출처: Cvetkovic, C., et al. 인간 만능 줄기 세포의 성상세포 및 뉴런의 3D 공동 배양을 사용한 시냅스 미세 회로 모델링. J. Vis. 특급. (2018).
이 비디오는 인간 만능 줄기 세포의 전구 세포에서 천체권을 생성하는 방법을 보여줍니다. 그것은 성장 인자와 키나아제 억제제를 포함하는 영양 배지를 가진 줄기 세포의 성장과 증식을 포함합니다. 그런 다음 이 세포는 응집되어 성상세포로 분화하여 천체권을 형성합니다.
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방법 논문
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2025년 7월 8일
출처: Cvetkovic, C., et al. 인간 만능 줄기 세포의 성상세포 및 뉴런의 3D 공동 배양을 사용한 시냅스 미세 회로 모델링. J. Vis. 특급. (2018).
이 비디오는 인간 만능 줄기 세포의 전구 세포에서 천체권을 생성하는 방법을 보여줍니다. 그것은 성장 인자와 키나아제 억제제를 포함하는 영양 배지를 가진 줄기 세포의 성장과 증식을 포함합니다. 그런 다음 이 세포는 응집되어 성상세포로 분화하여 천체권을 형성합니다.
1. 세포 배양 및 시약 준비
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그림 1 : hPSC에서 파생된 3D 신경 구체의 분화 및 형성에 대한 단계적 묘사. (A) 프로토콜의 주요 단계에 대한 타임라인. (B) 인간 유도 만능 줄기 세포(hPSC)에서 순수 신경 세포 집단을 생성할 수 있습니다. 성상교세포 전구세포(점선 녹색 상자)의 생성은 2.1단계를 참조하십시오. (C) neurogenin 2의 유도된 과발현을 통해 형질전환 hPSC에서 생성된 유도성 뉴런(iNeurons, 섹션 2.2 참조)은 2D ECM(7일차)에서 뉴런 형태학을 보여주고 MAP2(삽입 사진)에 대해 양성입니다. (D) 마이크로웰 플레이트에서 제거된 구체는 고처리량 스크리닝을 위해 일관된 크기를 보여줍니다. 구체는 핵융합을 방지하기 위해 원하는 경우 스피너 플라스크 생물 반응기에서 배양 할 수 있습니다. 스케일 바 .......
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| 이름 | 회사 | 카탈로그 번호 | 댓글 |
|---|---|---|---|
| 6웰 플레이트 | 피셔 사이언티픽 | 08-772-1B | |
| 15ml 원뿔형 튜브 | Olympus 플라스틱 | 28-101 | |
| 아카쿠타아제 | 시그마 | A6964-100ML | 분리 솔루션 |
| AggreWell 플레이트 | 스템셀 기술 | 34850 | |
| Anti-Adherence 헹굼 솔루션 | 스템셀 기술 | 7010 | 마이크로웰 플레이트에 대한 세포 접착 방지 |
| 안티/안티 | 써모피셔 | 15240062 | |
| 나27 | 써모피셔 | 17504044 | 미디어 보충 자료 |
| BrainPhys 뉴런 배지 | 스템셀 기술 | 5790 | 신경생리학적 기초 매체 대안 |
| 크라이오스토어 CS10 | 스템셀 기술 | 7930 | 10% DMSO를 함유한 동결 보존 배지 |
| DMEM/F12 | 써모피셔 | 제10565-042 | GlutaMAX 보충제 함유 |
| 재질 보기 DMH-1 | 스템셀 기술 | 73634 | 위험: 삼키면 유독합니다. 작업 농도 : 2 uM |
| 독시사이클린 염산염(Dox) | 시그마 | D3072-1ml | 위험: 임산부에게 유독합니다. 작동 농도 : 2ug / mL |
| 표피 성장 인자(EGF) | 페프로텍 | AF-100-15 | 작업 농도 : 10 ng / mL |
| 섬유아세포 성장 인자-2 (FGF) | 페프로텍 | 100-18B | 작업 농도 : 10 ng / mL |
| 혈구계 또는 자동 세포 계수기 | 생명 기술 | AMQAX1000 | |
| Matrigel 멤브레인 매트릭스 | 코 닝 | 제354230 | ECM 코팅 솔루션. 작업 농도 : 80 ug / ml. 얼음 위에서 준비하고 피펫, 튜브 및 미디어가 미리 냉각되었는지 확인하십시오. |
| 마운팅 솔루션 | |||
| 엔2 | 써모피셔 | 17502048 | 미디어 보충 자료 |
| 인산염 완충 식염수(PBS) | 스템셀 기술 | CA008-300 | |
| ReLeSR | 스템셀 기술 | 5872 | 분리 및 패시에이징 시약 |
| 로키나아제 억제제 Y27632- (Y) | 토크리스 | 1254 | 작업 농도 : 10 uM |
| SB431542 | 스템셀 기술 | 72234 | 작업 농도 : 2 uM |
| T25 배양 플라스크 | Olympus 플라스틱 | 25-207 | 벤티드 캡 |
| T75 배양 플라스크 | Olympus 플라스틱 | 25-209 | 벤티드 캡 |