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Summary
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均匀尺寸的纳米颗粒可以除去在有机玻璃图案化的接触孔尺寸(PMMA)光致抗蚀剂膜通过电子束(E-束)光刻波动。该方法包括静电漏斗中的接触孔中心并沉积的纳米颗粒,随后光致抗蚀剂回流和等离子体和湿法蚀刻步骤。