단백질의 세포 내 국소화를 시각화하기 위한 면역 라벨링 기법

0 views • 5:04 min • July 8th, 2025

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조직 구조를 안정화시키는 카코딜레이트 나트륨 완충액으로 고정된 심장 절편을 세척하는 것으로 시작합니다. 절편을 사산화오스뮴에 담가 막 지질을 염색합니다.

염색을 위한 최적의 pH를 유지하기 위해 아세트산나트륨으로 처리하십시오.

체 분자를 염색하는 데 우라닐 아세테이트를 첨가하여 현미경 검사 중에 더 나은 대비를 제공합니다.

탄올의 농도를 증가시킨 다음 아세톤으로 조직을 탈수합니다.

조직을 레진에 매립하고 초박형 절편을 얻은 다음 현미경 그리드로 옮깁니다.

메타요오드산나트륨을 도입하여 사산화오스뮴을 제거하고 세포 단백질의 가면을 벗깁니다.

이 화합물은 또한 당단백질을 산화시켜 글리신 처리에 의해 중화되는 반응성 알데히드 그룹을 생성합니다.

비특이적 항체 결합을 방지하기 위해 차단 완충액을 도입합니다.

표적 단백질에 특이적인 1차 항체를 추가한 다음 비오티닐화된 2차 항체를 추가합니다.

비오틴에 결합하는 스트렙타비딘 접합 양자점을 추가합니다.

전자 현미경에서 양자점 표지 영역은 더 높은 대비를 나타내어 표적 단백질의 정확한 세포내 위치 파악을 돕습니다.

고정 24시간 후, 0.1몰 카코딜레이트 나트륨 완충액으로 조직을 20분 동안 2회 세척합니다. 카코딜레이트 나트륨 완충액에서 조직을 제거하고 실온에서 4시간 동안 2% 사산화오스뮴 용액에 담급니다.

삼투 후 조직을 실온에서 10분 동안 2% 아세트산나트륨 용액에 담급니다. 다음으로, 조직을 실온에서 1시간 동안 2% 우라닐 아세테이트 용액에 담급니다. 우라닐 아세테이트 염색 후, 등급이 매겨진 알코올과 아세톤을 통해 조직을 순차적으로 탈수합니다.

고에 설명된 대로 저점도 에폭시 수지에 탈수 조직을 포매합니다. 조직을 8mm 마이크로 몰드, 몰드의 신선한 레진에 넣고 밤새 섭씨 70도에서 매립된 조직을 경화시킵니다. 울트라 45도 나이프를 사용하여 관심 영역을 찾은 후 옅은 금색 초박형 절편을 제작합니다. 이 초박형 부분을 200메쉬 구리 그리드의 둔한 면에 배치합니다.

깨끗한 파라핀 필름에 20마이크로리터의 에칭 용액 메타요르산나트륨을 올려 항원의 마스킹을 해제하여 염색을 시작합니다. 조직 절편이 있는 건조된 그리드를 에칭 용액의 물방울 위에 놓습니다. 실온에서 30분 동안 용액에 섹션 그리드를 그대로 둡니다. 에칭된 조직 절편을 증류수 방울 위에 60초 동안

올려 세척합니다.

실온에서 10분 동안 0.05몰 글리신 용액 방울 위에 섹션 그리드를 놓아 잔류 알데히드를 차단합니다. 잔류 글리신 용액을 제거하기 위해 여과지에 그리드 가장자리를 닦아냅니다. 섹션 그리드를 실온에서 25분 동안 10-20마이크로리터의 차단 용액에 넣습니다.

그리드 가장자리를 여과지에 닦아내고 그리드 섹션을 항체 희석액에 올려 실온에서 10분 동안 컨디셔닝합니다. 그리드 절편을 1차 항체와 함께 가습 챔버에서 1시간 30분 동안 배양합니다. 그리드를 블롯 건조시키고 항체 희석제로 그리드 섹션을 각각 5분 동안 두 번 세척합니다.

그리드 절편을 비오티닐화된 2차 항체와 함께 가습 챔버에서 1시간 동안 배양합니다. 그리드가 블롯 건조되면 항체 희석제로 그리드 절편을 각각 5분 동안 두 번 세척합니다. 실온의 가습 챔버에서 1시간 동안 시중에서 이용 가능한 스트렙타비딘 접합 QD에서 그리드 섹션을 배양합니다. 챔버를 알루미늄 호일로 덮어 빛에 노출되는 것을 방지하십시오. 여과지를 사용하여 그리드 가장자리를 얼룩 건조시킨 후 그리드 부분을 물방울 위에 2분 동안 올려 씻은 후 그리드 가장자리를 닦아 건조시킵니다.

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Last updated: 18 July 2026