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La rápida proliferación de sistemas de Internet de las Cosas (IoT), dispositivos portátiles e implantables, y tecnologías de inteligencia artificial (IA) ha incrementado la demanda de plataformas electrónicas y fotónicas estrechamenteintegradas 1,2. Los componentes optoelectrónicos, incluidos circuitos integrados fotónicos (PICs), fotodetectores y láseres de pulsos, desempeñan un papel central en estossistemas 3,4. Sin embargo, a escala nanométrica, el comportamiento del dispositivo está gobernado por el confinamiento cuántico, el transporte de carga y las interacciones óptico-eléctricasacopladas 5. Los enfoques tradicionales de diseño se basan en simulaciones de primer principio y ajuste empíricode parámetros 6. A medida que aumenta el número de combinaciones posibles de materiales, disposiciones geométricas y patrones de conectividad, el cribado exhaustivo basado en simulación se vuelve computacionalmente poco práctico.
Se han introducido técnicas de aprendizaje automático (ML) para acelerar tareas de modelado e inversode diseño 7. Las primeras implementaciones usaban redes neuronales artificiales y procesos gaussianos como predictoressustitutos 8. Arquitecturas más recientes de aprendizaje profundo (DL) mejoraron el aprendizaje de representaciones para sistemas fotónicos ynanoelectrónicos 9. A pesar de estos avances, los enfoques existentes basados en DL a menudo sufren de interpretabilidad limitada, fuerte dependencia de datos y generalización restringida entre materiales y escalasestructurales 10. Muchos marcos también separan las restricciones físicas del aprendizaje, tratándolas como validación externa en lugar de componentes integrados del procesode optimización 11.
Paralelamente, la continua escalada de dispositivos semiconductores ha alcanzado límites físicos en las arquitecturasconvencionales 12. Los efectos de canal corto e inestabilidad electrostática se vuelven cada vez más significativos por debajo de 100nm 13, lo que motiva la exploración de materiales alternativos y estructuras de dispositivos. Los materiales bidimensionales (2D), especialmente los dichalcogenios de metales de transición (TMD), ofrecen bandas prohibidas ajustables y un grosor a escala atómica compatible con los procesosCMOS 14. Los materiales monocapa como MoS₂ y WS₂ presentan movilidad favorable de portadores y controlelectrostático 15. Las arquitecturas sin unión demuestran además que el rendimiento del dispositivo depende en gran medida de la topología estructural así como de la composiciónde materiales 16,17.
Las Redes Neuronales de Grafos (GNNs) proporcionan un marco computacional natural para modelar sistemas relacionales como redes moleculares, nanoestructuras y topologías decircuitos 18,19,20,21. Al operar sobre representaciones estructuradas en grafos en lugar de entradas basadas en cuadrícula, los GNN actualizan las incrustaciones de nodos mediante el paso de mensajes entre componentes vecinos. En forma simplificada, las actualizaciones de nodos pueden expresarse como

donde φnodo yψ arista son funciones aprendibles y
denota un operador de agregación invariante por permutación. Estos modelos se han aplicado a la predicción de propiedades e inferencia topológica en sistemasnanoelectrónicos 22,23,24. Los enfoques multiescala intentan conectar simulaciones a escala atómica y el rendimiento a nivelde dispositivo 25, pero la mayoría de las implementaciones operan con una resolución estructural única o asumen topologías fijas. En formulaciones mecánicas cuánticas, la estructura electrónica está gobernada por el problema de valores propios

donde
es el operador hamiltoniano yE k son valores propios de energía. La Teoría Funcional de la Densidad (DFT) proporciona aproximaciones manejables pero escala aproximadamente como O(N3) con número de electrones, limitando la aplicación directa a la exploración topológica a gran escala. A medida que aumenta la complejidad del dispositivo, las evaluaciones repetidas de DFT se vuelven computacionalmente prohibitivas. Estas limitaciones resaltan la necesidad de aproximaciones diferenciables que mantengan la estructura física y permitan una optimizaciónescalable 26,27,28.
Para abordar esta brecha metodológica, en este trabajo se formulan dispositivos nanoelectrónicos como grafos jerárquicos G=(V,E) que abarcan escalas atómica, mesoscópica y de dispositivos 29,30,31,32,33. Los codificadores GNN específicos de escala extraen incrustaciones estructurales, y el intercambio de información a escala cruzada se implementa mediante fusión basada en la atención. En lugar de resolver repetidamente ecuaciones completas de DFT durante la optimización, se introduce un hamiltoniano
efectivo parametrizado por GNN para aproximar el comportamiento energético de referencia mientras se preservan las restricciones de estructura y localidadhermitianas, 34,35,36,37,38,39,40,41.
La modificación de topología se formula como un problema de aprendizaje por refuerzo (RL)⁴². Para un estado st ≡ Gt , las acciones modifican la conectividad de grafos bajo restricciones de viabilidad física. Una función de recompensa compuesta se define como
rt = α⋅IQE(Gt) + β⋅Estabilidad(Gt) - γ⋅Complejidad(Gt),
donde los coeficientes α,β,γ regulan los compromisos entre rendimiento, robustez y simplicidad estructural. La optimización multiobjetivo se gestiona mediante formulaciones restringidas de la forma.

La escalabilidad a sistemas grandes se logra mediante engrosamiento espectral de grafos y agregación jerárquica, permitiendo un aprendizaje y una inferencia eficientes sobre grafos que contienen hasta millones de nodos sin comprometer la fidelidad estructural. El engrosamiento espectral de grafos reduce la complejidad computacional al agrupar nodos en función de la similitud de la estructura propia, preservando propiedades topológicas y espectrales clave mientras reduce significativamente el tamaño del grafo. La agregación jerárquica organiza además el grafo reducido en representaciones de resolución múltiple, permitiendo que el modelo procese dependencias locales y globales de manera escalonada. Esta estrategia multinivel reduce el consumo de memoria, acelera las operaciones de paso de mensajes y mantiene la precisión predictiva, asegurando así que el marco siga siendo computacionalmente manejable para el modelado a gran escala de dispositivos nanoelectrónicos y optoelectrónicos 43,44,45,46,47,48,49,50,51.
El objetivo de este estudio es, por tanto, implementar y evaluar un marco GNN reproducible, multiescala e informado por la física para el diseño de dispositivos nanoelectrónicos restringidos. El flujo de trabajo general del marco de diseño nanoelectrónico multiescala impulsado por IA integra la preparación de conjuntos de datos, la construcción jerárquica de grafos, el modelado cuántico, la evolución topológica basada en aprendizaje por refuerzo y la validación basada en física (Figura 1). Las siguientes secciones describen el protocolo computacional, la configuración de entrenamiento y los procedimientos de validación.