Un procédé de fabrication de puce électronique qui intègre une pince à épiler plasmoniques est présentée ici. La puce permet de mesurer l'imagerie d'une particule piégée forces de piégeage maximale.
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Article de méthode
Un procédé de fabrication de puce électronique qui intègre une pince à épiler plasmoniques est présentée ici. La puce permet de mesurer l'imagerie d'une particule piégée forces de piégeage maximale.
pincettes plasmoniques utilisent polaritons de plasmon de surface pour confiner les objets à l'échelle nanométrique polarisables. Parmi les différents modèles de pinces plasmoniques, seulement quelques-uns peuvent observer des particules immobilisées. De plus, un nombre limité d'études ont mesuré expérimentalement les forces pouvant être exercée sur les particules. Les dessins peuvent être classés comme type de nanodisk en saillie ou le type de nanotrou supprimé. Pour cette dernière, l'observation microscopique est extrêmement difficile. Dans ce document, un nouveau système de brucelles plasmonique est introduit pour surveiller les particules, à la fois dans des directions parallèles et perpendiculaires à l'axe de symétrie d'une structure de nanotrous plasmonique. Cette fonction permet d'observer le mouvement de chaque particule près du bord de la nanotrou. De plus, nous pouvons estimer quantitativement les forces de piégeage maximale à l'aide d'un nouveau canal fluidiques.
La capacité de manipuler des objets micrométriques est un élément indispensable pour de nombreuses expériences micro / nano. manipulations de contact direct peuvent endommager les objets manipulés. La libération des objets précédemment détenus est également difficile en raison de problèmes de stiction. Pour remédier à ces problèmes, plusieurs méthodes indirectes en utilisant fluidiques 1, 2 électrique, 3 magnétique, ou les forces photoniques 4, 5, 6, 7, 8 ont été proposées. Pincettes plasmoniques qui utilisent les forces photoniques sont basées sur la physique des extraordinaires amélioration sur le terrain plusieurs commandes plus importantes que l'intensité des incidents 9. Cette amélioration de champ extrêmement fort permet de piéger des nanoparticules extrêmement petites. Par exemple, il a été démontré pour immobiliser et manipuler nanométriqueobjets, tels que des particules de polystyrène 7, 10, 11, 12, 13, 14, 15 des chaînes polymères, des protéines 16, points quantiques 17 et les molécules d'ADN 8, 18. Sans pincettes plasmoniques, il est difficile de nanoparticules de piège car ils disparaissent rapidement avant qu'ils ne soient effectivement examinés, soit parce qu'elles sont endommagées en raison de l'intensité élevée du laser.
De nombreuses études plasmoniques ont utilisé diverses structures d'or à l'échelle nanométrique. Nous pouvons classer les structures d'or comme saillie types de nanodisk 12, 13, 14, 15, 19 , 20, 21 ou supprimées types de nanotrous 7, 8, 10, 11, 22, 23. En termes de commodité d'imagerie, les types de nanodisk sont plus appropriés que les types de nanotrous parce que, pour ce dernier, les substrats d'or peuvent obstruer la vue de l'observation. En outre, le piégeage plasmonique se produit près de la structure plasmon et rend l'observation encore plus difficile. Au meilleur de nos connaissances, le piégeage plasmonique sur les types de nanotrous n'a été vérifiée à l'aide des signaux de diffusion indirecte. Cependant, aucune observation directe avec succès, comme des images microscopiques, ont été rapportés. Peu d'études ont décrit la position des particules piégées. Un tel résultat a été présenté par Wang et al. Ils ont créé un pilier d'or sur un substrat d'or et a observé la ple mouvement de l' article en utilisant un microscope à fluorescence 24. Cependant, ceci est seulement efficace pour le contrôle des mouvements latéraux dans la direction non parallèle à l'axe du faisceau.
Dans cet article, nous présentons de nouvelles procédures de conception et de fabrication puce fluidiques. En utilisant cette puce, nous démontrons la surveillance des particules piégées plasmonically, à la fois dans des directions parallèles et perpendiculaires à la nanostructure plasmonique. De plus, on mesure la force maximale de la particule immobilisée en augmentant la vitesse du fluide pour trouver la vitesse de basculement dans la puce. Cette étude est unique parce que la plupart des études sur les pincettes plasmoniques ne peuvent pas montrer quantitativement les forces de piégeage maximales utilisées dans leurs configurations expérimentales.
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Attention: S'il vous plaît se référer à toutes les règles de sécurité des matériaux pertinents avant utilisation. Plusieurs des produits chimiques utilisés dans la fabrication de puce électronique sont extrêmement toxiques et cancérigènes. S'il vous plaît utiliser toutes les pratiques de sécurité appropriées lors de l'exécution des processus de photolithographie et de gravure, y compris l'utilisation des contrôles techniques (hotte aspirante, plaque chauffante, et aligneur) et de l'équipement de protection individuelle (lunettes de sécurité, gants, blouse, pantalon pleine longueur, et fermé -chaussures à bout).
1. Fabrication du microcanal PDMS
2. Processus de gravure de la plaque d'or
3. Assemblée de la puce électronique
4. Amélioration de la rugosité de surface latérale Microchip par revêtement PDMS
REMARQUE: La plaque d'or avec des dimensions fixes de 400 x 150 pm 2 est relativement plus difficile à couper que le matériau PDMS. Par conséquent, pour détacher le microcanal PDMS à partir de la plaquette, une lame de rasoir est utilisée pour découper un morceau plus grand que la plaque d'or. Après avoir combiné les deux parties, les parties en excès du rapport PDMS à la plaque de l' or doivent alors être coupées de telle sorte que l'intérieur peut être observé le canal depuis le côté en utilisant un microscope (Figure 4a). Cependant, la surface de coupe, qui est utilisé comme une fenêtre, présente une rugosité de surface élevée et produit par conséquent des images éclaircies des particules qui circulent dans le canal (Figure4b). Revêtement avec la solution PDMS est effectuée à nouveau pour résoudre ce problème.
5. Laser de couplage pour insérer le câble SMF à la puce électronique
NOTE: Pour le système de pincettes plasmonique, un laser incidente de la fibre optique avec une longueur d'onde 1064 nm est utilisée. Le câble SMF est utilisé parce que le diamètre de l'INCIlaser dent (5 mm) est trop immense pour émettre le faisceau laser à l'nanotrou blanchi sur le bloc d'or (400 x 150 um 2) dans la puce électronique. Le diamètre de la gaine du câble SMF est de 125 pm. Ainsi, le laser incident et le câble SMF doivent être couplés.
6. plasmonique Défonce de particules unique fluorescent Polystyrène dans la puce électronique
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Le procédé de fabrication de la plaque à microcanaux or PDMS et nanotrou est représenté sur les figures 1 et 2. Procédé pour combiner les deux parties et la puce proprement dite est représentée sur la figure 3. Le PDMS a été coupée pour révéler l'intérieur du canal à partir du côté de la puce électronique. Cependant, il est difficile d'observer les particules circulant dans le canal en raison de la rugosité de surface du plan de ...
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Le câble SMF a été inséré dans le trou de câble SMF sur la puce, comme le montre le point rectangulaire de la figure 6a. Du fait que le trou de câble SMF est plus grand que le diamètre du câble, de la colle époxy a été utilisé pour sceller la fente pour bloquer la fuite de la solution de particules en écoulement. Avant l'application de la colle époxy, le bloc d'or et le bord du câble doivent être alignés de manière coaxiale à la main en utilisant un microscope. Bien qu'il soit idéal pour le ...
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Les auteurs n'ont rien à dévoiler.
Ce travail a été soutenu par le programme R & D TIC de PMD / IITP (R0190-15-2040, Développement d'un système de gestion de la configuration du contenu et un simulateur pour l'impression 3D à l'aide des matériaux intelligents).
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| Nom | Entreprise | Numéro de catalogue | Commentaires |
|---|---|---|---|
| Photorésine négative | Développeur MicroChem | SU-8 2075 | |
| Développeur | MicroChem | SU-8 Photorésine | |
| positive ; | Merck Ltée | AZ GXR-601 | |
| AZ Photoresist Développeurs | Merck Ltd. | AZ 300 MIF | |
| HMDS | Merck Ltd. | AZ Promoteur d’adhérence | |
| Aligneur | Midas System | MDA 400M | |
| Machine à plasma atmosphérique ; | Procédé atmosphérique Plasma Co. | IDP-1000 | |
| Polydiméthylsiloxane (PDMS) | Dow Corning | Sylgard 184 A/B | |
| Lames de test revêtues d’or | EMF Co. | TA124(Ti/Au) | |
| Au etchant ; | Transene Inc. | TFA | |
| Ti etchant ; | Transene Inc. | TFT | |
| 40X ; | Edmund Optics | 40X DIN | |
| 60X immersion dans l’eau objectif ; | Olympus | LUMPLFLN 60XW | |
| Laser incident à fibre optique ; | IPG Photonic | YLR 10 | |
| Coupleur SMF | Thorlabs | MBT612D/M | |
| Micropompe à seringue | Harvard | PC2 70-4501 | |
| Microscope fluorescent ; | Olympus | IX-51 | |
| Système plasma | Femto Science Inc | CUTE-MPR |
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