14.4K צפיות
•
צוטט 9 פעמים
•
12:03 דק'
•
23 ביולי 2015
23 ביולי 2015
•מתוארים תהליכי ניקוי הניתנים לשחזור עבור מצעים המשמשים במחקר אוריגמי DNA, כולל ניקוי RCA על ספסל ונגזרת של תחמוצת סיליקון. מומחשים פרוטוקולים להכנת פני השטח, שקיעת אוריגמי DNA, פרמטרי ייבוש ומערכים ניסיוניים פשוטים.
Chapters in this video
0:05
Title
2:11
Depositing DNA Origami on Mica
3:35
Complimentary Metal-oxide Semiconductor (CMOS) / Silicon Cleaning Set-up
5:56
Preparing and Cleaning the Silicon Substrate
8:58
Depositing DNA Origami on APTES-functionalized Silicon
10:18
Results: Changes in Sample Coverage with Substrate Type and Solution Concentration
11:16
Conclusion
Related Videos
2026 © זכויות יוצרים MyJoVE Corporation. כל הזכויות שמורות.