Name: Holovideo에 대한 이방성 새는 모드 변조기의 특성 (동영상) | JoVE Journal
Uploaded: 2016-03-19T15:00:00.000+00:00
Duration: 9 min 36 s
Description: 학습하세요 공간 광 변조기의 재현 가능한 특성화 방법을 통해 전자 홀로그래피에서 유도 누출 모드 전이를 식별하고 주파수 응답을 각도 출력에 매핑하는 기술을 배우세요.

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저자는 감사 공군 연구소 계약 FA8650-14-C-6571에서와 DAQRI LLC에서 재정 지원을 인정합니다.

<ol><li>Smalley, D., Smithwick, Q., Bove, V., Barabas, J., Jolly, S. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Anisotropic+leaky-mode+modulator+for+holographic+video+displays%5BTitle%5D)+AND+%22Nature%22%5BJournal%5D)">Anisotropic leaky-mode modulator for holographic video displays.</a> Nature. 498 (7454), 313-317 (2013).</li>
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</ol>

저자는 공개 아무것도 없어.

각각의 장치의 설계는 두 가지 중요한 단계, 프로톤 교환 및 LOR 개발을 갖는다. 이들의, 양자 교환 시간은 결국 누설 모드 천이 제어 가능한 주파수 대역폭, 광의 각 색마다 중요한 설계 파라미터로 유도 수를 결정 도파로의 깊이를 결정한다. 빨간색 두 가이드 모드가 요구된다. 이상이 다음에 해당하는 경우 대역폭이 희생된다. 작은 존재가 일절가 새는 모드 전환을 유도하는 경우 보장되지 않습니다. 원하는 결과를 달성하기 위해 양성자 교환 시간을 수정하는 단계 2.2.1에서 메모를 따릅니다. 적절한 LOR 개발은 적절한 발사와 인터 디지털 트랜스 듀서하여 적절한 기능을 위해 필요합니다. 그것은 최고의 경험을 통해 습득하는 단계이다. 50 % 용액은 약 35 초에서 동일 할 것이다하면서 현상 제의 비 희석 된 용액을 7 초에 트랜스 듀서의 손가락을 분출한다. 정확한 시간은 필요 생성 장치간에 다르다더 묽은 용액 반복 짧은 노출에 이어 50 % 용액에 25 초 동안 장치를 개발한다....

이러한 픽셀 화 광 밸브뿐만 아니라 MEMS 디바이스 및 벌크 파 음향 광학 변조기와 같은 대부분의 홀로 그래픽 디스플레이 기술은, 그 개발에 광범위 참여를 허용하기에 너무 복잡하다. 픽셀 화 조절, 필터 층과 활성 다시 비행기와 특히 5를 구축하는 패터닝 단계의 수십 필요할 수 있습니다 및 팬 아웃 (6)에 의해 제한 될 수 있습니다. 상기 장치의 복잡성 높은 패터닝 수가 단계 이상, 엄격한 제조 프로토콜은 적절한 디바이스 수율 7을 달성해야한다. 벌크 파 음향 광학 변조기는 기반 프로세스 8,9을 웨이퍼에 자신을 빌려하지 않습니다. 이방성 누설 모드 조절제 그러나 제조 상대적 표준 마이크로 제작 기술을 이용할 10,11 두 개의 패터닝 단계를 필요로한다. 적당한 제조 시설 어떠한 기관 (H)의 개발에 참여하는 이러한 프로세스의 액세스가 가능하게olographic 비디오 디스플레이 기술 (12). 장치의 적절한 기능을주의 깊게 측정되고, 원하는 소자 특성을 얻기 위해 조정되어야 도파로 따라 크게 의존으로 소자 제조의 단순하지만 재미있는 일 수있다. 도파가 너무 깊은 경우, 예를 들어, 장치의 동작 대역폭은 13 좁아 질 것이다. 도파관 너무 얕은 경우, 장치는 적색 조명 작동하지 않을 수있다. 도파가 너무 오랫동안 어닐링하면, 도파로의 깊이 프로파일의 형상이 왜곡되며, 적색, 녹색 및 청색 변환은 주파수 영역 (14)에 인접하게 앉을 수있다. 이 연구에서 저자는이 특성을 수행 할 도구와 기술을 제시한다. 프로톤은 니오브 산 리튬 기판 (15, 16)을 컷 X, 압전체의 표면에 indiffused 도파로 교환의 누설 모드 변조기로 구성된다. 일단도파관은 알루미늄 인터 디지털 트랜스 듀서 인의도 1 참조. 광은 프리즘 커플러 (17)를 이용하여 도파로 안으로 도입된다. 변환기는 y 축을 따라 광 도파로 contralinearly 상호 탄성 표면파 시작. 대량으로 도파관 밖으로 누출 마지막 가장자리에서 기판을 종료 새는 모드로 빛을 안내 이러한 상호 작용의 커플 (18, 19)에 직면 해있다. 이러한 상호 작용은 TM이 새는 모드 편광에 TE 편광 안내 빛의 편광을 회전합니다. 탄성 표면파 패턴 홀로그램이며, 홀로그램 스캐닝 및 이미지를 형성하는 출력 광을 형성 할 수있다. 도파관은 양성자 교환에 의해 생성된다. 먼저, 알루미늄 기판 상에 증착된다. 이어서 알루미늄 도파로 채널이 될 기판의 영역을 노출하는 포토 리소그래피 및 에칭을 패터닝한다. 나머지 알루미늄 하드의 역할마스크. 기판은 노출 된 영역에서의 표면의 인덱스를 변경 벤조산의 융액에 침지된다. 장치가 제거 및 세척 머플로에서 어닐링된다. 도파관의 최종 깊이를 누설 모드 전환의 수를 결정한다. 도파로의 깊이는, 각 색 (4)의 각 안내 투 모드 천이의 주파수를 결정한다. 알루미늄 변환기는 리프트 오프에 의해 형성된다. 도파로가 형성된 후, E-빔은 기판 상에 스핀 레지스트. 인터 디지털 트랜스 듀서는 도파관 장치의 색상을 제어하는​​ 책임이 200 MHz 대역에 응답하도록 설계된 처핑 변환기를 형성하기 위해 전자 빔을 패터닝한다. 손가락 기간 Λƒ = 손가락 기간이며, Λ V, V에 의해 결정되는, ƒ, 무선 주파수 (RF)는이고, 상기 기판의 음속이고. 트랜스 듀서는 효율적인 운영 20 75 옴 일치해야 임피던스를해야합니다. &lt;리키 모드 상호 작용으로 유도 P 클래스 = &quot;jove_content는&quot;&gt; 조명광의 다른 파장에 대해 서로 다른 주파수 및 적색, 녹색 및 청색 광 주파수 영역에서 제어 될 수있는 결과로 발생한다. 탄성 표면파 패턴이 빗형 전극에 전송되는 RF 신호에 의해 생성된다. 입력 신호의 RF 탄성 표면파 패턴의 공간 주파수로 변환. 저주파 신호가 붉은 빛의 각도 스위프 및 진폭을 조절하도록 중간 주파수 그린 광을 제어하고 고주파 청색광을 제어하면서 도파로가 제조 될 수있다. 저자들은 이러한 상호 작용의 세 가지 주파수 영역에서 분리되고 인접되도록 도파로 파라미터 세트를 식별 그래서 3 색은 범용 그래픽 처리 장치의 최대 대역폭 (단일​​ 200 MHz의 신호에 의해 제어 될 수 있다는 GPU를). GPU를 채널의 대역폭을 일치하여새는 모드 변조기의에, 시스템이 완전히 병렬 및 확장 성이 뛰어난된다. 의 GPU 및 누설 모드 변조기 채널의 대역폭이 일치하는 쌍을 추가함으로써, 하나는 임의의 크기의 홀로그램 디스플레이를 구성 할 수있다. 장치를 만든 후, 그것을 신중하게 안내 - 투 - 누설 모드 전환을위한 주파수 색상의 주파수 제어에 적합한 지 확인하는 것을 특징으로한다. 우선, 가이드 모드의 위치는 도파로 적절한 깊이와 가이드 모드 중 정확한 번호가 있는지 확인 상업적 프리즘 커플러에 의해 결정된다. 장치가 장착되고 패키지 된 후,이어서, 이들은 스캔 출력 광의 입력 주파수 매핑 정의 프리즘 커플러에 배치된다. 결과 데이터는 주파수 응답 및 입력 장치가 테스트 될 때까지 적색, 녹색 및 청색 광에 대한 각 출력 응답을 준다. 장치가 올바르게 조립되어있는 경우, 디바이스 입력 응답이 분리 될주파수 및 출력 응답은 각도 중첩 될 것이다. 이것이 확인되면, 상기 장치는 홀로 그래픽 비디오 디스플레이에 사용하기위한 준비가되어있다. 기기가 포장되기 전에 첫 번째 측정이 일어난다. 도파관 깊이 상업적 프리즘 커플러에 의해 결정된다. 이것은 단지 하나의 조명 파장이 달성 될 수있다 (일반적으로 632 nm의 적색)하지만 저자는 적색, 녹색 및 청색 광에 대한 모드 정보를 수집 할 수 있도록 상업 프리즘 커플러를 수정했다. 패키징 한 후, 장치는 RF 입력의 함수로서 편향된 출력 광 기록 맞춤 프리즘 커플러의 두 번째 측정을 거친다. 이러한 측정의 상세한 설명은 다음과 같다. 제조 단계도 제공됩니다.

<table><tbody><tr><td>X-Cut 리튬 니오베이트</td><td>Gooch 및 Housego</td><td>99-00630-01</td><td>리튬 니오베이트 3&Prime; 직경 X-CUT 웨이퍼 1&nbsp; mm Polish /</td></tr><tr><td>Polish Positive Photo Resist 1</td><td>EMD Performance Materials</td><td>AZ 3330 F 포토 레지스트</td> 양성<td>자 교환 마스크 제작에 사용</td></tr><tr><td>Photoresist Developer</td><td>EMD Performance Materials</td><td>AZ MIF 300</td><td>AZ3330 및 LOR 3A</td></tr><tr><td>알루미늄</td><td>국제 고급 재료</td><td>AL13</td><td>99.999 % 순수</td></tr><tr><td>알루미늄 에칭</td><td>Transene</td><td>Type A 알루미늄 개발 에칭</td><td></td></tr><tr><td>벤조산</td><td>시그마 Aldrich</td><td>109479-500G</td><td>99 % 순수</td></tr><tr><td>아세톤</td><td>피셔 화학</td><td>UN1009</td><td></td></tr><tr><td>IPA</td><td>피셔 화학</td><td>UN1219</td><td>99.5 % 순수 이소 프로필 알코올</td></tr><tr><td>산성 피라냐 에칭</td><td>Cyantek Corperation</td><td>나노 스트립</td><td></td></tr><tr><td>레이어 레지스트</td><td>Micro Chem</td><td>LOR 3A</td><td>바닥 레이어 liftoff</td></tr><tr><td>Positive Photo Resist</td><td>Micro Chem</td><td>950 PMMA A9</td><td>리프트오프에 사용되는 최상층</td></tr><tr><td>Anisole</td><td>Micro Chem</td><td>A 희석제</td><td></td></tr><tr><td>전도성 고분자 수용액</td><td>Mitsubishi Rayon Company</td><td>AquaSAVE</td><td></td></tr><tr><td>MIBK(4-methyl-2-pentanone)</td><td>Sigma Aldrich</td><td>360511</td><td>PMMA</td></tr><tr><td>NMP(1-methyl-2-pyrrolidone)</td><td>Sigma 개발 Aldrich</td><td>328634</td><td>이륙</td></tr><tr><td>E-beam 증발기에 사용됩니다&nbsp;</td><td>덴튼 진공&nbsp;</td><td>무결성 20</td><td>이에 상응하는 장비라면 충분합니다.</td></tr><tr><td>박막 스피너</td><td>Laurell Technologies Corporation</td><td>WS-400A-6NPP-LITE</td><td>이와 동등한 장비로 충분합니다.</td></tr><tr><td>마스크 얼라이너&nbsp;</td><td>칼 서스 아메리카 Inc.</td><td>MA 150 CC</td><td>동등한 장비로 충분합니다.</td></tr><tr><td>자동 다이싱 톱&nbsp;</td><td>디스코 코퍼레이션</td><td>디스코 아빠 320</td><td>이에 상응하는 장비라면 충분합니다.</td></tr><tr><td>머플 퍼니스</td><td>Thermo Scientific</td><td>FB1415M</td><td>이와 동등한 장비로 충분합니다.</td></tr><tr><td>전자 현미경</td><td>FEI</td><td>XL30 ESEM</td><td>동등한 장비로 충분합니다.</td></tr><tr><td>탈수 오븐</td><td>실험실 라인 기기&nbsp;</td><td>울트라 클린 100&nbsp; (3497M-3)</td><td>이에 상응하는 장비라면 충분합니다.</td></tr><tr><td>핫 플레이트</td><td>: Thermo Scientific</td><td>SP131325</td><td>동등한 장비로 충분합니다.</td></tr><tr><td>폴리셔</td><td>울트라 텍 Mfg., Inc.</td><td>울트라폴 엔드 & 엣지 폴리셔</td><td>: 이에 상응하는 장비로 충분합니다.</td></tr><tr><td>클래스 IIIb 12&nbsp; V RBG 레이저: 파장(nm): 638, 532, 445</td><td></td><td></td><td>중고로 구입했습니다. 아마도 레이저 프로젝터에서 가져온 것 같습니다. 이에 상응하는 장비라면 충분합니다.</td></tr><tr><td>신호 발생기</td><td>Agilent</td><td>8648D</td><td>를 키사이트에서 찾을 수 있습니다. 되지 않는. 이에 상응하는 장비라면 충분합니다. 필요한 주파수 스윕 9kHz-1,000MHz.</td></tr><tr><td>신호 증폭기</td><td>미니 회로</td><td>TB-17</td><td>신호 발생기의 한계를 극복하기 위해서만 필요합니다.</td></tr><tr><td>파워 미터 컨트롤러</td><td>ThorLabs</td><td>PM100D</td><td>파워 미터 모델 S130C. 이에 상응하는 장비라면 충분합니다. 필요한 감도 500&nbsp; 포로.</td></tr><tr><td>리니어 액츄에이터 컨트롤러</td><td>Newport</td><td>ESP7000</td><td>리니어 액츄에이터 모델 MFN25PP 포함. 이에 상응하는 장비라면 충분합니다. 0.1 필요&nbsp; mm 정확도.</td></tr><tr><td>AutomatedDeviceCharacterization.vi&nbsp;</td><td>부록에 있는</td>BYU의 <td>LabView</td><td>실험 제어 소프트웨어</td></tr><tr><td>CompareWDMmodes.m</td><td>BYU의 MATLab</td><td>분석 소프트웨어</td><td>부록에 있음</td></tr></tbody></table>

holovideo에 대한 이방성 새는 모드 변조기의 특성

Characterization of Anisotropic Leaky Mode Modulators for Holovideo

홀로비디오 디스플레이는 빛을 굴절시키는 공간 광 변조기를 기반으로 합니다. 이러한 공간 광 변조기 중 하나는 이방성 누설 모드 변조기입니다. 이 변조기는1-3을 제조하는 것이 비교적 간단하고 저렴하기 때문에 홀로그램 비디오 실험에 특히 적합합니다. leaky mode 장치의 몇 가지 추가 이점으로는 큰 집계 대역폭, 신호광과 노이즈의 편광 분리, 큰 각도 편향 및 색상1의 주파수 제어가 있습니다. 이러한 장점을 실현하기 위해서는 이러한 장치의 작동이 도파관 및 변환기 매개 변수4에 크게 의존하기 때문에 이러한 장치를 적절하게 특성화 할 수 있어야합니다. 변조기를 특성화하기 위해 저자는 상용 프리즘 커플러와 맞춤형 특성화 장치를 사용하여 유도 모드를 식별하고 도파관 두께를 계산하며 마지막으로 장치의 주파수 입력 및 누출 모드 변조기의 각도 출력을 매핑합니다. 이 작업은 풀 컬러 홀로그램 비디오에 적합한 리키 모드 변조기의 측정 및 특성화에 대한 자세한 설명을 제공합니다.

프로토콜의 원리의 결과는 상기도 2에서, 단일 주파수에 나타낸 상업적 프리즘 커플러로부터 유도 모드로 측정하며, 상기 커스터마이즈 프리즘 커플러로부터 수집 된 원시 입력 / 출력 데이터는도 8에 도시 다색 곡선은도 9에 도시. 다음 단락에서 우리는 이러한 출력의 각에 의해 생성 된 실행 가능한 정보에 대해 설명합니다. 상업적 프리즘 커플러로부터 수집 도파 모드 정보 도파로의 깊이를 설정하기 위해 주로 사용되지만, 모드의 수와 간격은 누설 모드 동작에 관련된 다른 유용한 정보를 포함한다. 설계로 새는 모드 장치가 작동하려면, 그것은 모든 색상 가이드 - 투 - 누설 모드 전환을해야하며, 각 Illumina 사에 대해 적어도 두 개의 가이드 모드가 존재하는 경우 실험은 사실...

이 작업은 홀로그램 비디오용 이방성 누출 모드 변조기의 제작 및 특성화를 설명합니다.

Holovideo에 대한 이방성 새는 모드 변조기의 특성

Holovideo displays are based on light-bending spatial light modulators.  One such spatial light modulator is the anisotropic leaky mode modulator.  This ...

본 절차의 전반적인 목표는 주파수 응답을 각도 출력에 매핑함으로써 공간 광 변조기를 재현 가능하게 특성화하는 것입니다. 이 방법은 도파 리키 모드(guided leaky mode) 전이 식별 및 최적화 요구 사항과 같이 전자 홀로그래피 분야의 핵심 질문에 답하는 데 필요한 필수 데이터를 제공하는 데 도움이 됩니다. 이 기술의 주요 장점은 리키 모드 전이를 명확하게 구분하며, 그 선형성, 상대 강도, 각도 확산 및 작동 주파수에 대한 반복 가능한 정보를 빠르게 얻을 수 있다는 점입니다.정렬과 프리즘 결합 모두 설명하기 어려운 시각적 단서에 의존하므로, 이 과정에 대한 시각적 시연이 매우 중요합니다. 장치를 특성화하려면 먼저 무선 주파수(RF) 브레이크아웃 보드에 장착할 준비를 하십시오. 장치, RF 브레이크아웃 보드, 그리고 장착 플랫폼을 만들기 위한 유리 슬라이드 3개를 준비합니다.슬라이드 하나가 다른 두 개보다 더 큽니다. 이 슬라이드가 U자형 플랫폼의 바닥 부분이 됩니다. 가장 큰 슬라이드부터 작업을 시작하십시오.슬라이드의 가장 긴 변 중 왼쪽 4분의 1 지점에 강력접착제를 충분히 도포합니다. 그다음, 작은 슬라이드의 가장 긴 변이 첫 번째 슬라이드의 가장 긴 변과 수직이 되도록 배치합니다. 두 슬라이드의 왼쪽 가장자리를 맞추어 왼쪽 하단 모서리가 겹치도록 정렬합니다.슬라이드들을 서로 맞닿게 놓은 뒤, 접착제가 굳을 때까지 슬라이드에 일정하고 강한 압력을 가합니다. 오른쪽 면에 대해서도 동일한 단계를 반복합니다. 이렇게 하면 U자형 구조가 형성됩니다.장치를 고정하려면 U자 중앙의 플랫폼에 양면테이프를 부착하십시오. 이제 특성을 분석할 누설 모드 변조기(leaky mode modulator)를 준비합니다. 장치의 양 끝단이 연마되어 사용 가능한 상태인지 확인하십시오. 그다음, 플랫폼에 부착된 테이프 위에 장치를 올리십시오.장치의 끝부분이 광 경로를 방해하지 않도록 장착 플랫폼의 끝단 밖으로 돌출되게 설치하십시오. 이 단계에서 RF 브레이크아웃 보드를 장착합니다. 브레이크아웃 보드는 장치에서 나오는 빛의 빔 경로에 놓이지 않도록 설치하십시오.다음 단계는 와이어 본딩입니다. 이것은 와이어 본딩을 마친 소자와 브레이크아웃 보드의 모습입니다. 이제 소자로 빛을 입사시킬 적절한 프리즘을 선택하고, 소자와 접촉할 표면을 이소프로필 알코올로 세척하십시오.또한, 장치의 접촉면을 세척하십시오. 그 다음, 테스트할 장치 채널의

characterization-of-anisotropic-leaky-mode-modulators-for-holovideo

Research

연구

JoVE Journal

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높은 감도 광자 마이크로 센서는 전기장 감지하기 위해 개발되었습니다. 센서는 유전체 영역의 광학 모드를 이용하는. 외부 전기장 교란의 광학 모드의 변화로 이어지는 영역의 형태의 변화. 전기장 강도는 이러한 광학 변화를 모니터링하여 측정됩니다.

갤러리 모드 고분자 마이크로 광 전기장 센서 글린의 개발

우리는 MEMS 장치의 검사 및 특성화를위한 소형 반사 디지털 홀로 그래픽 시스템 (CDHM)을 제시한다. 자연의 기하학적 배율을​​ 제공 발산 입력 파를 사용하는 렌즈없는 디자인이 설명된다. 모두 정적 및 동적 연구가되게됩니다.

MEMS 검사 및 특성화를위한 소형 렌즈가없는 디지털 홀로그램 현미경

사전 조정된 비선형 편광 회전 파이버 레이저에서 모드 잠금을 감지하고 자동화하는 프로토콜이 제시됩니다. 모드 잠금이 발생할 때 출력 편광 상태의 급격한 변화를 감지하는 것은 모드 잠금 조건을 찾기 위해 캐비티 내 편광 컨트롤러의 정렬을 명령하는 데 사용됩니다.

출력 편광 측정을 통해 비선형 편광 회전 광섬유 레이저의 모드 잠금의 자동화

다층 미세유체 장치는 종종 기능을 위해 복잡한 형상을 가진 마스터 금형의 제작을 포함합니다. 이 기사에서는 모든 응용 분야에 맞게 조정할 수 있는 밸브 및 가변 높이 기능을 갖춘 다단계 포토리소그래피를 위한 완벽한 프로토콜을 제시합니다. 시연으로, 우리는 하이드로겔 비드를 생산할 수 있는 미세유체 액적 발생기를 제작합니다.

판막 다층 미세 유체 장치에 대한 여러 단계의 변수 높이 포토 리소그래피

우리는 단일 공간 광 변조기를 사용하는 파면 형성을 사용하여 다중 모드 광섬유를 통해 여러 개의 독립적인 신호를 전송하는 것을 보여줍니다. 각 신호에 대한 파면을 개별적으로 변조함으로써 공간적으로 분리된 초점이 전송됩니다. 잠재적인 응용 분야로는 통신 엔지니어링의 다중화 데이터 전송과 바이오포토닉스의 내시경 광 전달이 있습니다.

파면 정형을 이용하여 광섬유를 통해 다중 신호 전송

레이저 도플러 신발 (LDV), 튜닝, 튜닝 기능, 및 장치 실패 및 stiction, 회피의 수정 하는 주파수 측정을 포함 하 여를 사용 하는 고정-고정 빔 디자인에 대 한 프로토콜 제공 됩니다. 네트워크 분석기를 통해 LDV 방법의 우수성 때문에 그것의 더 높은 모드 기능 시연입니다.

설계 및 효율적인 넓은 범위 가변 MEMS 필터 특성 방법론

우리는 단일 위상 요소를 사용 하 여 레이저 광선의 복잡 한 필드를 인코딩하는 방법을 보여 줍니다. 공통 경로 간섭계는 위상 전용 공간 가벼운 변조기 마침내 광학 이미징 시스템의 출력에서 원하는 복잡 한 필드 패턴을 검색 하로 표시 되는 단계 정보를 혼합 채택 된다.

진폭 및 위상 레이저 광선의 위상 전용 공간 가벼운 변조기를 사용 하 여 형성

반사 cholesteric 액체 크리스탈 디스플레이 장치를 포함 하는 산화 환 원 반응 키 랄도 펀트 신속 하 고 저전압 동작이 표시의 제조에 대 한 프로토콜.

전기 화학 Cholesteric 액체 결정 장치를 신속 하 고 낮은 전압 색깔 변조에 대 한

리튬 니오바테상 플레이트 전극의 직류 스퍼터링을 통한 압전 두께 모드 트랜스듀서의 제조가 설명된다. 또한, 트랜스듀서 홀더와 유체 공급 시스템으로 안정적인 작동을 달성하고 특성화는 임피던스 분석, 레이저 도플러 진동, 고속 이미징 및 레이저 산란을 이용한 액적 크기 분포를 통해 입증된다.

원자화 및 부동 유체학을 위한 두께 모드 압전 장치의 제조 및 특성화

우리는 스핀 및 방향 멀티플렉스 가시 대사장의 제조를위한 프로토콜을 제시한 다음 광학 실험을 수행하여 기능을 확인합니다. 이러한 메타홀로그램은 인코딩된 정보를 쉽게 시각화할 수 있으므로 프로젝션 볼륨 디스플레이 및 정보 암호화에 사용할 수 있습니다.

스핀 멀티플렉스 및 방향 멀티플렉션 된 모든 유전체 가시 메타 홀로그램의 데모

이 기사에서는 설계에서 제조, 특성화에 이르기까지 질화규소 멤브레인 공진기의 수명 주기를 추적합니다.

High-Q 질화규소 멤브레인 공진기의 제작 및 특성화

학습하세요 공간 광 변조기의 재현 가능한 특성화 방법을 통해 전자 홀로그래피에서 유도 누출 모드 전이를 식별하고 주파수 응답을 각도 출력에 매핑하는 기술을 배우세요.

Holovideo에 대한 이방성 새는 모드 변조기의 특성

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