10.8
Контакт между металлом и полупроводником образует переход с поведением Шоттки или омическим поведением.
Если рабочая функция металла превышает рабочую функцию полупроводника, образуется переход Шоттки. Перед контактом диаграммы энергетических зон выравниваются на уровне вакуума, при этом уровни Ферми находятся в разных положениях.
При контакте уровни Ферми выравниваются по мере того, как электроны переходят от полупроводника к металлу, достигая равновесия.
Потери электронов в полупроводниках уменьшают его потенциал, в то время как их присоединение к металлу увеличивает потенциал, образуя барьер Шоттки на стыке. Высота барьера равна разнице между рабочей функцией металла и электронным сродством полупроводника.
Разность потенциалов на переходе препятствует переносу электронов от полупроводника к металлу и определяется разницей в их рабочих функциях.
Если рабочая функция металла меньше, чем у полупроводника, образуется омический переход. Здесь уровни Ферми выравниваются по мере переноса электронов из металла в полупроводник.
Такое выравнивание повышает энергию электронов полупроводника относительно металла, позволяя электронному потоку от полупроводника к металлу. Таким образом, омический переход проводит ток в обоих направлениях.
Контакт металла и полупроводника может привести к образованию перехода либо с поведением Шоттки, либо с омическим поведением.
Барьеры Шоттки
Барьеры Ш…
© 2026 MyJoVE Corporation. Все права защищены.