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Fabrication de canaux nanométriques incorporant l'actuation des ondes acoustiques de surface via ...
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JoVE Journal Engineering
Fabrication of Nanoheight Channels Incorporating Surface Acoustic Wave Actuation via Lithium Niobate for Acoustic Nanofluidics

Fabrication de canaux nanométriques incorporant l'actuation des ondes acoustiques de surface via le niobate de lithium pour la nanofluidique acoustique

Full Text
6,244 Views
07:23 min
February 5, 2020

DOI: 10.3791/60648-v

Naiqing Zhang1, James Friend1

1Medically Advanced Devices Laboratory, Center for Medical Devices, Department of Mechanical and Aerospace Engineering, Jacobs School of Engineering, and the Department of Surgery, School of Medicine,University of California San Diego

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Please note that some of the translations on this page are AI generated. Click here for the English version.

Nous démontrons la fabrication des canaux de nanoheight avec l'intégration des dispositifs acoustiques d'actionnement d'onde de surface sur le niobate de lithium pour la nanofluidique acoustique par l'intermédiaire de la photolithographie de décollage, de la gravure réactive d'ion de nano-profondeur, et du plasma de température ambiante liaison multicouche activée en surface du niobate au lithium monocristal, un processus tout aussi utile pour lier le niobate de lithium aux oxydes.

Notre protocole fournit une méthode de fabrication détaillée des canaux nano-hauteur incorporant l’actionnement acoustique de surface d’onde par l’intermédiaire du niobate de lithium pour les nanofluidiques acoustiques. Cette technique peut être utilisée pour effectuer la liaison multicouche active à la surface plasmatique à température ambiante du niobate de lithium cristallin unique, un processus tout aussi utile pour lier le niobate de lithium ou le dioxyde de silicium et d’autres oxydes. Tous les débris et particules doivent être enlevés pendant le nettoyage et les processus activés par la surface plasmatique afin d’éviter une défaillance de liaison dans la formation du canal de nano-hauteur.

La démonstration visuelle de cette méthode peut capturer l’ensemble du processus de fabrication en détail, ce qui donne une présentation claire du protocole pour d’autres chercheurs. Pour préparer un masque de canal nano-hauteur, placez une gaufrette inscrite avec un motif conçu pour être une photolithographie normale dans les procédures de décollage dans un système de dépôt de pulvérisateur et tirez le vide de chambre à cinq fois 10 au négatif six millitorr. Laissez l’argon couler à 2,5 millitorr et pulvériser le chrome à 200 watts pour produire un masque sacrificiel de 400 nanomètres d’épaisseur en 18 minutes.

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Ingénierie Numéro 156 acoustofluidique nanofluidique nanofabrication ondes acoustiques de surface liaison à température ambiante niobate au lithium liaison activée par plasma

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