Préparation de Mica et Silicon substrats pour l'ADN Origami Analyse et Expérimentation

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23 juillet 2015

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23 juillet 2015

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Michelle A. Pillers¹ , Rebecca Shute¹ , Adam Farchone² , Keenan P. Linder³ , Rose Doerfler² , Corey Gavin⁴ , Valerie Goss³ , Marya Lieberman¹

¹Department of Chemistry and Biochemistry, University of Notre Dame, ²Department of Chemical and Biomolecular Engineering, University of Notre Dame, ³Department of Chemistry, Physics, and Engineering Studies, Chicago State University, ⁴Department of Technology, Ivy Tech Community College, South Bend, Indiana

Des procédés de nettoyage reproductibles pour les substrats utilisés dans la recherche sur l’origami d’ADN sont décrits, y compris le nettoyage RCA sur paillasse et la dérivation de l’oxyde de silicium. Des protocoles pour la préparation de surface, le dépôt d’ADN en origami, les paramètres de séchage et les configurations expérimentales simples sont illustrés.