Évaluation de la tribocorrosion des composites de surface TI6Al 4 V renforcés par la céramiquerevêtus de laser

Ochonogor Onyeka Franklin; Mark Walker; Mahlatse Mphahlele

doi:10.3791/70074

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Article de méthode

Évaluation de la tribocorrosion des composites de surface TI₆Al 4 V renforcés par la céramiquerevêtus de laser

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DOI :

10.3791/70074

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12 juin 2026

Ochonogor Onyeka Franklin¹ , Mark Walker¹ , Mahlatse Mphahlele²

¹Department of Mechanical Engineering, Durban University of Technology, ²Department of Mechanical and Mechatronic Engineering, Cape Peninsula University of Technology

Dans cet article

Résumé

Évaluation de la résistance à l’usure, de la microdureté et de la résistance à la corrosion des composites avec des particules de renfort céramique (systèmes Zr/TiC et Ti/Tic) dans des conditions pertinentes pour les implants biomédicaux (NaCl/_{H 2}SO₄).

Résumé

Cet article présente un protocole expérimental complet pour évaluer le comportement de tribocorrosion des composites à base de TI₆Al₄V fabriqués par additifs, renforcés par des phases céramiques à l’aide de dépôt laser de métaux (LMD). Ce protocole répond à la nécessité de comprendre les mécanismes synergiques de dégradation qui apparaissent dans les composants exposés à des charges mécaniques et à des environnements corrosifs dans les applications biomédicales et aérospatiales. Le protocole inclut un revêtement laser contrôlé de TI₆Al₄V avec des renforts Zr/TiC et Ti/TiC, suivi d’une caractérisation détaillée des microstructures, mécaniques, électrochimiques et tribocorrosions. Les procédures couvrent la manipulation des poudres, la préparation du substrat, le traitement laser, la préparation métallographique, la microscopie, la diffraction des rayons X, les tests de microdureté, les mesures de corrosion électrochimique et les essais de tribocorrosion utilisant un tribomètre à bille alternative sur plaque sous contrôle électrochimique dans un électrolyte NaCl/H₂SO₄. Cette méthode permet une évaluation en temps réel des interactions usure-corrosion, y compris la dégradation passive du film et la re-passivation sous des conditions de glissement, tout en tenant compte des caractéristiques microstructurales induites par la fabrication additive. Le protocole sert de cadre standardisé pour évaluer l’efficacité des stratégies de renforcement céramique dans l’amélioration de la fonctionnalité des systèmes métalliques manufacturés par additifs destinés à des environnements difficiles.

Introduction

La modification de surface laser intégrant des phases céramiques est une approche efficace pour améliorer les performances de surface des implants métalliques, permettant la formation de revêtements résistants à la corrosion et renforcés mécaniquement via dépôt laser de métaux (LMD⁾¹. L’alliage de titane TI₆_{Al 4}V est largement utilisé dans les implants biomédicaux en raison de sa biocompatibilité, de son rapport résistance/poids élevé et de sa résistance à^{la corrosion} ^2,3. Néanmoins, il reste vulnérable à la corrosion et à la tribocorrosion dans des environnements physiologiques agressifs, où l’usure mécanique et la dégradation électrochimique peuvent compromettre la performance de l’implant et déclencher des réactions biologiques^{défavorables} 4,5,6,7. Le LMD améliore les propriétés de surface grâce à la refusion localisée, à la solidification rapide et à l’intégration de phases de renfort, produisant des couches denses et métallurgiques liées avec des microstructures sur mesure. Comparé à des techniques alternatives telles que la nitration laser ou le traitement par faisceau d’électrons, le LMD offre une flexibilité compositionnelle, des coûts d’exploitation plus faibles et une large accessibilité ^8,9,10. Ces avantages le rendent particulièrement adapté aux implants manufacturés par additifs (AM), où la résistance à la corrosion est cruciale pour la performance in vivo à^{long terme 10}.

Le comportement de corrosion et de tribocorrosion des implants AM est influencé par la porosité, la rugosité de surface, les contraintes résiduelles et l’hétérogénéité^{microstructurelle 11}. Par conséquent, l’évaluation nécessite des essais électrochimiques sur des électrolytes agressifs (par exemple, NaCl/H₂SO₄), complétés par une caractérisation microstructurelle utilisant le MEB et l’EDS. Les stratégies de post-traitement, incluant le pressage isostatique à chaud, le polissage de surface et la refusion au laser, améliorent encore la résistance à la corrosion en réduisant les défauts et en affinant la topologie de surface.

Les composites renforcés_{TI 6}Al₄V contenant Zr, Ti et TiC présentent une meilleure résistance à la corrosion grâce à une combinaison de stabilité passive accrue de la couche et d’un raffinement microstructurel. Le zirconium stabilise l’oxyde mixte passif TiO₂ – ZrO₂, favorisant une re-passivation rapide et une résistance à la polarisation plus^{élevée 12,13}. Les particules de TiC et Ti assurent un renforcement mécanique et agissent comme barrières de diffusion contre les ions corrosifs, tandis que les interfaces bien liées minimisent les microcrevasses pouvant initier une corrosion^{localisée 14}. Le tableau des matériaux montre les matériaux utilisés, y compris les réactifs et les instruments.

L’objectif global de cette méthode est d’évaluer la performance de tribocorrosion des composites AM_{TI 6}Al₄V renforcés avec des particules céramiques (Zr/TiC et Ti/TiC), en capturant les mécanismes de dommages synergiques qui surviennent sous usure mécanique et exposition électrochimique simultanées. Les essais de tribocorrosion intègrent des mesures d’usure et électrochimiques, fournissant une évaluation en temps réel dans des conditions dynamiques et physiologiquement^pertinentes 15,16,17,18,19,20. La méthode est adaptée aux implants biomédicaux porteurs ou aux composants soumis à des contraintes mécaniques et chimiques combinées, simulant des scénarios in vivo dans le pire des cas utilisant des électrolytes contenant du chlorure. Les performances optimales sont obtenues en équilibrant le renforcement mécanique avec la stabilité électrochimique, en soulignant l’importance de l’uniformité microstructurale et de l’intégrité passive du film. Ce protocole fournit un cadre reproductible et pertinent pour l’application afin d’évaluer les composites AM_{TI 6}Al_4Vdans des conditions de tribocorrosion, en soutenant la sélection éclairée des matériaux, l’ingénierie des surfaces et la conception des implants.

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Protocole

1. Matériaux, équipements et poudres de départ

Poudres de démarrage
1. Obtenir de la poudre atomisée de TI₆_Al4V (ASTM F136) avec une plage de particules de 15 à 53 μm, de la poudre de zirconium (Zr) de pureté de ≥99,5 % en poids et de la taille des particules de 10 à 45 μm, et de la poudre de carbure de titane (TiC) avec une pureté de ≥99 % en poids et une taille de particule de 2 à 10 μm.
2. Conservez toutes les poudres dans des contenants scellés sous une atmosphère sèche d’argon pour éviter l’oxydation et l’absorption d’humidité avant le traitement.
Préparation du substrat
1. Découpez les plaques de substrat_{TI 6}_{Al 4}V aux dimensions de 50 mm × 50 mm × 5 mm.
2. Meulez la surface du substrat séquentiellement à l’aide de papiers SiC de grains P320 à P800 pour éliminer les oxydes de surface et les irrégularités.
3. Nettoyez les substrats par ultrasons dans de l’acétone pendant 10 minutes, puis de l’éthanol pendant 10 minutes.
4. Séchez les substrats à l’aide d’azote comprimé et montez-les solidement sur la plateforme de dépôt laser de métal (LMD).

2. Déposement de métaux laser de composites de surface armés de céramique

Configuration du système LMD
1. Utilisez un système de dépôt de métal laser équipé d’une unité d’alimentation en poudre à plusieurs trémies.
2. Utiliser un laser à fibre à onde continue d’une longueur d’onde d’environ 1070 nm.
3. Réglez le diamètre du point laser à 1,0–1,5 mm à l’aide d’une buse coaxiale.
Alimentation en poudre et blindage
1. Chargez les poudres TI₆_{Al 4}V, Zr et TiC dans des trémies séparées sous une boîte à gants remplie d’argon.
2. Purgez toutes les conduites de poudre et les trémies avec de l’argon de haute pureté pendant au moins 20 minutes pour réduire les niveaux d’oxygène en dessous de 10 ppm.
3. Calibrez chaque poudre de façon gravimétrique et ajustez les débits d’alimentation pour obtenir la composition souhaitée, en maintenant un taux total d’alimentation en poudre de 5 à 10 g/min avec un écart de ±2 %.
Paramètres de dépôt
1. Régler la puissance du laser à 800–1200 W.
2. Régler la vitesse de balayage à 6–12 mm/s.
3. Maintenir un débit de gaz blindé d’argon de 10 à 15 L/min pour protéger la piscine en fusion contre l’oxydation.
4. Déposez le matériau en utilisant une stratégie de balayage raster avec un chevauchement de 30 à 50 % entre les pistes adjacentes.
5. Construisez les revêtements couche par couche, permettant des intervalles de refroidissement contrôlés entre les couches afin de minimiser les contraintes résiduelles.
6. Laissez les échantillons refroidir à température ambiante sous une atmosphère d’argon après le dépôt.

3. Caractérisation microstructurale et de phase

Préparation métallologique
1. Découpez les échantillons déposés perpendiculairement à la direction de construction à l’aide d’une scie diamantée de précision.
2. Incorporez les échantillons dans de l’époxy conductrice et durcissez selon les instructions du fabricant.
3. Meuler avec des papiers SiC (P120 à P1200) et polir avec des suspensions diamantées jusqu’à 1 μm.
Microscopie électronique à balayage (MEB) : Enduire les échantillons polis d’une fine couche conductrice avant l’imagerie par SEM pour réduire la charge de surface. Montez chaque échantillon poli sur un sommet de SEM en aluminium à l’aide d’un ruban carbone conducteur pour un contact électrique approprié.
1. Placez les échantillons montés dans un coater à pulvérisation et déposez une couche d’or ou de carbone de 5 à 10 nm d’épaisseur dans une atmosphère d’argon. Appliquer un courant de sputtering d’environ 20 mA pendant 45 à 60 s pour garantir un revêtement conducteur uniforme. Après le revêtement, conservez les échantillons dans un contenant propre et sans poussière jusqu’à l’analyse SEM.
  REMARQUE : Enduit les échantillons polis avec une couche conductrice de carbone ou d’or (~5–10 nm) : Pour garantir une surface conductrice pour l’imagerie MEB et l’analyse élémentaire EDS précise, recouvrir les échantillons polis d’une fine couche de carbone ou d’or (~5–10 nm). Utilisez un revêtement à spiller pour appliquer la couche conductrice. Fixez les échantillons sur des morceaux d’aluminium avec du ruban carbone conducteur et crachez une couche d’or de 5 à 10 nm à 20 mA pendant 60 s dans une atmosphère d’argon. Les matériaux nécessaires à cette préparation incluent des échantillons métallurgiques polis, une source de revêtement au carbone ou à l’or, un évaporateur à pulvérisation ou un évaporateur thermique, un morceau conducteur d’échantillon, un ruban adhésif et un bain ultrasonique contenant de l’éthanol ou de l’acétone. La procédure est la suivante :
  1. Préparation de l’échantillon : Assurez-vous que la surface de l’échantillon soit lisse et sans rayure. Pour les échantillons métalliques, meuler avec des papiers SiC : grain 320–1200, polir avec de la pâte diamantée : 6–3–1 μm, nettoyer dans de l’éthanol ou de l’acétone pendant 5 à 10 minutes, puis sécher complètement l’échantillon à l’aide d’air chaud ou d’azote.
  2. Choisissez le matériau de revêtement : Le carbone est couramment utilisé pour les applications EDS afin de minimiser les interférences avec les pics élémentaires, tandis que l’or (Au) convient aux échantillons non conducteurs ou mal conducteurs en raison de sa haute conductivité, bien qu’il puisse masquer les pics élémentaires voisins dans l’EDS.
  3. Choisissez une technique de revêtement :
    Revêtement sputter (préféré pour les métaux et le MEB) : placez l’échantillon dans la chambre à vide du revêtement par pulvérisation, pompez jusqu’à un vide élevé, réglez le courant et la tension de sputtering selon les spécifications du fabricant, puis faites un sputter-coat pendant un temps étalonné pour obtenir une épaisseur de ~5 à 10 nm.
  4. Conseils de revêtement pour obtenir de meilleurs résultats
    Faites pivoter l’échantillon pendant le dépôt pour une couverture uniforme, éviter un surrevêtement (>10 nm d’épaisseur), vérifier l’épaisseur du revêtement par calibration ou un profilomètre, et assurez-vous que l’échantillon est propre après le revêtement afin d’éviter toute contamination.
  5. Stockage avant SEM
    Conservez les échantillons enduits dans un contenant sans poussière et évitez de toucher la surface revêtue pour maintenir la conductivité et la qualité d’image.
  6. Optionnel : Revêtement combiné
    Appliquez une fine couche de carbone (~5 nm) suivie d’or (~5 nm) pour une analyse élémentaire équilibrée et une meilleure qualité d’image, en particulier pour des échantillons hétérogènes ou à faible conductivité.
2. Réaliser l’imagerie SEM avec une tension accélérée entre 10 et 20 kV et une distance de travail de 8 à 12 mm.
3. Capturez des images électroniques secondaires pour évaluer la géométrie du revêtement, la porosité et la distribution du renfort. Placez les échantillons revêtus dans la chambre du microscope électronique à balayage et suivez la procédure de l’instrument pour atteindre le niveau de vide nécessaire. Capturez des images électroniques secondaires (SE) à l’aide d’un microscope électronique à balayage de champ à émission à 10–15 kV et à une distance de travail de 8–10 mm. Utilisez le détecteur d’électrons secondaire pour des images de surface à haute résolution. Prenez des micrographies à différents grossissements pour analyser la géométrie du revêtement, la porosité et la distribution des renforts dans les couches revêtues de laser. Incluez une barre d’échelle dans le coin inférieur droit de chaque image exportée.
  1. Préparation de l’échantillon
    Polir l’échantillon à plat, meuler avec du papier de grain 320 à 1200, puis polir avec de la pâte diamantée (6, 3, 1 μm). Nettoyez l’échantillon dans un bain ultrasonique avec de l’éthanol ou de l’acétone et enrobez-le d’une couche conductrice (environ 5 à 10 nm de carbone ou d’or) pour éviter toute charge lors de l’imagerie.
  2. Montage d’échantillons
    Fixez l’échantillon à un morceau conducteur à l’aide de ruban carbone ou d’adhésif conducteur, afin de garantir qu’il soit plat et stable. Insérez le moignon dans la chambre SEM et évacuez vers un vide élevé.
  3. Sélection des modes
    Dans le logiciel de contrôle SEM, choisissez le mode électron secondaire (SE) et sélectionnez un détecteur qui capte les signaux SE. Ajustez la tension d’accélération en fonction du matériau et des caractéristiques d’intérêt.
  4. Ajustement des paramètres
    Régler la distance de travail à 5–15 mm pour une résolution plus élevée ; Utilisez une petite taille de point (environ 1 à 5 nm) pour une meilleure résolution ; choisissez une vitesse de balayage moyenne-lente pour un meilleur niveau de détail ; ajuster le grossissement selon les besoins pour l’analyse du revêtement ; et le courant de faisceau d’équilibrage pour le contrôle de la luminosité et du bruit.
  5. Acquisition d’images
    Commencez par un faible grossissement puis augmentez progressivement pour capturer les détails plus fins. Prenez plusieurs images pour couvrir la géométrie du revêtement, la porosité et la répartition des renforts.
  6. Inclinaison optionnelle et perspective 3D
    Inclinez l’échantillon (5–20°) pour un contraste topographique renforcé. Observez la protrusion ou l’immersion des particules de renforcement dans la matrice.
  7. Étapes post-imagerie
    Sauvegardez les images en formats haute résolution et annotez-les avec des barres d’échelle, des régions d’intérêt et des tailles de particules. Utilisez des logiciels d’analyse d’images pour la quantification et l’analyse.
  8. Exemple de flux de travail pour la métallurgie blindée
    Préparer un échantillon TiC – blindé Ti, polir, enduire au carbone, monter sur un tronc conducteur, insérer dans le SEM, utiliser le mode SE à 15 kV, distance de travail de 10 mm, acquérir des images pour la géométrie du revêtement et la distribution du renfort, enregistrer et analyser les images.
4. Effectuer une analyse ponctuelle EDS et une cartographie élémentaire pour confirmer la distribution Zr et TiC.
  Effectuer une analyse élémentaire à l’aide d’un détecteur de spectroscopie à rayons X dispersif d’énergie (EDS) intégré au système SEM. Faire fonctionner le SEM à une tension d’accélération de 15 à 20 kV pour assurer une excitation suffisante des signaux caractéristiques de rayons X. Effectuer une analyse ponctuelle sur des régions d’intérêt sélectionnées au sein de la couche revêtue afin d’identifier la composition élémentaire. Acquérir des spectres avec un temps d’acquisition en temps réel d’environ 60 s pour obtenir des pics élémentaires fiables.
  REMARQUE : Pour la cartographie élémentaire, balayez la zone sélectionnée de la surface revêtue tout en collectant des signaux de rayons X spatialement résolus correspondant aux éléments d’intérêt. Générez des cartes de distribution pour confirmer la présence et la répartition spatiale des phases de renforcement en zirconium (Zr) et carbure de titane (TiC) dans la matrice de titane. Exportez les cartes élémentaires avec des barres d’échelle cohérentes et des étiquettes de panneaux pour le traitement d’image ultérieur.
  1. Préparation de l’échantillon
    Polir l’échantillon jusqu’à obtenir une finition miroir avec des papiers SiC et de la pâte diamantée. Nettoyez l’échantillon dans un bain ultrasonore avec de l’éthanol ou de l’acétone et appliquez un revêtement conducteur si nécessaire pour éviter toute charge.
  2. Monter l’échantillon et configurer le SEM
    Montez l’échantillon sur un morceau conducteur avec du ruban de carbone, insérez-le dans la chambre SEM, puis pompez vers un vide élevé. Sélectionnez une tension d’accélération appropriée pour la détection de l’EDS.
  3. Installation du détecteur EDS
    Assurez-vous d’un refroidissement et d’un calibrage appropriés du détecteur EDS, étalonnez le spectromètre à l’aide d’un matériau standard, et réglez le temps de vie ou les comptes pour un rapport signal sur bruit optimal.
  4. Analyse des points EDS
    Naviguez vers des points d’intérêt sur l’image SEM, acquérez le spectre EDS à chaque point, identifiez les pics caractéristiques pour Zr, Ti et C, et enregistrez le pourcentage de poids ou % atomique à l’aide du logiciel.
  5. Cartographie élémentaire EDS
    Sélectionnez la zone d’intérêt sur l’image SEM, activez le mode cartographie dans le logiciel EDS, puis commencez à scanner pour générer des cartes de distribution élémentaire.
  6. Vérifier avec l’imagerie SEM
    Utilisez l’imagerie BSE pour le contraste compositionnel, comparez les images SE et les cartes EDS pour la corrélation.
  7. Sauvegarde et analyse des données
    Enregistrez les spectres, les cartes et les images annotées du SEM. Utilisez des logiciels pour la quantification des fractions élémentaires, la mesure de la taille des particules et le calcul de l’uniformité de la distribution.
Diffraction des rayons X (XRD)
1. Caractérisation des phases
  Effectuer une analyse élémentaire à l’aide d’un détecteur de spectroscopie à rayons X dispersif d’énergie (EDS) intégré au système SEM. Faire fonctionner le SEM à une tension d’accélération de 15 à 20 kV pour assurer une excitation suffisante des signaux caractéristiques de rayons X. Effectuer une analyse ponctuelle sur des régions d’intérêt sélectionnées au sein de la couche revêtue afin d’identifier la composition élémentaire. Acquérir des spectres avec un temps d’acquisition en temps réel d’environ 60 s pour obtenir des pics élémentaires fiables.
  REMARQUE : Pour la cartographie élémentaire, balayez la zone sélectionnée de la surface revêtue tout en collectant des signaux de rayons X spatialement résolus correspondant aux éléments d’intérêt. Générez des cartes de distribution pour confirmer la présence et la répartition spatiale des phases de renforcement en zirconium (Zr) et carbure de titane (TiC) dans la matrice de titane. Exportez les cartes élémentaires avec des barres d’échelle cohérentes et des étiquettes de panneaux pour le traitement d’image ultérieur.

4. Caractérisation mécanique

Essai de microdureté Vickers
1. Effectuez des mesures de microdureté Vickers sur des sections transversales polies en utilisant une charge de 100 g et un temps de maintien de 15 s.
2. Placez des indentations à des intervalles d’au moins 100 μm pour éviter les effets d’interaction.
3. Calculer les valeurs moyennes de dureté et les écarts-types à partir d’au moins dix mesures par échantillon.

5. Essais de corrosion électrochimique

Installation des cellules électrochimiques
1. Préparez une cellule électrochimique avec l’échantillon comme électrode de travail, une contre-électrode en maille de platine, et une électrode de référence Ag/AgCl.
2. Exposez une zone d’électrode de travail de 1 cm² à l’aide d’un vernis isolant.
3. Utilisez un électrolyte aqueux NaCl/_{H 2}SO₄ maintenu à 25 ± 1 °C.
Potentiel et polarisation en circuit ouvert
1. Immergez l’échantillon et laissez la stabilisation au potentiel en circuit ouvert (OCP) pendant 30 minutes.
2. Effectuer des balayages de polarisation potentiodynamique de −0,25 V à +1,5 V contre Ag/AgCl à une fréquence de balayage de 1 mV/s.
3. Déterminer le potentiel de corrosion (E_corr) et la densité de courant de corrosion (i_corr) à partir de l’extrapolation de Tafel.

6. Essais intégrés de tribocorrosion

Configuration par tribocorrosion
1. Montez l’échantillon électrochimique dans un tribomètre à boule alternative sur plaque, couplé à un potentiostat.
2. Utilisez une boule de contre-corps en alumine (Al₂_{O 3}) d’un diamètre de 6 mm.
3. Appliquez une charge normale de 5 N et une fréquence de glissement de 1 Hz sur une distance de glissement de 5 mm.
4. Effectuer des tests de tribocorrosion sur le même électrolyte NaCl/_{H 2}SO₄ sous contrôle électrochimique.
Exécution des tests et normes
1. Enregistrer le coefficient de friction, la réponse courante et le potentiel en continu lors du glissement des mouvements.
2. Effectuer des essais de tribocorrosion conformément à l’ASTM G119 afin d’évaluer les effets synergiques de corrosion de l’usure.
3. Après le test, rincez les échantillons à l’eau distillée, séchez avec de l’azote et examinez les traces d’usure avec du MEB.

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Résultats

Caractérisation des poudres et des substrats
Des micrographies représentatives en microscopie électronique à balayage (MEB) des poudres de renfort de départ ((A) Ti, (B) Zr et (C) TiC) sont représentées à la Figure 1. Les images illustrent les morphologies typiques des particules obtenues à partir de poudres atomisées par gaz et issues du commerce. Les particules de titane et de zirconium présentaient principalement des formes sphériques à presque sphériq...

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Discussion

Cet article sur les méthodes présente un protocole reproductible pour la fabrication, la caractérisation et l’évaluation de la tribocorrosion de composites à base de TI₆_{Al 4V}fabriqués par additivité, renforcés avec des phases céramiques à l’aide de dépôt au laser de métaux (LMD). La méthodologie intègre la caractérisation des poudres, le mélange automatisé in situ, le revêtement laser, l’analyse microstructurelle, les tests électrochimiques et l’évaluation ...

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Déclarations de divulgation

Les auteurs n’ont aucun conflit d’intérêts concernant ce travail et n’ont utilisé aucun outil d’écriture par IA.

Remerciements

Les auteurs tiennent à remercier l’Université de technologie de Durban pour le soutien financier à ce travail.

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Matériaux

Liste des matériaux utilisés dans cet article
Nom	Entreprise	Numéro de catalogue	Commentaires
Matières premières / Poudres
Ti₆Al4V Poudre			Atomisé au gaz, 15–53 μm (ASTM F136) Utilisation dans l'étude: Matériau de matrice pour le revêtement par laser et le substrat.
Poudre de Zirconium (Zr)			Pureté ≥99,5 wt.%, 10–45 μm Utilisation dans l'étude: Renfort composite et matériau stabilisateur.
Poudre de Carbure de Titane (TiC)			Pureté ≥99 wt.%, 2–10 μm Utilisation dans l'étude: Matériau de renforcement céramique pour composite.
Poudre Ti/TiC			Poudre composite mélangée (rapports pondéraux spécifiques) Utilisation dans l'étude: Mélange de renforcement pour composite.
Poudre Zr/TiC			Poudre composite mélangée (rapports pondéraux spécifiques) Utilisation dans l'étude: Mélange de renforcement pour composite.
Gaz & Produits chimiques
Azote (N2)			Environnement contrôlé/Précaution de sécurité Utilisation dans l'étude: Environnement contrôlé pour le mélange de poudres et le système de dépôt de métal par laser (LMD).
Argon (Ar)			Environnement de purge, gaz vecteur/de protection Utilisation dans l'étude: Chargement de poudre, atmosphère LMD et buse coaxiale avec gaz vecteur.
Acétone			Solvant de nettoyage Utilisation dans l'étude: Nettoyage du substrat Ti6Al4V.
Éthanol			Solvant de nettoyage Utilisation dans l'étude:
Solution de refroidissement			eau Utilisation dans l'étude: Nettoyage du substrat Ti6Al4V.
Résine époxy transparente			Matériau de montage Utilisation dans l'étude: Montage d'échantillons pour préparation d'électrode ou métallographique.
Époxy conducteur			Matériau de montage Utilisation dans l'étude: Montage d'échantillons pour microscopie (après sectionnement)
Papier émeri (SiC)			Diverses tailles de grain Utilisation dans l'étude: Meulage d'échantillons (préparation métallographique).
Pâte diamant			Composé de polissage Utilisation dans l'étude: Polissage des surfaces exposées des électrodes et des sections transversales.
Fluide corporel simulé (SBF)			Électrolyte Utilisation dans l'étude: Essais de corrosion électrochimique.
Électrolyte NaCl/H₂SO₄			Concentration non spécifiée Utilisation dans l'étude: Essais de corrosion électrochimique.
Équipement & Instrumentation
Microscope électronique à balayage (SEM)			Avec spectroscopie énergétique dispersive (EDS) Utilisation dans l'étude: Caractérisation des poudres et des substrats, analyse microstructurale, dispersion des renforts et cartographie EDS.

Références

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