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Synthèse et caractérisation de l'axe c Haute ZnO Thin Film par Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition système et son application Photodetector UV
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Synthèse et caractérisation de l'axe c Haute ZnO Thin Film par Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition système et son application Photodetector UV

Article DOI: 10.3791/53097-v • 08:18 min • October 3rd, 2015
October 3rd, 2015 •
1, 1
1Institute of Manufacturing Technology and Department of Mechanical Engineering, National Taipei University of Technology (TAIPEI TECH)

Kapitel

Tags

Ingénierie Numéro 104 ZnO film mince, plasma dépôt chimique en phase vapeur le diéthylzinc (DEZn) capteur Pt électrode interdigitée le contact ohmique photodétecteur UV
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