In dieser Arbeit beschreiben wir eine Technik, die verwendet wird, um neue Kristalle (van der Waals Heterostrukturen) zu erzeugen, indem ultradünne 2D-Materialien mit präziser Kontrolle über Position und relative Ausrichtung gestapelt werden.
Methodenartikel
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| Name | Unternehmen | Katalognummer | Kommentare |
|---|---|---|---|
| 5X Objektiv | Nikon Metrology | MUE12050 | 23,5 mm Arbeitsabstand und 0,15 numerische Apertur |
| 50X Objektiv | Nikon Metrology | MUE21500 | 19 mm Arbeitsabstand und 0,4 numerische Apertur |
| 100X Objektiv | Nikon Metrology | MUE21900 | 4,5 mm Arbeitsabstand und 0,8 numerische Apertur |
| Aceton | Sigma-Aldrich | 270725 | Reinheit ≥ 99.90% |
| Klebeband | Ultron Systems, Inc. | ||
| Anisol | MicroChem | ||
| Rasterkraftmikroskop | Bruker | Dimension Icon | Wir verwenden in der Regel den ScanAsyst-Modus |
| Rotationsmanipulator für die Unterstufe | Zaber Technologies | X-RSW60A-PTB2 | 360 Grad Verfahrweg mit einer Schrittweite von 4.091 μm rad |
| Unterstufe X Manipulator | Zaber Technologies | X-LSM025A-PTB2 | 25 mm Verfahrweg mit Schrittweite von 47,625 nm |
| Unterstufe Y-Manipulator | Zaber Technologies | X-LSM025A-PTB2 | 25 mm Verfahrweg mit Schrittweite von 47,625 nm |
| Unterstufe Z-Manipulator | Zaber Technologies | X-VSR40A-KX14A | 40 mm Verfahrweg mit Schrittweite von 95,25 nm |
| Isopropanol | Sigma-Aldrich | 563935 | Reinheit 99.999 |
| LabVIEW-Software | National Instruments | ||
| Macor | McMaster-Carr | 8489K238 | |
| Mikroskopkamera | Zeiss | 426555-0000-000 | 5 Megapixel, 47 fps Live-Bildrate, Belichtungszeit von 100 μ s - 2 s, Farbkamera |
| Molybdändisulfid (MoS2) | HQ Graphene | ||
| Optical Breadboard | Thorlabs, Inc. | MB4545/M | |
| Optisches Mikroskop | Nikon Metrology | LV150N | |
| Sauerstoff-Plasmaätzer | Plasma Etch, Inc. | PE-50 | |
| PDMS-Stempel | Gel-Pak | PF-20-X4 | |
| PMMA 950 A6 | MichroChem Corp. | M230006 0500L1GL | |
| Polypropylencarbonat | Sigma-Aldrich | 389021-100g | |
| PVA Partall #10 | Composites Canada | ||
| Rheniumdisulfid (ReS2) | HQ Graphen | ||
| Si/SiO2 Substrat | Nova Electronics Materials | HS39626-OX | |
| Spin Coater | Laurell Technologies | WS-650-23 | |
| Temperaturregler | Auber Instruments | SYL-23X2-24 | Regelt die Temperatur der Unterstufe über ein Thermoelement vom Typ J |
| Steuereinheit für die Oberstufe | Mechonics | CF.030.0003 | |
| X-Manipulator für die Oberstufe | Mechonics | MS.030.1800 | 18 mm Verfahrweg mit einer Schrittweite von 11 nm |
| Y-Manipulator | für die OberstufeMechonics | MS.030.1800 | 18 mm Verfahrweg mit Schrittweite von 11 nm |
| Oberstufe Z Manipulator | Mechonics | MS.030.3000 | 30 mm Verfahrweg mit Schrittweite von 11 nm |
| Ultraschallbad | Elma Schmidbauer GmbH | Elmasonic P 30 H |
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