Photodeposition von Pd auf kolloidale Au Nanostäbe durch Surface Plasmon Erregung

Ein reduktives plasmonisches Photodepositionsprotokoll potenziert die Fähigkeit, die kovalente Metallmontage von sub-fünf Nanometern an zielgerichteten Stellen mit optimalen Grenzflächeneigenschaften bei Umgebungsverarbeitungsbedingungen zu steuern. Der Hauptvorteil dieser Technik ist die Fähigkeit, ein externes Feld wie einen Laser zu verwenden, um die Dicke und Position des epitaxialen Metallwachstums zu steuern. Wir haben bereits die plasmonische Photodeposition von metallischem Platin und Silber nachgewiesen und sind zuversichtlich, dass diese Methode auf viele andere für eine Vielzahl von katalytischen Anwendungen ausgedehnt werden kann.

Demonstriert wird das Verfahren von mir und Jonathan Boltersdorf, einem Chemiker am U.S.Army Research Laboratory. Um dieses Verfahren zu beginnen, verdünnen Sie 830 Mikroliter stammkonzentrierte Salzsäure mit Wasser auf 100 Milliliter, um eine 0,1 Molsalzsäurelösung zu erhalten. Verdünnen Sie 4 Milliliter dieser Lösung mit Wasser auf 20 Milliliter, um eine 20 Millimolar Salzsäurelösung zu schaffen.