介绍了高质量块体和薄膜(Mg0.25(1-x)CoxNi0.25(1-x)Cu0.25(1-x)Zn0.25(1-x))O及(Mg0.25(1-x)Co0.25(1-x)Ni0.25(1-x)CuxZn0.25(1-x))O熵稳定氧化物的合成方法。
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介绍了高质量块体和薄膜(Mg0.25(1-x)CoxNi0.25(1-x)Cu0.25(1-x)Zn0.25(1-x))O及(Mg0.25(1-x)Co0.25(1-x)Ni0.25(1-x)CuxZn0.25(1-x))O熵稳定氧化物的合成方法。
本文介绍了一种用于合成块体和薄膜多组分(Mg0.25(1-x)CoxNi0.25(1-x)Cu0.25(1-x)Zn0.25(1-x))O(Co 变体)和(Mg0.25(1-x)Co0.25(1-x)Ni0.25(1-x)CuxZn0.25(1-x))O(Cu 变体)熵稳定氧化物的实验方法。通过该方法合成了物相纯净且化学成分均匀的(Mg0.25(1-x)CoxNi0.25(1-x)Cu0.25(1-x)Zn0.25(1-x))O(x = 0.20、0.27、0.33)和(Mg0.25(1-x)Co0.25(1-x)Ni0.25(1-x)CuxZn0.25(1-x))O(x = 0.11、0.27)陶瓷靶材,并将其用于制备高质量、物相纯净、单晶结构的目标化学计量比薄膜。文中详细描述了在(001)取向的 MgO 衬底上,采用脉冲激光沉积法生长表面平整、化学均匀的熵稳定氧化物薄膜的具体工艺。通过 X 射线衍射对块体材料和薄膜材料的物相结构与结晶性进行了表征;利用 X 射线光电子能谱和能量色散 X 射线光谱验证了其化学成分与均匀性;采用扫描探针显微技术测量了薄膜的表面形貌。高质量单晶熵稳定氧化物薄膜的制备,为研究这一类高度无序氧化物材料中界面、尺寸、应变和无序效应对材料性能的影响提供了可能。
自2004年发现高熵金属合金以来,高熵材料因其硬度1,2,3、韧性4,5和耐腐蚀性3,6等优异性能而受到广泛关注。近年来,高熵氧化物7,8和高熵硼化物9相继被发现,为材料研究者提供了广阔的研究空间。其中,氧化物尤其能够展现出铁电性10、磁电耦合性11,12、热电性13和超导性14等有用且动态的功能特性。尽管存在显著的结构无序性,最近研究表明熵稳定氧化物(ESOs)仍具有有趣的、依赖于成分的功能特性15,
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警告:请穿戴必要的个人防护装备(PPE),包括防滑鞋、长裤、护目镜、颗粒物过滤口罩、实验服和手套,因为氧化物粉末可能引起皮肤接触刺激和眼睛接触刺激。实验开始前,请查阅所有相关的材料安全数据表,以了解额外的个人防护装备要求。合成操作应在通风橱等工程控制设备中进行。
1. 熵稳定氧化物的批量合成


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对制备的 (Mg0.25(1-x)CoxNi0.25(1-x)Cu0.25(1-x)Zn0.25(1-x))O(x = 0.20、0.27、0.33)和 (Mg0.25(1-x)Co0.25(1-x)Ni0.25(1-x)CuxZn0.25(1-x))O(x = 0.11、0.27)块体陶瓷(图4a)以及沉积的薄膜(图4b)进行了X射线衍射(XRD)谱分析。这些数据表明样品为单相,可用于晶格常数、晶体质量和薄膜厚度的测定。采用X射线光电子能谱(XPS)(图5)和原子力显微镜(AFM)(图6)分析,以确定靶材和薄膜的名义成.......
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我们描述并展示了一种用于合成体相高质量单晶薄膜的方案,材料为(Mg0.25(1-x)CoxNi0.25(1-x)Cu0.25(1-x)Zn0.25(1-x))O(x = 0.20、0.27、0.33)和(Mg0.25(1-x)Co0.25(1-x)Ni0.25(1-x)CuxZn0.25(1-x))O(x = 0.11、0.27)的熵稳定氧化物。我们预计,随着该领域的不断发展和拓展,这些合成技术可广泛适用于更多新发现的熵稳定氧化物体系。此外,成分可调的熵稳定氧化物的合成,为研究结构无序和化学无序对功能特性的影响提供了有效平台。
尽管本方案可制备出单相且高质量的熵稳定氧化物,但该技术仍存在一定的局限性,且可对合成方法进行改进,以更深入地理解材料特性并提高合成的可重复性。以下将概述该方案中的关键步骤、可能的改进方法、故障排除措施、技术局限性、相对于现有方法的意义,以及该.......
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我们没有需要披露的内容。
本工作部分由美国国家科学基金会资助,项目编号为 DMR-0420785(XPS)。我们感谢密歇根大学材料表征中心(MC)2 在XPS测试方面提供的帮助,以及密歇根大学Van Vlack实验室在XRD测试方面的支持。我们还要感谢Thomas Kratofil在块体材料制备过程中提供的协助。
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| 姓名 | 公司 | 目录编号 | 评论 |
|---|---|---|---|
| 氧化镁 99.95% | Fisher | AA1468422 | |
| 氧化钴(II),99.995% | Fisher | AA4435414 | |
| 氧化镍(II) 99.998% | Fisher | AA1081914 | |
| 氧化铜(II) 99.995% | Fisher | AA1070014 | |
| 氧化锌 99.99% | Fisher | AA8781230 | |
| 三氯乙烯 半导体级 9 | Fisher | AA39744K7 | |
| 丙酮 半导体级 99.5% | Fisher | AA19392K7 | |
| 2-丙醇 ACS 99.5% | Fisher | A416S4 | |
| 矿物油,纯品 | Acros Organics | AC415080010 | |
| 氧化铝坩埚 | MTI Corporation | eq-ca-l50w40h20 | |
| 氧化锆(YSZ)研磨介质 | Inframat Advanced Materials | 4039GM-S010 | |
| 碳化硅砂纸 320/600/800/1200 | South Bay Technology | SDA08032-25 | |
| MgO (100) 基片,5×5×0.5 mm,1SP | MTI Corporation | MGa050505S1 | |
| 高纯压缩氧气,99.999% | Cryogenic Gases | OXYUHP | |
| 超干燥压缩氮气 | Cryogenic Gases | NITEX |
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