1. Fabricación de portadores de silicio poroso oxidado (PSiO2)
- Corte una oblea de silicio (Si) (un solo lado pulido en la cara de <100> y fuertemente dopado con boro, tipo p, 0,95 mΩ·cm) en muestras de 1,5 cm × 1,5 cm con un bolígrafo con punta de diamante.
- Oxidar las muestras de Si en un horno tubular a 400 °C durante 2 h en aire ambiente (velocidad de calentamiento: 25 °C/min, enfriamiento natural).
- Sumerja las muestras de Si en una solución de ácido fluorhídrico (HF) acuoso (48%), agua doblemente destilada (ddH2O) y etanol (99,9%) (1:1:3 v/v/v) durante 5 min; luego enjuague las muestras con etanol tres veces y séquelas bajo una corriente de nitrógeno.
NOTA: Prepare y almacene la solución de HF solo en artículos de plástico, ya que HF disuelve el vidrio.
PRECAUCIÓN: HF es un líquido altamente corrosivo y debe manipularse con sumo cuidado. En caso de exposición, enjuague bien con agua y trate el área afectada con gel antídoto HF; busque atención médica de inmediato. - Monte la muestra de Si en una celda de grabado de politetrafluoroetileno, utilizando una tira de papel de aluminio como contacto posterior y una bobina de platino como contraelectrodo.
- Grabe una capa de sacrificio en una solución 3:1 (v/v) de HF acuoso y etanol (99,9%) durante 30 s a una densidad de corriente constante de 250 mA/cm2; luego enjuague la superficie de la película PSi resultante con etanol tres veces y séquela bajo una corriente de nitrógeno.
- Disuelva la capa porosa recién grabada en una solución acuosa de hidróxido de sodio (NaOH) (0,1 M) durante 2 min. Luego, enjuague con etanol tres veces y seque bajo una corriente de nitrógeno.
- Sumerja la muestra en una solución acuosa de HF (48%), ddH2O y etanol (99,9%) (1:1:3 v/v) durante 2 min. Luego, enjuague con etanol tres veces y seque bajo una corriente de nitrógeno.
- Grabe electroquímicamente la muestra de Si en una solución 3:1 (v/v) de HF acuoso y etanol (99,9%) durante 20 s a una densidad de corriente constante de 250 mA/cm2; luego enjuague la superficie de la película PSi resultante con etanol tres veces y séquela bajo una corriente de nitrógeno.
- Oxidar térmicamente las muestras de PSi recién grabadas en un horno tubular a 800 °C durante 1 h en aire ambiente (velocidad de calentamiento: 25 °C/min, enfriamiento natural) para formar un andamio poroso de SiO2 (PSiO2).
- Aplique una capa giratoria a las muestras de PSiO2 con un fotorresistente grueso positivo a 4.000 rpm durante 1 min; luego hornee las muestras recubiertas a 90 °C durante 2 min (velocidad de calentamiento: 5 °C/min, enfriamiento natural).
- Corte las muestras de PSiO2 en muestras de 8 mm × 8 mm con una sierra para cortar en cubitos.
- Para eliminar la fotorresistencia, remoje las muestras cortadas en cubitos en acetona durante 3 h; luego enjuague bien con etanol y seque bajo una corriente de nitrógeno.
2. Carga de PSiO2 con factor de crecimiento nervioso (NGF)
- Para preparar la solución de carga de NGF, disuelva 20 μg de β-NGF murino en 400 μL de solución salina tamponada con fosfato 0,01 (v/v) de solución salina tamponada con fosfato 0,01 M (PBS) y ddH2O.
- Agregue 52 μl de la solución de carga sobre la muestra de PSiO2 e incube durante 2 h a temperatura ambiente (RT) en un plato tapado.
NOTA: Mantenga una humedad alta en el plato para evitar que la solución se seque durante la incubación. - Recoja la solución encima de la muestra para la posterior cuantificación del contenido de NGF dentro del portador PSiO2.
NOTA: La carga de NGF en PSiO2 debe realizarse inmediatamente antes del uso previsto; el protocolo no se puede pausar aquí debido al riesgo de secado y desnaturalización de la proteína.
3. Viabilidad celular y crecimiento en presencia de cultivo celular de feocromocitoma de rata portador de PSiO2 cargado con NGF
- (PC12)
- Prepare el medio de crecimiento básico agregando un 10% de suero de caballo (HS), un 5% de suero bovino fetal (FBS), un 1% de L-glutamina, un 1% de penicilina-estreptomicina y un 0,2% de anfotericina al medio del Instituto Médico Roselle Park (RPMI).
- Prepare un medio de diferenciación agregando 1% de HS, 1% de L-glutamina, 1% de penicilina-estreptomicina y 0,2% de anfotericina al medio RPMI.
- Cultivar suspensión celular (106 células) en un matraz de cultivode 75 cm 2 con 10 mL de medio de crecimiento básico durante 8 días; cada 2 días, añadir 10 mL de medio de crecimiento básico al matraz.
- Para generar un cultivo celular diferenciado de PC12, transfiera la suspensión celular a un tubo de centrífuga; centrifugue las células durante 8 min a 200 x g y RT. Deseche el sobrenadante.
- Suspender las células en 5 ml de medio de crecimiento básico fresco y volver a centrifugar las células durante 5 min a 200 x g y RT; desechar el sobrenadante y volver a suspender el sedimento celular en 3 ml de medio de crecimiento básico.
- Para separar los grupos de células, aspire las células diez veces con una jeringa de 23 G.
- Cuente las células usando un contador de células hemocitómetro y siembre 104 células/cm2 área de trabajo en placas recubiertas de colágeno tipo I en presencia de medio de diferenciación.
- Después de 24 h, agregue β-NGF murino fresco (50 ng/mL) o portador PSiO2 cargado con NGF por placa.
>NOTA: Las concentraciones más altas de NGF (>50 ng/mL) poseen el efecto exacto que la concentración especificada. - Renueve el medio de diferenciación cada 2 días.
- Para evaluar la viabilidad celular, añadir el 10% (v/v) de la solución indicadora de viabilidad (a base de resazurina) en puntos temporales representativos e incubar durante 5 h a 37 °C; medir la absorbancia a 490 nm utilizando un espectrofotómetro.