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Artículo de método

Integración de luz de captura de plata de nanoestructuras en células solares de silicio hidrogenado microcristalina por transferencia Impresión

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DOI:

10.3791/53276

9 de noviembre de 2015

En este artículo

Resumen

Se describe una metodología viable basada en la impresión por transferencia para introducir nanoestructuras metálicas plasmónicas en células solares. Mediante el uso de sellos de poli(dimetilsiloxano) de nanopilares, se integró una matriz de nanodiscos ordenada basada en Ag con células solares de Si microcristalino hidrogenado estándar, lo que mejoró el rendimiento del dispositivo debido a la captura de luz plasmónica.

Resumen

Una de las aplicaciones potenciales de las nanoestructuras metálicas es la captura de luz en células solares, donde las propiedades ópticas únicas de los metales de tamaño nanométrico, comúnmente conocidas como efectos plasmónicos, juegan un papel importante. Sin embargo, la investigación en este campo se ha visto obstaculizada debido a la dificultad de fabricar dispositivos que contengan las nanoestructuras metálicas funcionales deseadas. Con el fin de proporcionar una estrategia viable a este problema, mostramos aquí un enfoque basado en la impresión por transferencia que permite la integración rápida y de bajo costo de nanoestructuras metálicas diseñadas con una variedad de arquitecturas de dispositivos, incluidas las células solares. Los sellos de poli(dimetilsiloxano) (PDMS) de nanopilares se fabricaron a partir de una película de plástico de nanoagujeros disponible comercialmente como molde maestro. En estos sellos de PDMS nanomodelados, se depositaron películas de Ag, que luego se imprimieron por transferencia sobre una superficie de Si microcristalino hidrogenado recubierto de copolímero de bloque (capa de unión) (μc-Si:H) para proporcionar estructuras de nanodiscos de Ag ordenadas. Se confirmó que las células solares μc-Si:H incorporadas en nanodiscos de Ag resultantes muestran un mayor rendimiento en comparación con una célula sin los nanodiscos de Ag impresos por transferencia, gracias al efecto de captura de luz plasmónica derivado de los nanodiscos de Ag. Debido a la simplicidad y versatilidad, también sería factible una mayor aplicación del dispositivo a través de este enfoque.

Introducción

Ha habido una demanda de larga data para la aplicación de nanoestructuras funcionales en una amplia gama de campo tecnológico. Una de las expectativas para esta tendencia es abrir el nuevo diseño de arquitecturas de dispositivos que conducen a mejores o innovadores actuaciones. En el campo de las células solares, por ejemplo, el uso de nanoestructuras metálicas ha sido explorado activamente debido a sus propiedades ópticas interesantes (es decir, plasmónicas), 1 potencialmente beneficioso para la construcción de sistemas de luz de captura eficaces. 2,3 estudios De hecho, algunos teóricos 4 -6 han sugerido que tal captura la l....

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Protocolo

1. Preparación de Sellos PDMS

  1. Establecer un molde nanohole (ciclo nanoimprinted polímero de olefina película de plástico, tamaño: 50 mm x 50 mm) en un politetrafluoroetileno (PTFE) contenedor.
  2. Pesar copolímero de vinilmetilsiloxano dimetilsiloxano (0,76 g para el molde de 50 mm × 50 mm) en una botella de vidrio desechable y se mezcla con el complejo de Pt-diviniltetrametildisiloxano (6 l, con una pipeta micro digital con una punta desechable de polipropileno) y 2,4, 6,8-tetramethyltetra-vinylcyclotetrasiloxane (24 l, con una pipeta micro digital con una punta desechable de polipropileno).
  3. Añadir copolímero de metilhidrosiloxano dimetils....

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Resultados

La Figura 2 describe el proceso general para la impresión por transferencia de nanodiscos Ag sobre la superficie de mu c-Si: H (capa n). En resumen, una película de Ag (espesor: de 10-80 nm) se deposita primero sobre la superficie de un sello de PDMS nanopilares por evaporación por haz de electrones. En paralelo, una solución -P2VP PS- b es mediante revestimiento por centrifugación sobre la superficie de un recién preparada mu c-Si: H n capa. Posteriormente, una gotita de EtOH.......

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Discusión

En este artículo, un / PDMS blandos dura compuesta de doble capa se empleó como material de sellos. 27 Esta combinación resultó ser esencial para replicar con precisión la nanoestructura de los padres en el molde, que era una matriz de agujero redondo hexagonal close-embalado cuyo diámetro de 230 nm, la profundidad de 500 nm, y el agujero espaciamiento de centro a centro de 460 nm. Cuando se utilizó sólo PDMS suaves, el sello siempre dio lugar a una superficie mal nanoestructurados (por ejemplo, no borde afil.......

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Divulgaciones

Los autores no tienen nada que revelar.

Agradecimientos

Los autores agradecen a la Organización de Desarrollo de Nueva Energía y Tecnología Industrial (NEDO) del Ministerio de Economía, Comercio e Industria (METI), Japón, por el apoyo financiero.

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Materiales

Lista de materiales utilizados en este artículo
NombreEmpresaNúmero de catálogoComentarios
Molde de nanoagujerosScivaxFLH230/500-120
Contenedor de PTFEEishinn/aHecho
Materiales duros
de PDMS Copolímero de vinilometilsiloxano-dimetilsiloxano<a href="http://www.gelest.com/gelest/forms/ Inicio/home.aspx">GelestVDT-731
  Complejo de pt-diviniltetrametildisiloxanoGelestSIP6831.1
Copolímero de metilhidrosiloxano-dimetilsiloxanoGelestHMS-301
2,4,6,8-tetrametiltetra-vinilciclotetrasiloxanoSigma-Aldrich396281Aditivo para materiales duros-PDMS
blandosDow CorningSylgard-184 Precursor desilicona
PS-b-P2VPa href="http://polymersource.com>Fuente de polímeroP5742-S2VPMn y veces; 103 = 133-b-132
Vidrio/SnO2:F sustratosAsahi Glass Co. Ltd.Tipo VUPulido mecánico químico por D-process Inc. (http://d-process.jp/index.html) para aplanar las superficies
DetergenteFruuchi Chemical Co.
http://www.furuchi.co.jp/eng/main.htm
Semico-clean 56Se utiliza para la limpieza de sustratos de vidrio/SnO2:F Objetivo de
pulverización ZnO:GaAGC Ceramics Co. Ltd.5.7GZO
Objetivo de pulverización de AgMitsubishi Materials Co.4NAg
Cinta adhesiva de doble caraNisshin EM Co.732
Cinta de poliimidaDupontKapton 650S#25
Soldadurabasada en Sn-ZnKuroda Techno Co., Ltd.Cerasolzer AL-200
Micropipeta digitalNichiryo00-NPX2-20
00-NPX2-200
00-NPX2-1000
Cámarade calentamientoTokyo Rikakikai Co., Ltd.VOS-201SD
Evaporador de haz de electronesCanon-Anelvan/ahecho a medida
Ariosn/aHecho a medida
Sistema de pulverización catódicaUlvacSBR-2306
Sistema PECVDShimadzu Emit Co. Ltd.SLCM-13
Sistema de plasmaARDiner Electric GmbhFemto
Sistema RIESamco Inc.RIE-10NR
Dispositivo de soldadura ultrasónicaColby-Eishin Enterprises, Inc.Sistema deSUNBONDER
EQEBunkoukeiki Co. Ltd.Sistema de medición de características CEP-25BXS
J-VBunkoukeiki Co. Ltd.OTENTOSUN-5S-I/V
Célula de referencia de Si amorfoBunkoukeiki Co. Ltd.WPVS-NPB-S1Para la calibración de la intensidad de la luz
MultímetrodigitalKeithley Instruments Inc.2400
a medida< Evaporador de haz de electrones medición

Referencias

  1. Murray, W. A., Barns, W. L. Plasmonic Materials. Adv. Mater. 19, 3771-3782 (2007).
  2. Atwater, H. A., Polman, A. Plasmonics for improved photovoltaic devices. Nat. Mater. 9, 205-213 (2010).
  3. Green, M. A., Pillai, S.

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Reimpresiones y permisos

Etiquetas

Efectos plasm nicossellos de PDMS de nanopilaresevaporaci n por haz de electronesuni n de copol meros en bloquenanodiscos de plataeficiencia de celdas solares