표준 추가 방법

1. 시약 준비

1. 100 ppm 표준 Al³⁺ 용액: 알루미늄 질산염(Al(NO₃₎₃• 9H_2O)를DI 물로 1L 체피 플라스크에 용해하십시오.
2. 8HQ 용액은 1M 아세트산(2% wt/vol): 100mL 체피 플라스크에 8-하이드록시퀴놀린 2.0 g를 추가합니다.
3. 조심스럽게 100 mL 플라스크에 5.74 mL 빙하 아세트 산을 추가 한 다음 DI 물로 마크에 희석하십시오. 이를 통해 8-하이드록시퀴놀린이 수단계에서 용해될 수 있습니다.
4. 1 M NH₄⁺/ NH₃ 버퍼 (pH ~8): 100 mL 병에 암모늄 아세테이트 (NH₄OAc)의 20 g를 추가합니다.
5. 이 100mL 병에 수산화 암모늄 의 7mL을 추가하고 DI 물로 마크에 희석하십시오. 이렇게 하면 결합될 때 8HQ 용액에서 산을 중화시키는 데 도움이 됩니다.
6. 다른 시약은 무수성 나트륨 황산나트륨(Na₂SO₄₎및 클로로폼(사양 등급)을 포함한다.

2. 샘플 준비

1. 100mL 볼륨 플라스크에 파이펫이 있는 100ppm 스톡 Al³⁺ 용액의 1.0mL를 추가하여 1.00 ppm 표준 Al³⁺ 솔루션을 준비합니다.
2. 후드에 있는 대형 링 스탠드에 있는 링에 125mL 분리 깔때기 6개를 놓습니다. BL, 0, 1, 2, 3, 4. 모든 유리 제품이 유리 제품 벽에 붙어 있는 경우 정량적 결과를 얻기 어렵기 때문에 모든 유리 제품이 꼼꼼하게 깨끗한지 확인하십시오.
3. 0, 1, 2, 3 및 4로 표시된 5개의 분리 유입경로에 알 수 없는 Al³⁺ 용액의 25.00mL를 추가합니다. 이 예에서 알 수 없는 농도는 0.110 ppm입니다.
4. 1.00-ppm 표준 Al³⁺ 용액의 0, 1.00, 2.00, 3.00 및 4.00 mL을 각각 1mL 파이펫이 있는 5개의 깔때기에 추가합니다.
5. BL이라고 표시된 세파라토리 깔때기에 증류수 25.00mL를 추가하여 공백을 준비합니다.
6. 파이펫을 사용하여 8하이드록시퀴놀린 용액의 1.0mL를 6개의 솔루션에 추가합니다.
7. 6개의 솔루션 각각에 파이펫을 사용하여 3.0mL의 버퍼 솔루션을 추가합니다.
8. 각 용액을 10mL의 클로로폼으로 두 번 추출하여 매번 1분 동안 격렬하게 흔들어 보시기 를 합니다. 때때로 압력 축적을 방출하기 위해 분리 깔때기를 배출해야합니다. (참고 : 좋은 추출은 위상 사이에 액체 액체 접촉이 많은 경우에만 이루어집니다).
9. 깨끗하고 건조한 100mL 라벨비커로 클로로폼을 수집합니다. 클로로폼은 밀도가 1.5g/cm^3에가깝기 때문에 하층이다. 완전한 추출 후 수성 상에 노란색 의 흔적이 남아 있어야합니다.
10. 각 비커에서 결합된 클로로폼 추출물을 각각 25mL 체피플라스크로 옮기고 클로로폼으로 마크에 희석한다. 모든 클로로폼이 증발하지 않도록 각 볼륨 플라스크에 스토퍼를 배치해야합니다.
11. 단계 2.9에서 6 개의 100 mL 비커 각각에 무수성 나트륨 황산나트륨 (Na₂SO_4)를1 g로 추가하십시오. 황산나트륨은 클로로폼 추출물에 존재할 수 있는 물의 흔적을 제거하는 데 도움이 됩니다.
12. 솔루션을 존경받는 비커로 다시 전송합니다. 시료의 물 탈수를 용이하게 하기 위해 조심스럽게 소용돌이치십시오.
13. 클로로폼 추출물을 석영 불소세포로 분해합니다(참고: 클로로폼은 플라스틱 폴리스티렌 세포를 용해합니다).

3. 내분 파장 선택

스캔을 실행하여 흥분 및 방출 파장을 결정한 다음 해당 값에 있는 모든 샘플의 형광 강도를 읽고 기록하기만 하면 됩니다. 여기 및 방출 대역폭은 5nm에서 미리 설정됩니다. 이 단지는 가까운 UV에서 흡수되므로 흥분 파장이 약 385 nm여야 합니다. 처음에, 방출 지점에서 500 nm에서 형광을 모니터링합니다.

1. 플루오리미터에서는 크세논 램프에 전원을 공급하기 전에 형광계의 내부 및 외부 냉각 팬이 모두 켜져 있는지 확인합니다. 크세논 램프는 매우 뜨거워지고 지속적인 냉각이 필요합니다.
2. PMT 검출기로 고전압(HV)을 400 V로 켭니다.
3. 셔터를 모두 엽니다.
4. 컴퓨터에서 데이터 수집 프로그램을 엽니다.
5. "샘플 + 2 mL 추가"(2) 용액을 석영 세포에 배치하여 최고의 여기 및 방출 파장을 결정하는 데 사용하십시오.
6. 방출 파장이 처음 500nm로 설정되어 335-435 nm에서 2 nm/s의 스캔 속도로 내분 스캔을 실행합니다.
7. 생성된 형광 플롯에서 최대 형광 흥분 파장(EXλ _max)을결정하고 계측기를 해당 값으로 설정합니다.

4. 배출 파장 선택

1. 불소 방출 파장을 450 nm로 설정합니다.
2. 450-550 nm에서 100 nm 스캔을 실행하도록 방출 파장 범위를 설정합니다.
3. 스캔을 시작하려면 불소계의 전면 패널의 "START" 버튼을 누르는 동시에 프로그램의 "평가판 시작" 버튼을 클릭합니다.
4. 생성된 형광 플롯으로부터, 최대 형광 방출 파장(EMλ_max)을결정하고 계측기를 해당 값(도2)으로설정한다.

그림 2. 최적의 EXλ_최대 및 EMλ_최대 파장을 결정합니다.

5. 샘플의 형광 측정

1. 모든 샘플은 EMλ_최대 및 EXλ_최대에서실행됩니다. 검사는 각 샘플에 대해 필요하지 않지만 이러한 조건에서형광 값만 있으면 됩니다. 가장 희석 된 샘플 (빈)로 시작하여 석영 셀에 넣고 계측기에 놓습니다. 실험실 노트북에서 형광 강도를 기록합니다.
2. 다른 모든 샘플에 대해 반복합니다.
3. 교정 차트를 만들기 전에 빈 상대 강도는 각 솔루션의 상대적 강도에서 빼야 합니다.

6. 표준 추가 플롯 만들기

1. 형광 강도 대 알^3+의 μg를 추가플롯합니다.
2. 결과 플롯의 최소 사각형 값을 결정하고 경사 및 가로채기를 모두 기록합니다.
3. Al 3+ = -b/m의 방정식 μg에서 알^3+의 μg를 알 수 없는 샘플에서 확인
4. 알 수 없는 알루미늄의 부피가 각 샘플에 25.0mL를 첨가했다는 것을 알고, 미지의 알루미늄의 농도를 결정한다.