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DOI: 10.3791/60648-v
Please note that some of the translations on this page are AI generated. Click here for the English version.
This article presents a detailed protocol for fabricating nano-height channels using surface acoustic wave actuation on lithium niobate for acoustic nanofluidics. The method includes room temperature plasma surface activated multilayer bonding, which is applicable for bonding lithium niobate to various oxides.
Wir demonstrieren die Herstellung von Nanohöhenkanälen mit der Integration von Oberflächen-Akustikwellenbetätigungsgeräten auf Lithiumniobat für akustische Nanofluidik mittels Liftoff-Photolithographie, nano-tiefen reaktiver Ionenätzung und Raumtemperatur-Plasma oberflächenaktivierte Mehrschichtbindung von Einkristall-Lithiumniobat, ein Prozess, der ähnlich nützlich ist, um Lithiumniobat mit Oxiden zu verkleben.
Unser Protokoll bietet eine detaillierte Fertigungsmethode für nano-Höhe-Kanäle mit Oberflächen-Akustikwellenbetätigung über Lithiumniobat für akustische Nanofluidik. Diese Technik kann verwendet werden, um Raumtemperatur Plasmaoberfläche aktiviert Multilayer-Bindung von Einkristall-Lithium-Niobat durchzuführen, ein Verfahren, das ebenso nützlich für die Bindung von Lithium-Niobat oder Siliziumdioxid und anderen Oxiden. Schmutz und Partikel sollten während der Reinigung und der Plasmaoberfläche aktivierten Prozesse entfernt werden, um einen Bindungsausfall in der Nanohöhe kanalbildung zu verhindern.
Eine visuelle Demonstration dieser Methode kann den gesamten Fertigungsprozess im Detail erfassen, was zu einer klaren Darstellung des Protokolls für andere Forscher führt. Um eine Nano-Höhe-Kanalmaske vorzubereiten, legen Sie einen Wafer mit einem Muster eingeschrieben, das als normale Photolithographie in Liftoff-Verfahren konzipiert ist, in ein Sputterabscheidungssystem und ziehen Sie das Kammervakuum auf das fünffache 10 auf den negativen Sechs-Millitorr herunter. Lassen Sie Argon mit 2,5 Millitorr fließen und sputtern Sie Chrom mit 200 Watt, um innerhalb von 18 Minuten eine 400 Nanometer dicke Opfermaske zu erzeugen.
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