Dimostrazione di generazione di travi a uguale intensità da parte di metasuperfici dielettriche

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7 giugno 2019

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Viene presentato un protocollo per la fabbricazione e la caratterizzazione ottica delle metasuperfici dielettriche. Questo metodo può essere applicato alla fabbricazione non solo di splitter di fascio, ma anche di metasuperfici dielettriche generali, come lenti, ologrammi e mantelli ottici.

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Electron Beam Lithography

Chapters in this video

0:04

Title

0:52

Deposition of Hydrogenated Amorphous Silicon (a-Si:H) on a Fused Silica Substrate by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)

1:35

Formation of the Chromium Etching Mask

6:53

Etching Process of Hydrogenated Amorphous Silicon

7:41

Results: The Fabricated Metasurface and its Polarization-independent

8:31

Conclusion

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