Method Article

Nanomoulding de Functional Materials, un versátil método complementario para la replicación de patrones para nanoimpresión

DOI:

10.3791/50177

January 23rd, 2013

In This Article

Summary

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Se describe una técnica que permite nanomoulding bajo costo patrones a nanoescala de materiales funcionales, pilas de materiales y dispositivos completos. Nanomoulding se puede realizar en cualquier configuración de nanoimpresión y se puede aplicar a una amplia gama de materiales y procesos de deposición.

Abstract

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Se describe una técnica que permite nanomoulding bajo costo patrones a nanoescala de materiales funcionales, pilas de materiales y dispositivos completos. Nanomoulding combinada con la capa de transferencia permite la replicación de los patrones superficiales arbitrarias de una estructura maestro sobre el material funcional. Nanomoulding se puede realizar en cualquier configuración de nanoimpresión y se puede aplicar a una amplia gama de materiales y procesos de deposición. En particular, se demuestra la fabricación de electrodos transparentes estampadas de óxido de zinc para aplicaciones de captura de luz en las células solares.

Introduction

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Nanoestampación ha adquirido una enorme importancia en muchos campos de la nanotecnología y las ciencias aplicadas. Generación de patrones es el primer paso y puede llevarse a cabo mediante enfoques desde arriba, como la litografía por haz de electrones o enfoques de abajo a arriba sobre la base de métodos de auto montaje, tales como la litografía de nanoesferas o de copolímero de bloque litografía 1. Tan importante como la generación de patrones es la replicación de patrones. Además de fotolitografía, nanoimpresión (Figura 1) ha surgido como una alternativa prometedora en particular adecuado para alto rendimiento de gran superficie patron....

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Protocol

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1. Fabricación de Moldes

Usamos nuestra instalación de fabricación casera nanoimpresión para la fabricación del molde Ref siguiente negativos. 6, pero cualquier configuración de nanoimpresión alternativa tendrán ningún problema. Alternativamente, un funcionalizado polidimetilsiloxano (PDMS) moho también podría funcionar.

  1. Fabricar o comprar un maestro de transporte adecuada el patrón de escala nanométrica para ser transferidos. En principio, cualquier maestro adecuado para nanoimpresión hará el trabajo. Usamos una textura capa de ZnO sobre una lámina de vidrio (Schott, AF32 eco, 41 mm x 41 mm x 0,5 mm) depositado como....

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Results

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La figura 3 resume algunos ejemplos ilustrativos de estructuras nanomoulded. Una estructura maestra ZnO crecido por CVD sobre vidrio se muestra en (a). El correspondiente nanomoulded ZnO réplica se muestra en (d). La comparación de la altura local (g) y el ángulo (j) histogramas extraídos de imágenes de AFM revelan la alta fidelidad de la nanomoulding proceso. Análogos resultados se muestran para una rejilla unidimensional fabricado por litografía interferencia (b, e, h, k) y aluminio anódicamente textu.......

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Discussion

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Nanomoulding permite la transferencia de nanopatterns arbitrarias en materiales funcionales. La comparación de los pasos de procesamiento individuales en la Figura 1 y 2 revela la estrecha relación entre nanomoulding y nanoimpresión. La principal diferencia entre nanomoulding y nanoimpresión es el paso adicional de material de deposición en la Figura 2e. El flujo de proceso restante es idéntica. Nanomoulding por lo tanto se puede realizar en cualquier configuración disp.......

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Disclosures

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No hay conflictos de interés declarado.

Acknowledgements

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Los autores agradecen a M. Leboeuf para obtener ayuda con el AFM Lee, W. para el maestro de aluminio texturado anódicamente y la Oficina Federal Suiza de Energía y la Swiss National Science Foundation para su financiación. Una parte de este trabajo se llevó a cabo en el marco del proyecto FP7 "Fast Track", financiado por la CE en virtud del acuerdo de subvención no 283501.

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Materials

List of materials used in this article
NameCompanyCatalog NumberComments
Nombre del reactivo Empresa Número de catálogo Comentarios (opcional)
Nanoimpresión resina Microresist Ormostamp
(1H, 1H, 2H, 2H-Perfluoroctyl)-trichlorsilane, anti-adherencia agente Sigma Aldrich 448931-10G
Portaobjetos de vidrio Schott AF32 eco 0,5 mm
Naftalato de polietileno (PEN) hojas Goodfellow ES361090 0,125 mm
(C 2 H 5) 2 Zn Akzo Nobel
Ag sputter 4N objetivo Heraeus 81062165
B 2 H 6, SiH 4, H 2, B (CH 3) 3, PH 3, CH 4, CO 2 Messer
EQUIPO
Nanoimpresión sistema Home-construido
LP-CVD sistema Home-construido
PVD sistema Leybold Univex 450 B
PE-CVD reactor Indeotec Pulpo I
SEM JEOL JSM-7500 TFE
AFM Instrumentos Digitales Nanoscope 3100

References

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  1. Geissler, M., Xia, Y. Patterning: Principles and Some New Developments. Advanced Materials. 16 (15), 1249-1269 (2004).
  2. Guo, L. J. Nanoimprint Lithography: Methods and Material Requirements. Advanced Materials. 19, 495-513 (2007).
  3. Ahn, S. H., Guo, L. J.

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NanomouldingNanoimprintingPattern TransferZinc Oxide DepositionUV Cured ResinChemical Vapor DepositionMaster Mold FabricationAnti Adhesion LayerLayer Transfer TechniqueFunctional Material Replication

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