Name: Plasmónica la captura y liberación de nanopartículas en un entorno de monitorización (Video) | JoVE Journal
Uploaded: 2017-04-04T11:00:00.000+00:00
Duration: 9 min 13 s
Description: Aprende a fabricar microchips con pinzas plasmónicas para capturar nanopartículas y medir fuerzas de trampa en dos dimensiones. Esta técnica avanza aplicaciones en inmunoensayos y liberación de fármacos.

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Este trabajo fue apoyado por el programa D de MSIP / IITP (R0190-15-2040, Desarrollo de un sistema de gestión de la configuración y el contenido de un simulador para la impresión en 3D usando materiales inteligentes) la I +.

Precaución: Por favor refiérase a las normas de seguridad de material pertinentes antes de su uso. Varios de los productos químicos utilizados en la fabricación de microchips son agudamente tóxico y carcinogénico. Por favor, use todas las prácticas apropiadas de seguridad al realizar los procesos de fotolitografía y el grabado, incluyendo el uso de controles de ingeniería (campana de humos, placa caliente, y alineador) y equipo de protección personal (gafas de seguridad, guantes, ropa de laboratorio, pantalones largos, y cerrada zapatos -toe). 1. La fabricación de microcanal PDMS <ol><li> La fabricación del molde de microcanales por el proceso de fotolito <ol><li> Eliminar completamente sustancias extrañas en la superficie de la oblea de Si de 4 pulgadas con la limpieza Piranha (Figura 1a). Mezclar ácido sulfúrico (H 2 SO 4) y peróxido de hidrógeno (H 2 O 2) en una proporción de 3: 1 para hacer la solución Piranha en el plato. Mezclar mediante la adición gradual de pequeñas cantidades de ácido fuerte (H 2 O <sub&gt; 2) para el ácido débil (H 2 SO 4); revertir esta orden puede causar una explosión debido a la ácido fuerte altamente reactivo. </li><li> Sumergir la pastilla en la solución Piraña por 10 min. Posteriormente, sumergir la oblea en agua desionizada (DI) durante 3 min para eliminar la solución Piranha restante. Enjuague la oblea con un chorro de agua DI durante 10 s. Repetir el procedimiento de lavado 3 veces y seco con N 2 gas para eliminar el DI restante. </li><li> Coloque la oblea en una placa caliente durante 20 min a 180 ° C para deshidratar aún más la oblea. </li><li> Verter 5 ml de la sustancia fotorresistente negativa en la parte superior de la capa de la oblea y centrifugado durante 45 s a 1500 rpm (Figura 1b); después de revestimiento por rotación, una perla fotorresistente se crea en el borde de la oblea debido a la viscosidad relativamente alta de la resina fotosensible. </li><li> Equilibrar la oblea fotorresistente recubierto por planarización en un soporte de nivelación durante 5 h. </li><li> Coloque la oblea fotorresistente recubierto sobre una placa caliente durante 12 min a 65° C, 35 min a 95 ° C, y 12 min a 65 ° C (para hornear suave). </li><li> Fijar la máscara de película en el soporte de la máscara y la oblea suave cocido al horno en la etapa de sustrato del alineador. Exponer a la luz ultravioleta (UV) durante 43 s a 650 mJ / cm 2 para solidificar la resina fotosensible. </li><li> Coloque la oblea en la placa caliente durante 5 minutos a 65 ° C, 15 min a 95 ° C, y 5 min a 65 ° C (bicarbonato de post-exposición). </li><li> Sumergir la oblea en el revelador fotorresistente durante 30 min para eliminar fotorresistente no solidificada. </li><li> Enjuague la oblea con alcohol isopropílico (IPA) y se seca con N 2 gas para eliminar el IPA restante. </li></ol></li><li> Fabricación del microcanal PDMS <ol><li> Tratar la superficie de la oblea y el molde fotorresistente durante 1 min a una potencia de 200 W usando una máquina de plasma atmosférico 25; los flujos de gas de CH 4 y debe ser 6 y 30 sccm, respectivamente. Realizar este tratamiento hidrófobo para desprenderse con facilidad la polydimethylsiloxane (PDMS) microcanal de la superficie de la oblea y el molde fotorresistente (Figura 1c). </li><li> Preparar la solución de PDMS mezclando la base de PDMS y agente de curado en una relación de 10: 1. Agitar la mezcla durante 2 min. </li><li> Coloque la oblea dentro de una placa de Petri (150 mm x 15 mm) y añadir 100 ml de la solución de PDMS. Eliminar las burbujas que se crearon a partir de agitación usando un desecador. </li><li> Coloque la placa de Petri en el horno durante 2 horas a 80 ° C para solidificar la solución de PDMS (Figura 1d y h). </li><li> Corte a lo largo de los contornos del microcanal PDMS con una hoja de afeitar y separarla de la oblea; los microcanal PDMS fabricadas deben tener las siguientes dimensiones: 13 mm de largo, 300 m de ancho, y 150 micras alta (Figuras 1e, f, y i). NOTA: Dos tipos de agujeros se producen mediante un micropunción para insertar la fibra monomodo (SMF) de cable y los tubos (entrada unand salida) en el PDMS microcanal (Figura 1g). El cable SMF se utiliza para emitir el haz de láser a la nanohole molido en la placa de oro. El tubo se utiliza para insertar / extraer la solución de partículas a / desde el microcanal PDMS. </li><li> Perforar 1,5-mm de entrada y agujeros de salida en cada extremo del microcanal PDMS. Perforar un agujero de cable SMF 0,3-mm en el centro del microcanal PDMS. </li></ol></li></ol> 2. Proceso de grabado de la placa de oro <ol><li> Preparar una placa de oro disponible en el mercado con las dimensiones de 25 x 6,25 mm 2 (figura 2a). </li><li> Retire cualquier sustancia extraña en la placa de oro con los siguientes procedimientos de limpieza. Clean en el siguiente orden por inmersión en acetona, metanol, y agua DI durante 5 min cada uno. </li><li> Enjuague la placa de oro 3 veces con agua DI durante 10 s y se seca la placa con N 2 gas para eliminar el agua DI restante. </li><li> Coloque la placa de oro en un plato caliente para20 min a 180 ° C para eliminar completamente la humedad restante. </li><li> Verter 0,5 ml de hexametildisilazano (HMDS) en la placa de oro y de revestimiento por centrifugación durante 40 s a 3000 rpm. </li><li> Verter 0,5 ml de fotoprotector positivo en la parte superior de los HMDS mediante revestimiento por centrifugación y de revestimiento por centrifugación durante 40 s a 3000 rpm (Figura 2b). </li><li> Coloque la placa de oro fotorresistente recubierto sobre la placa caliente durante 90 s a 110 ° C (hornear suave). </li><li> Fijar la máscara de película sobre la oblea de vidrio y colocar la placa de oro-suave cocido al horno en la etapa de sustrato. Exponer a la luz UV durante 4,5 s a 64 mJ / cm 2 para disolver la resina fotosensible. </li><li> Sumergir la placa de oro en el revelador fotorresistente para 1 min para eliminar el fotoprotector disuelto (Figura 2c). Enjuague la placa de oro con agua DI y seco con N 2 gas. </li><li> Sumergir la placa de oro en el Au reactivo de ataque durante 45 s a una velocidad de grabado de 28 Å / s para retirar el Au expuesta (Figura 2d). Enjuague la placa de oro con wate DIr y seco con N 2 gas. </li><li> Sumergir la placa de oro en el reactivo de ataque Ti durante 5 s a una velocidad de grabado de 25 Å / s para retirar el Ti expuesto (Figura 2e). Enjuague la placa de oro con agua DI y seco con N 2 gas. </li><li> Eliminar la fotorresistencia restante en la placa de oro por inmersión en acetona, metanol, y agua DI durante 3 min cada uno (figura 2f); sumergir la placa en el orden escrito. </li><li> Enjuague la placa de oro 3 veces con agua DI durante 10 s. En seco con N 2 gas para eliminar el agua DI. </li><li> Coloque la placa de oro sobre la placa caliente durante 3 minutos a 120 ° C para eliminar completamente la humedad; el bloque de oro producido debe ser 400 x 150 m 2 (Figura 2h). </li><li> Molino un nanohole 400-nm utilizando un haz de iones focalizado (FIB) en el centro del bloque de oro que fue fabricado después del grabado (figuras 2g y i). Crear un patrón de círculo de 370 nm a centrarse en el bl oroock con un ion de un voltaje de aceleración de 30 kV a 28 pA durante 3 s. </li></ol> 3. Montaje del microchip <ol><li> Tratar las dos superficies de la microcanal PDMS y placa de oro durante 1 min con plasma de O2 para la fijación junto con un sistema de plasma a una potencia de 80 W y una presión de 825 mTorr 25. NOTA: Es notablemente difícil colocar con precisión debido a que el bloque de oro y microcanal PDMS están en el nivel micrométrico. Por lo tanto, usar un alineador con una cámara y una etapa manual. </li><li> Fijar la oblea de vidrio que se utiliza para fijar la máscara de película al soporte de la máscara del alineador (Figura 3a). </li><li> Una los O 2 -plasma tratados con PDMS microcanal a la oblea de vidrio; debido a que el PDMS es hidrofílico, se va a adjuntar fácilmente a la oblea de vidrio sin ningún tipo de solución de adherencia. Fijar la placa de oro en la etapa de sustrato del alineador (Figura 3a). </li><li> Localizar los centros de jue SMF orificio del cable y oro bloque, que están alineados en el mismo eje, utilizando la cámara en el alineador. Levantar la etapa manual de combinar las dos partes (figuras 3B y C). </li></ol> 4. Mejora de la rugosidad de la superficie lateral del microchip por PDMS Revestimiento NOTA: La placa de oro con dimensiones fijas de 400 x 150 m 2 es relativamente más difícil de cortar que el material de PDMS. Por lo tanto, para separar el microcanal PDMS de la oblea, una hoja de afeitar se utiliza para cortar un pedazo más grande que la placa de oro. Después de combinar las dos partes, las partes sobrantes del PDMS respecto a la placa de oro a continuación, deben ser cortados de manera que el interior del canal se puede observar desde el lado usando un microscopio (Figura 4a). Sin embargo, la superficie de corte, que se utiliza como una ventana, tiene una alta rugosidad de la superficie y por consiguiente produce imágenes nublados de las partículas que fluyen en el canal (figura4b). Recubrimiento con la solución de PDMS se realiza de nuevo para resolver este problema. <ol><li> Preparar la solución de PDMS mezclando la base de PDMS y agente de curado en una relación de 10: 1 y se agita durante 2 min. </li><li> Verter 2 ml de la solución de PDMS en la placa de Petri y realizar el recubrimiento por centrifugación durante 30 s a 1000 rpm (Figura 4c). </li><li> Coloque la superficie microchip que se va a estar ubicado en el microscopio en la placa de Petri (Figura 4d). Coloque la placa de Petri en el horno durante 1 h a 80 ° C para solidificar la solución de PDMS. </li><li> Cortar la frontera del microchip y PDMS utilizando una hoja de afeitar y posteriormente separarla de la placa de Petri (Figuras 4e, f). </li></ol> 5. Acoplamiento láser para insertar el cable SMF al microchip NOTA: Para el sistema de pinzas plasmónica, se utiliza un láser incidente de fibra óptica con una longitud de onda 1064 nm. El cable SMF se utiliza debido a que el diámetro de la INCIláser Dent (5 mm) es demasiado inmenso para emitir el haz de láser en el nanohole molido en el bloque de oro (400 x 150 m 2) en el microchip. El diámetro del revestimiento del cable SMF es de 125 m. De este modo, el láser incidente y el cable SMF deben estar acoplados. <ol><li> Conectar una lente objetivo de 40X para el objetivo del microscopio montaje en el acoplador SMF. Fijar el cable SMF en la abrazadera de la fibra del acoplador SMF. Alinear el haz láser incidente para llenar en la abertura posterior de la lente del objetivo. </li><li> Enfocar el haz de láser para el núcleo del cable SMF mediante el ajuste de la etapa manual de tres eje equipado en el acoplador SMF. </li><li> Inserte el extremo opuesto del cable de SMF en el orificio del cable SMF del microchip. Medir la potencia del láser antes de la inserción en el borde del cable de fibra, debido a que el cable de fibra fija en el microchip no se puede separar. </li><li> Sellar el orificio del cable SMF utilizando pegamento epoxi para bloquear la fuga de la solución de partículas que fluye desde el hueco entre la cabina SMFagujero le (300 m) y el revestimiento del cable SMF (125 m); el extremo del cable de fibra insertado no debe entrar en el microcanal para evitar el flujo de fluido. alinear manualmente el cable de fibra mediante realimentación visual de modo que es perpendicular al bloque de oro que aloja el nanohole. </li></ol> 6. Partícula plasmónica Trapping de Individual fluorescente de poliestireno en el Microchip <ol><li> Coloque la jeringa, que se llena con la solución de las partículas, a una microbomba jeringa. Coloque la cubierta de vidrio en la etapa de la muestra del microscopio fluorescente. Conectar los tubos a los orificios de entrada / salida del microchip. Coloque la superficie microchip PDMS-revestidos en la parte superior de la cubierta de vidrio. </li><li> Coloque el microchip ortogonal a la inmersión en agua lente objetivo 60X observando el interior del canal con la cámara instalada en el microscopio de fluorescencia. Use cinta adhesiva transparente para fijar el microchip en su lugar. Conectar el tubo de entrada del microchip con el ne jeringaedle. </li><li> Insertar la solución de partículas para el microchip mediante el control de la microbomba a 20 m / s. En este momento, confirme que la partícula fluorescente se puede observar bien en el canal cuando la lámpara fluorescente está encendido. </li><li> Esperar hasta que la solución de partículas sale de la salida del microchip. Ajuste la velocidad de 3,4 m / s. </li><li> Gire el dispositivo de fuente de rayos láser para que emita el láser en el nanohole; la partícula fluorescente será atrapado en el borde de la nanohole. </li><li> Rampa la velocidad del fluido en incrementos de 0,4 m / s mediante el control de la microbomba hasta que los escapes de partículas atrapadas. Medir la velocidad de fluido cuando las partículas atrapadas escapen. Obtener la fuerza de atrapamiento máxima para cada intensidad de láser utilizando esta velocidad de fluido medido. </li></ol>

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</ol>

Los autores no tienen nada que revelar.

El cable SMF se insertó en el orificio del cable SMF en el microchip, como se muestra en el punto rectangular de la figura 6a. Debido a que el orificio del cable SMF es más grande que el diámetro del cable, pegamento epoxi se utiliza para sellar la brecha para bloquear la fuga de la solución de partículas que fluye. Antes de la aplicación de cola epoxi, el bloque de oro y el borde cable deben ser alineados coaxialmente a mano usando un microscopio. Aunque es ideal para el borde cable insertado y la nano...

La capacidad de manipular objetos microescala es una característica indispensable para muchos experimentos micro / nano. manipulaciones de contacto directo pueden dañar los objetos manipulados. La liberación de los objetos anteriormente en manos también es un reto debido a problemas de adherencia estática. Para superar estos problemas,, 8 se han propuesto varios métodos indirectos utilizando fluídico 1, 2 eléctrico, magnético 3, o fuerzas fotónicos 4, 5, 6, 7. Pinzas plasmónica que utilizan fuerzas fotónicos se basan en la física de las extraordinarias de mejora de campo de varios órdenes más grandes que la intensidad incidente 9. Esta extremadamente fuerte aumento del campo permite la captura de nanopartículas extremadamente pequeñas. Por ejemplo, se ha demostrado para inmovilizar y manipular a escala nanométricaobjetos, tales como partículas de poliestireno 7, 10, 11, 12, 13, 14, 15 cadenas de polímero, proteínas 16, puntos cuánticos 17, y moléculas de ADN 8, 18. Sin pinzas plasmónica, es difícil de nanopartículas de trampa, ya que desaparecen rápidamente antes de que se examinan de manera efectiva o porque están dañados debido a la alta intensidad del láser. Muchos estudios plasmónicas han utilizado diversas estructuras a nanoescala de oro. Podemos clasificar las estructuras de oro como sobresale tipos nanodisk 12, 13, 14, 15, 19 <sup&gt;, 20, 21 o suprimidas tipos nanohole 7, 8, 10, 11, 22, 23. En términos de conveniencia de formación de imágenes, los tipos nanodisk son más adecuados que los tipos nanohole porque, para este último, los sustratos de oro pueden obstruir la vista de observación. Por otra parte, el atrapamiento plasmónica se produce cerca de la estructura plasmónica y hace la observación aún más difícil. A lo mejor de nuestro conocimiento, atrapamiento en plasmónica tipos nanohole solamente se verifica por medio de señales de dispersión indirectos. Sin embargo, no se han reportado observaciones directas exitosas, como las imágenes microscópicas. Pocos estudios han descrito la posición de las partículas atrapadas. Un tal resultado fue presentado por Wang et al. Ellos crearon un pilar de oro sobre un sustrato de oro y observaron la partículo de movimiento utilizando un microscopio de fluorescencia 24. Sin embargo, esto sólo es efectivo para el control de movimientos laterales no en la dirección paralela al eje del haz. En este trabajo, se introduce nuevos procedimientos de diseño y fabricación de microchips de fluidos. El uso de este chip, demostramos el seguimiento de partículas plasmonically atrapados, tanto en direcciones paralelas y ortogonales a la nanoestructura plasmónica. Por otra parte, se mide la fuerza máxima de la partícula inmovilizada mediante el aumento de la velocidad del fluido a encontrar la velocidad de inflexión en el microchip. Este estudio es único porque la mayoría de los estudios sobre las pinzas plasmónica no pueden demostrar cuantitativamente las fuerzas máximas de captura utilizados en sus montajes experimentales.

<table><tbody><tr><td>Fotorresistencia negativa&nbsp;</td><td>MicroChem</td><td>SU-8 2075</td><td></td></tr><tr><td>Revelador</td><td>MicroChem</td><td>SU-8 Revelador</td><td></td></tr><tr><td>Fotorresistente positivo&nbsp;</td><td>Merck Ltd.</td><td>AZ GXR-601</td><td></td></tr><tr><td>AZ Fotorresistencia Desarrolladores</td><td>Merck Ltd.</td><td>AZ 300 MIF</td><td></td></tr><tr><td>HMDS</td><td>Merck Ltd.</td><td>AZ Promotor de</td><td></td>adhesión</tr><tr><td>Alineador</td><td>Midas System</td><td>MDA 400M</td><td></td></tr><tr><td>Máquina de plasma atmosférico&nbsp;</td><td>Proceso Atmosférico Plasma Co.</td><td>IDP-1000</td><td></td></tr><tr><td>Polidimetilsiloxano (PDMS)</td><td>Dow Corning</td><td>Sylgard 184 A/B</td><td></td></tr><tr><td>Portaobjetos de prueba recubiertos de oro</td><td>EMF Co.</td><td>TA124(Ti/Au)</td><td></td></tr><tr><td>Au etchant&nbsp;</td><td>Transene Inc.</td><td>TFA</td><td></td></tr><tr><td>Ti etchant&nbsp;</td><td>Transene Inc.</td>Lente objetivo <td>TFT</td><td></td></tr><tr><td>40X&nbsp;</td><td>Edmund Optics</td><td>40X DIN</td><td></td></tr><tr><td>60X inmersión en agua lente de objetivo&nbsp;</td><td>Olympus</td><td>LUMPLFLN 60XW</td><td></td></tr><tr><td>Láser incidente de fibra óptica&nbsp;</td><td>Acoplador IPG Photonic</td><td>YLR 10</td><td></td></tr><tr><td>SMF</td><td>Thorlabs</td><td>MBT612D/M</td><td></td></tr><tr><td>Microbomba de jeringa</td><td>Harvard</td><td>PC2 70-4501</td><td></td></tr><tr><td>Microscopio fluorescente&nbsp;</td><td>Olympus</td><td>IX-51</td><td></td></tr><tr><td>Sistema de plasma</td><td>Femto Science Inc</td><td>CUTE-MPR</td><td></td></tr></tbody></table>

plasmónica la captura y liberación de nanopartículas en un entorno de monitorización

Plasmonic Trapping and Release of Nanoparticles in a Monitoring Environment

pinzas plasmónica utilizan polaritonas de plasmones superficiales para confinar los objetos a escala nanométrica polarizables. Entre los diversos diseños de pinzas plasmónica, sólo unos pocos pueden observar partículas inmovilizadas. Por otra parte, un número limitado de estudios han medido experimentalmente las fuerzas que puede ejercer sobre las partículas. Los diseños pueden ser clasificados como el tipo nanodisk que sobresale o el tipo nanohole suprimida. Para estos últimos, la observación microscópica es extremadamente difícil. En este trabajo, se introduce un nuevo sistema de pinzas plasmónica para controlar las partículas, tanto en direcciones paralelas y ortogonales al eje simétrico de una estructura nanohole plasmónica. Esta característica nos permite observar el movimiento de cada partícula cerca del borde de la nanohole. Por otra parte, se puede estimar cuantitativamente las fuerzas máximas de captura utilizando un nuevo canal fluídico.

El proceso de fabricación del microcanal y oro nanohole placa de PDMS se muestra en las Figuras 1 y 2. El método para combinar las dos partes y el microchip real se muestra en la Figura 3. El PDMS se cortó para revelar el interior del canal desde el lado del microchip. Sin embargo, era difícil observar las partículas que fluyen en el canal debido a la rugosidad de la superficie del plano de corte. Por lo tanto, presentamos el método de r...

Un proceso de fabricación de microchip que incorpora pinzas plasmónica se presenta aquí. El microchip permite la obtención de imágenes de una partícula atrapada para medir fuerzas de captura máximas.

Plasmónica la captura y liberación de nanopartículas en un entorno de monitorización

Plasmonic tweezers use surface plasmon polaritons to confine polarizable nanoscale objects. Among the various designs of plasmonic tweezers, only a few ...

El objetivo general de este experimento es monitorear partículas en dos dimensiones, tanto paralelas como ortogonales al eje simétrico de una estructura de nanoporos plasmónicos, y estimar cuantitativamente la fuerza máxima de atrapamiento del sistema. Este método puede ayudar a responder preguntas en las ciencias de la vida relacionadas con el desarrollo rápido de inmunoensayos, el atrapamiento de células y bacterias, el análisis de liposomas y los estudios sobre la liberación de fármacos mediante nanopartículas. La principal ventaja de esta técnica es que permite el monitoreo del movimiento de las partículas en dos dimensiones: una a lo largo del eje del haz láser y la otra en la dirección ortogonal a este.Para comenzar, fabrique el molde de microcanales utilizando técnicas estándar de fotolitografía y coloque la oblea en una placa de Petri de 150 milímetros de diámetro. Luego, mezcle 10 partes de base de PDMS con una parte de agente de curado y agite la mezcla durante dos minutos. Una vez combinadas, vierta 100 mililitros de la mezcla de PDMS sobre la oblea.Coloque la placa de Petri en una cámara de vacío y aplique vacío para eliminar cualquier burbuja del PDMS. A continuación,

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Research

Investigación

JoVE Journal

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Ingeniería

Pinzas y plasmónica nanoestructuras fotónicas de cristal se muestran para producir mejoras útiles en el control de la eficiencia y la orientación de la óptica de captura de micro-y nano partículas.

Utilización de nanoestructuras fotónicas de cristal plasmónicos y para la manipulación mejorada de Micro y nanopartículas

Los detalles de configuración siguientes enfoque captura de baja potencia óptica de las nanopartículas con un dieléctrico doble nanohole en la película de metal.

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Analizando el movimiento de la Nauplio &#39;<em&gt; Artemia salina</em&gt; &#39;Por Optical Tracking de plasmónicas nanopartículas

La escalabilidad y resolución de las técnicas convencionales de manipulación óptica están limitadas por la difracción. Sorteamos el límite de difracción y describimos un método de transporte óptico de nanopartículas a través de un chip utilizando una superficie de oro modelada con una trayectoria de resonadores plasmónicos en forma de C muy espaciados.

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El presente protocolo describe un enfoque conveniente para integrar la captura óptica y la espectroscopia Raman mejorada en superficie (SERS) para manipular nanopartículas plasmónicas para la detección molecular sensible. Sin agentes agregadores, el láser de captura ensambla nanopartículas plasmónicas para mejorar las señales SERS de los analitos objetivo para mediciones espectroscópicas in situ .

Captura óptica de nanopartículas plasmónicas para caracterizaciones de espectroscopía Raman mejorada en superficie in situ

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Monitorización de la dinámica conformacional de proteínas individuales no modificadas mediante nanopinzas plasmónicas

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De silicio policristalino película delgada de células solares con plasmónica mejorada luz que atrapa

El sistema descrito en este documento emplea una trampa óptica tradicional, así como una línea de trampas ópticas holográficas independiente, capaz de crear y manipular múltiples trampas. Esto permite la creación de disposiciones geométricas complejas de partículas de refracción a la vez que permite mediciones simultáneas de alta velocidad, de alta resolución de la actividad de enzimas biológicas.

Construcción de un microscopio de alta resolución con capacidades de captura óptica convencional y holográfica

Aprende a fabricar microchips con pinzas plasmónicas para capturar nanopartículas y medir fuerzas de trampa en dos dimensiones. Esta técnica avanza aplicaciones en inmunoensayos y liberación de fármacos.

Plasmónica la captura y liberación de nanopartículas en un entorno de monitorización

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