来源:Andrew J. Steckl 博士实验室 — 辛辛那提大学
扫描电子显微镜(SEM)是一种利用电子束成像的高性能显微镜。它能够对导电样品进行成像,其放大倍数远超传统显微镜所能达到的范围。现代光学显微镜的最大放大倍数约为1,000倍,而典型的扫描电子显微镜放大倍数可超过30,000倍。由于扫…
1. 样品制备
2. 样品插入与扫描电镜启动
3. 捕获扫描电镜图像
4. 使用扫描电镜软件进行测量
扫描电子显微镜(SEM)是一种在化学和材料分析中广泛应用的强大技术,它利用扫描的电子束来分析样品的表面结构和化学成分。
现代光学显微镜受限于可见光波与物体之间的相互作用,即衍射现象。两个物体之间可分辨的最小距离,或称横向分辨率,取决于衍射图样的大小相对于物体尺寸的变化。因此,在理想情况下,光学显微镜的最大放大倍数可达1,000倍,横向分辨率最高可达200 nm。
扫描电子显微镜(SEM)不受衍射效应的限制,因为它使用的是电子束而非光线。因此,SEM 可实现高达一百万倍的放大倍数,并具有亚纳米级的横向分辨率。此外,与光学显微镜仅能对焦平面内的结构成像不同,SEM 不受此限制。因此,在焦平面外的物体也能被清晰分辨,而在光学显微镜下这些物体会呈现模糊状态。这使得 SEM 的景深最多可提高至原来的 300 倍。
化学家广泛使用扫描电子显微镜(SEM)来分析纳米级实体(如催化剂颗粒)的表面成分、结构和形貌。
本视频将概述扫描电子显微镜(SEM)仪器的基本原理,并演示实验室中SEM样品制备与操作的基础步骤。
在扫描电子显微镜(SEM)中,样品必须具有导电性才能进行常规成像。对于非导电性样品,需在其表面镀上一层薄金属(如金)。然后通过将一束聚焦的高能电子束扫描样品表面来生成图像。
扫描电子显微镜(SEM)中使用的电子束由配备钨丝阴极的电子枪产生。在电场作用下,电子被加速并朝向阳极方向,即样品方向运动。
随后,电子束通过聚光镜聚焦,并进入物镜。用户必须对物镜进行校准,以将电子束聚焦在样品上的固定位置。聚焦后的电子束随后在样品表面进行光栅扫描。
当一次电子与样品相互作用时,会根据电子束能量的不同穿透至一定深度。这种与表面的相互作用导致二次电子和背散射电子的发射,随后由相应的探测器对其进行检测。
发射的二次电子信号强度随样品角度的不同而变化。与电子束垂直的表面释放的二次电子较少,因此显得较暗。在表面边缘处,会释放出更多的电子,该区域看起来更亮。这一现象使得图像呈现出清晰的三维外观,正如本张石棉的扫描电镜(SEM)图像所示。
相比之下,背散射电子会沿入射电子束的相反方向反射。其检测强度随样品原子序数的增加而增强,从而能够获取表面的成分信息,正如这张玻璃中包裹体的背散射图像所示。
在介绍完扫描电子显微镜(SEM)仪器的基本原理后,将在实验室中演示 SEM 的基本操作。
首先,将样品放置在样品台座上进行溅射镀膜。确保样品完全干燥并已脱气。如有需要,可使用双面导电碳胶带将样品固定在台座上。将样品放入溅射系统中,溅射几纳米厚的金层。金层的厚度应根据是否会影响样品表面形貌而进行调整。
将样品从溅射系统中取出。确保样品表面与金属 stub 之间存在导电通路。
样品镀膜完成后,即可进行成像。首先对扫描电镜样品室进行放气,使样品室恢复至常压。
打开扫描电镜样品室,取出样品台。将样品台上的样品座放置到位,并拧紧固定。
如果无法通过软件控制镜头与样品之间的距离(称为工作距离),请确保载物台和样品台具有适当的高度以获得图像。
将样品台放入样品室,并关闭仓室。
打开真空泵,使系统开始抽真空。
开始成像时,打开扫描电镜(SEM)软件。选择所需的运行电压,范围为1–30 kV。对于高密度材料,应使用较高的加速电压;而对于低密度材料,则应选择较低的加速电压。
大多数扫描电镜软件都包含自动聚焦功能。该功能将获取样品的焦点,作为起始点使用。
将放大倍数设置为最低的50倍放大级别。
扫描电子显微镜具有不同的扫描模式,例如快速扫描和慢速扫描。快速扫描模式可提供更快的屏幕刷新率,但图像质量较低。为便于找到样品并开始粗调焦,应选择快速扫描模式。
调节粗调焦旋钮,直至图像变得清晰。然后调节载物台位置,使感兴趣区域出现在显示屏上。
首先,在最低放大倍数下使用粗调焦旋钮进行对焦。然后,逐步增加放大倍数,直至观察到目标结构。在此放大倍数下,调节粗调焦旋钮,使图像大致聚焦。如有必要,在放大倍数提高后再次调节粗调焦旋钮。
然后,调节细准焦螺旋以进一步优化图像。每次增加放大倍数时,均需重复上述聚焦步骤。
不对称的电子束畸变可能导致图像模糊,这种现象称为像散,即使样品已准确聚焦时也是如此。为减小这种效应,应将放大倍数调至最高,使用微调焦旋钮对图像进行聚焦。然后在 x 和 y 两个方向上调节消像散器,以重塑电子束的形状。
继续调整焦距和散光校正设置,直至在更高放大倍数下图像达到尽可能清晰的状态。
然后返回至所需的放大倍数。
扫描电镜图像可以在“慢速拍照”或“快速拍照”模式下获取。“快速拍照”模式生成质量较低的图像,但采集速度更快。“慢速拍照”模式生成质量更高的图像,但可能会使样品表面产生电子饱和。
要测量所捕获图像中的特征,请使用软件的测量工具。
大多数仪器都包含测量选项,例如长度、面积和角度。
为确定长度,选择扫描电镜图像上需要测量的距离。在图像上单击以创建参考点,软件将分析这些参考点。
完成后,根据制造商的指南关闭扫描电镜(SEM)。
扫描电子显微镜用于成像多种多样的样本。
扫描电子显微镜可用于成像复杂且高度结构化的材料,例如碳纤维膜。
样品表现出高度的孔隙率和三维结构;这一特性在催化等应用中非常理想。
扫描电子显微镜也可用于观察生物样本,例如细菌。在此示例中,利用扫描电子显微镜对肠道细菌的毛发状附属结构(即菌毛)进行了成像。
幽门螺杆菌在血琼脂平板上培养,并将细菌接种至玻璃盖玻片上。
将完全干燥的样品进行固定,并镀上5 nm的钯金以使样品具有导电性。
最后,使用扫描电镜对样品进行成像。幽门螺杆菌清晰可见,并可观察到可测量的纳米级菌毛。
本示例描述了如何将脑组织包埋于稳定的树脂中,然后使用聚焦离子束和扫描电镜进行三维成像。
首先,将脑组织固定并包埋在树脂中。然后确定目标区域,并使用切片机进行切片。
随后将样品插入聚焦离子束扫描电子显微镜中进行三维成像。利用聚焦离子束依次去除样品的薄层。每次去除前,均使用背散射扫描电子显微镜对每一层进行成像。
您刚刚观看了 JoVE 关于扫描电子显微镜的简介。现在您应该理解扫描电子显微镜的基本工作原理,以及如何制备和分析 SEM 样品。
感谢观看!
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Q1: Why does SEM provide better resolution than light microscopy?
SEM uses electrons instead of light, avoiding diffraction limitations that restrict light microscopes to 200 nm lateral resolution and 1,000X magnification. Electrons enable SEM to achieve sub-nanometer resolution and magnifications exceeding one million times, making it ideal for analyzing nanoscale structures like catalyst particles.
Q2: What is the purpose of coating non-conductive samples with metal in SEM?
SEM requires samples to be conductive for conventional imaging. Non-conductive samples are coated with a thin metal layer, typically gold, to enable electron conductivity. This conductive coating allows the electron beam to interact properly with the sample surface and generate detectable secondary and backscattered electrons.
Q3: How do secondary and backscattered electrons differ in SEM imaging?
Secondary electrons are emitted from the sample surface and vary in intensity based on surface angle, creating a 3D appearance with darker perpendicular surfaces and brighter edges. Backscattered electrons reflect opposite to the beam direction and increase in intensity with atomic number, enabling compositional analysis of the sample surface.
Q4: What is astigmatism in SEM and how is it corrected?
Astigmatism is asymmetrical beam distortion that causes image blurring even when the sample is well-focused. To correct it, increase magnification to maximum, focus using fine focus, then adjust stigmation controls in both x and y directions to reshape the electron beam until the image is optimally focused.
Q5: How does depth of field in SEM compare to light microscopy?
SEM provides up to 300 times greater depth of field than light microscopy because it is not limited to imaging features only in the focal plane. Objects outside the focal plane are resolved in SEM rather than appearing blurry, enabling clear three-dimensional visualization of complex sample structures.
Q6: What operating parameters should be adjusted when imaging different material densities?
Select accelerating voltage based on material density: higher voltages up to 30 kV for high-density materials and lower voltages starting at 1 kV for low-density materials. The electron beam energy determines penetration depth, so voltage selection directly affects image quality and compositional information obtained from the sample.
Q7: How is SEM used for sample preparation for analytical characterization?
SEM enables detailed imaging of samples prepared for analytical analysis, allowing visualization of surface morphology, porosity, and three-dimensional structure before further characterization. This imaging capability helps verify sample quality and identify regions of interest for subsequent analytical measurements or compositional studies.