Skupione wiązki jonów

1. Wykonanie perforowanego filtra z membrany z tlenku krzemu o grubości 300 nm, porównywalnej pod względem skali do cytoplazmy śródbłonka nerek

1. Załaduj tak przygotowaną membranę do komory FIB. Membrany są często przygotowywane przez profesjonalistów (podczas tworzenia mostów Wheatstone'a) i można je nabyć w zakładach produkujących półprzewodniki. Aby przygotować go samodzielnie, należy użyć fotolitografii. Szczegóły tego procesu można zobaczyć na filmie fotolitograficznym "Bioengineering Collection" na stronie internetowej JoVE. UWAGA: Należy pamiętać o noszeniu rękawic nitrylowych podczas obchodzenia się z próbką lub w przypadku kontaktu z jakimikolwiek wewnętrznymi elementami FIB/SEM. Środowisko musi być utrzymywane w czystości i wolne od wszelkich olejków skórnych.
2. Włącz skupioną wiązkę jonów i działo elektronowe i wyreguluj próbkę, aby uzyskać punkt zbieżności eucentrycznej. Jest to punkt, w którym obszar zainteresowania (membrana) znajduje się w linii elektronów i jonów dla kątów nachylenia w zakresie 0-54 stopni.

3. Dostosuj prąd wiązki jonów i napięcie przyspieszające FIB do 30 kV i 100 pA i skup się na obszarze blisko obszaru, który ma być frezowany. Narysuj matrycę okręgów za pomocą programu do mielenia FIB o średnicy około 50 nm z odległością od środka do środka 150 nm (patrz Rysunek 1).
4. Zmień na wiązkę elektronów i zobrazuj obszar przy przyspieszającym napięciu 5 kV.

Rysunek 1: FIB wyfrezował otwory w membranie z tlenku krzemu, tworząc filtr cząstek.

2. Frezowanie logo na włosie

1. Połóż pasmo włosów na kikutach mikroskopu za pomocą taśmy węglowej
2. Złoto/Węgiel pokryj pasmo włosów za pomocą napylarki. To narzędzie pokrywa próbkę materiałem przewodzącym o grubości kilku nanometrów, dzięki czemu można ją obrazować/napylać przy minimalnych artefaktach ładowania.
3. Włącz skupioną wiązkę jonów i działo elektronowe i dostosuj do punktu zbieżności eucentrycznej.
4. Dostosuj prąd wiązki jonów i napięcie przyspieszające odpowiednio do 30 kV z aperturą 100 pA i skup się na obszarze o wymiarach około 15um x 15um w pobliżu obszaru, który ma być frezowany.
5. Załaduj wzór/logo do frezowania jako bitmapę i dostosuj prąd wiązki oraz napięcie przyspieszające, a następnie rozpocznij frezowanie.
6. Zmień na wiązkę elektronów i zobrazuj obszar. Jest to pokazane na Rysunek 2.

Rysunek 2: "Wesołych Świąt" wyfrezowany na pajęczyny z FIB.