In dieser Arbeit beschreiben wir eine Technik, die verwendet wird, um neue Kristalle (van der Waals Heterostrukturen) zu erzeugen, indem ultradünne 2D-Materialien mit präziser Kontrolle über Position und relative Ausrichtung gestapelt werden.
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Methodenartikel
In dieser Arbeit beschreiben wir eine Technik, die verwendet wird, um neue Kristalle (van der Waals Heterostrukturen) zu erzeugen, indem ultradünne 2D-Materialien mit präziser Kontrolle über Position und relative Ausrichtung gestapelt werden.
In dieser Arbeit beschreiben wir eine Technik zur Herstellung neuer Kristalle (van der Waals heterostructures) durch Stapeln von deutlichen ultradünnen 2D-Materialien. Wir demonstrieren nicht nur die seitliche Kontrolle, sondern vor allem auch die Kontrolle über die Winkelausrichtung benachbarter Schichten. Der Kern der Technik wird durch ein selbst gebautes Transfer-Setup dargestellt, das es dem Benutzer ermöglicht, die Position der einzelnen Kristalle, die an der Übertragung beteiligt sind, zu steuern. Dies wird mit Submikrometer-Präzision (translational) und Sub-Grad (Winkel) erreicht. Vor dem Stapeln werden die isolierten Kristalle individuell durch kundenspezifische Bewegungsstufen manipuliert, die über eine programmierte Softwareschnittstelle gesteuert werden. Da die gesamte Übertragungseinrichtung computergesteuert ist, kann der Anwender zudem aus der Ferne präzise Heterostrukturen erstellen, ohne direkt mit dem Transfer-Setup in Berührung zu kommen, und diese Technik als "freihändig" kennzeichnen. Neben der Präsentation des Transfer-Setups beschreiben wir auch zwei Techniken zur Vorbereitung der Kristalle, die anschließend gestapelt werden.
Die Forschung auf dem aufkeimenden Gebiet zweidimensionaler (2D) Materialien begann, nachdem Die Forscher eine Technik entwickelt, die die Isolierung von Graphen1,2,3 (ein atomar flaches Blatt kohlenstoffatomischer) aus grafit. Graphen ist ein Mitglied einer größeren Klasse von geschichteten 2D-Materialien, auch als van der Waals-Materialien oder -Kristallen bezeichnet. Sie haben eine starke kovalente Intralayer-Bindung und eine schwache van der Waals-Interlayer-Kupplung. Daher kann die Technik zur Isolierung von Graphen aus Graphit auch auf andere 2D-Materialien angewendet w....
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1. Instrumentierung für das Übertragungsverfahren
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Zur Veranschaulichung der Ergebnisse und der Wirksamkeit unseres Verfahrens stellen wir eine Abfolge von winkelgesteuerten Stapeln von Rheniumdisulfid (ReS2) dünnen Kristallen vor. Um zu betonen, dass die beschriebene Methode auch auf atomar dünne Schichten angewendet werden kann, veranschaulichen wir auch die Konstruktion von zwei relativ verdrehten Monolayern aus Molybdändisulfid (MoS2).
Um die Winkelausr.......
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Die hier vorgestellte selbstgebaute Transfereinrichtung bietet eine Methode zum Bau neuartiger geschichteter Materialien mit seitlicher und rotierender Steuerung. Im Vergleich zu anderen Lösungen, die in der Literatur10,25beschrieben werden, benötigt unser System keine komplexe Infrastruktur, erreicht aber das Ziel der kontrollierten Ausrichtung von 2D-Kristallen.
Der wichtigste Schritt in der Prozedur ist das Ausrichten und Platzieren.......
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Die Autoren haben nichts zu verraten. Die Autoren haben keine konkurrierenden finanziellen Interessen.
Die Autoren würdigen die Förderung durch die University of Ottawa und NSERC Discovery Grant RGPIN-2016-06717 und NSERC SPG QC2DM.
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| Name | Unternehmen | Katalognummer | Kommentare |
|---|---|---|---|
| 5X Objektiv | Nikon Metrology | MUE12050 | 23,5 mm Arbeitsabstand und 0,15 numerische Apertur |
| 50X Objektiv | Nikon Metrology | MUE21500 | 19 mm Arbeitsabstand und 0,4 numerische Apertur |
| 100X Objektiv | Nikon Metrology | MUE21900 | 4,5 mm Arbeitsabstand und 0,8 numerische Apertur |
| Aceton | Sigma-Aldrich | 270725 | Reinheit ≥ 99.90% |
| Klebeband | Ultron Systems, Inc. | ||
| Anisol | MicroChem | ||
| Rasterkraftmikroskop | Bruker | Dimension Icon | Wir verwenden in der Regel den ScanAsyst-Modus |
| Rotationsmanipulator für die Unterstufe | Zaber Technologies | X-RSW60A-PTB2 | 360 Grad Verfahrweg mit einer Schrittweite von 4.091 μm rad |
| Unterstufe X Manipulator | Zaber Technologies | X-LSM025A-PTB2 | 25 mm Verfahrweg mit Schrittweite von 47,625 nm |
| Unterstufe Y-Manipulator | Zaber Technologies | X-LSM025A-PTB2 | 25 mm Verfahrweg mit Schrittweite von 47,625 nm |
| Unterstufe Z-Manipulator | Zaber Technologies | X-VSR40A-KX14A | 40 mm Verfahrweg mit Schrittweite von 95,25 nm |
| Isopropanol | Sigma-Aldrich | 563935 | Reinheit 99.999 |
| LabVIEW-Software | National Instruments | ||
| Macor | McMaster-Carr | 8489K238 | |
| Mikroskopkamera | Zeiss | 426555-0000-000 | 5 Megapixel, 47 fps Live-Bildrate, Belichtungszeit von 100 μ s - 2 s, Farbkamera |
| Molybdändisulfid (MoS2) | HQ Graphene | ||
| Optical Breadboard | Thorlabs, Inc. | MB4545/M | |
| Optisches Mikroskop | Nikon Metrology | LV150N | |
| Sauerstoff-Plasmaätzer | Plasma Etch, Inc. | PE-50 | |
| PDMS-Stempel | Gel-Pak | PF-20-X4 | |
| PMMA 950 A6 | MichroChem Corp. | M230006 0500L1GL | |
| Polypropylencarbonat | Sigma-Aldrich | 389021-100g | |
| PVA Partall #10 | Composites Canada | ||
| Rheniumdisulfid (ReS2) | HQ Graphen | ||
| Si/SiO2 Substrat | Nova Electronics Materials | HS39626-OX | |
| Spin Coater | Laurell Technologies | WS-650-23 | |
| Temperaturregler | Auber Instruments | SYL-23X2-24 | Regelt die Temperatur der Unterstufe über ein Thermoelement vom Typ J |
| Steuereinheit für die Oberstufe | Mechonics | CF.030.0003 | |
| X-Manipulator für die Oberstufe | Mechonics | MS.030.1800 | 18 mm Verfahrweg mit einer Schrittweite von 11 nm |
| Y-Manipulator | für die OberstufeMechonics | MS.030.1800 | 18 mm Verfahrweg mit Schrittweite von 11 nm |
| Oberstufe Z Manipulator | Mechonics | MS.030.3000 | 30 mm Verfahrweg mit Schrittweite von 11 nm |
| Ultraschallbad | Elma Schmidbauer GmbH | Elmasonic P 30 H |
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