体相材料/薄膜的折射率。
EFPA 存在三个基本局限性。第一,为了利用全内反射相位检测技术(TIRPAS)测定体相折射率、薄膜折射率、厚度或检测材料,样品的折射率必须低于与其接触的棱镜或基底的折射率,以便发生全内反射,而全内反射是这三种技术的基础。第二,目前 EFPA 需要与样品直接接触,才能估算其厚度、折射率以及检测相关性质。第三,EFPA 的一种子技术 OTPAS 目前要求材料具有光学透明性,才能对目标薄膜的厚度和折射率进行估算。
这种集成化仪器可在多种表征环境中找到广泛应用,包括科研核心设施和工业环境。关于EFPA技术的后续研究工作将集中于通过改进仪器设备以及平移/旋转平台来提高折射率测量的准确性。进一步的发展将致力于提升信噪比,以检测更微量的吸光物质,从而实现对弱吸收材料的表征,这类材料在生物系统中最为常见。
作者声明不存在任何竞争性经济利益。
本项目由美国国家科学基金会BRIGE奖(1221019)资助。
| 姓名 | 公司 | 目录编号 | 评论 |
|---|---|---|---|
| 100 mm 平凸透镜 | Thorlabs | LA1509 | 用于光束扩束器的平凸透镜 |
| -30 mm 平凹透镜 | Thorlabs | LC2679 | 用于光束扩束器的平凹透镜 |
| 10 MHz 超声换能器 | Harisonic | I31006T | 用于光声检测的超声传感器,既可用于激光能量测量,也可用于 OTPAS 装置 |
| 浸油 A 型 | Cargille | 16482 | 折射率 1.519,与 NBK-7 基底材料匹配 |
| 天然乳胶橡胶片(红色) | McMastercarr | 86085K11 | 折射率约 1.519,与 A 型浸油液体匹配,作为光吸收体用于测量光隧穿效应和激光能量 |
| 激光防护眼镜 | VERE | 53 | 用于保护眼睛免受激光照射 |
| 笼式安装非偏振分光立方体 | Thorlabs | CM1-BS013 | 将激光分为两束,其中一束用于测量,另一束用于激发 |
| 笼式安装偏振分光立方体 | Thorlabs | CM1-PBS251 | 确保用于光隧穿实验的光束具有偏振性 |
| 带刻度环控可调光阑 | Thorlabs | SM1D12C | 将光束截面缩小以便对准 |
| 数据采集卡 | National Instruments | USB-5133 | USB 接口示波器,用于数据采集 |
| 步进电机驱动器 | National Instruments | MID-7604 | 驱动步进电机以实现角度光谱测量 |
| Sherline XY 位移台(14”) | Sherline | 5600-CNC/5610-CNC | Sherline XY 位移台 |
| 四爪自定心卡盘 | Sherline | 1076/1034 | Sherline 旋转附件 |
| 直角连接装置 | Sherline | 3701 | 用于连接旋转支架的直角附件 |
| CNC 旋转台 | Sherline | 8730 | 用于固定 OTPAS 棱镜/样品的旋转台 |
| Surelite I-20 激光系统 | Continuum | I-20 | 用于激发样品的调 Q Nd:YAG 激光器 |
| NBK-7 棱镜 | Thorlabs | PS911 | 用于 EFPA 的直角棱镜 |
| 可调扭矩扳手 | Tohnichi | RTD40Z | 可调扭矩扳手,用于在每种技术中将 EFPA 装置均匀拧紧至 16.75 g/mm |
| 数字水平仪 | Micromark | 84519 | 数字水平仪,用于确保 EFPA 棱镜支架起始角度为 0 度 |