Name: Yüksek Verimli Kriyojenik Elektron Mikroskobu için Kontrollü Kalınlığa Sahip Mikro Desenli Çip İmalatı (Video) | JoVE Journal
Uploaded: 2022-04-21T13:40:00.000+00:00
Duration: 7 min 20 s
Description: Keşfedin, MEMS teknikleriyle üretilen mikro desenli çiplerin kriyojenik elektron mikroskobu için biyomoleküllerin yüksek verimli görüntülenmesini nasıl geliştirdiğini. Bu yöntem ilaç keşfi ve nanoteknoloji araştırmalarına katkı sağlar.

ai_agent_IP

ai_agent

maintenance

instantTrialDurationMinutes

isBiopharma

enableNewMyJoveSectionDesign

educationFeatures

seoMetaApi

ai_copilot_institution_blacklist

ai_chat_institution_blacklist

freeAccessWindow

ssoRoleCapture

scheduledMaintenanceBanner

joveLabsFeatures

disable_autoplay_for_bots

extended_trial_duration

5 minutes

M.-H.K., S.K., M.L. ve J.P., Temel Bilimler Enstitüsü'nün mali desteğini kabul etmektedir (Hibe No. IBS-R006-D1). S.K., M.L. ve J.P., Seul Ulusal Üniversitesi (2021) aracılığıyla Yaratıcı-Öncü Araştırmacılar Programı'nın finansal desteğini ve Kore hükümeti tarafından finanse edilen NRF hibesini (MSIT; Hibe No. NMG-2020R1A2C2101871 ve NMG-2021M3A9I4022936). M.L. ve J.P., POSCO TJ Park Vakfı'nın POSCO Bilim Bursu'nun mali desteğini ve Kore hükümeti tarafından finanse edilen NMK hibesini (MSIT; Hibe No. NMG-2017R1A5A1015365). J.P., Kore hükümeti (MSIT; Hibe No. NMK-2020R1A6C101A183) ve Seul Ulusal Üniversitesi Mühendislik Fakültesi ve Tıp Fakültesi tarafından Disiplinlerarası Araştırma Girişimleri Programları (2021). M.-H.K., Kore hükümeti (MSIT; Hibe No. NMG-2020R1I1A1A0107416612). Yazarlar, Seul Ulusal Üniversitesi Makromoleküler ve Hücre Görüntüleme Merkezi (SNU CMCI) personeline ve ekibine, kriyo-EM deneyleri ile yorulmak bilmeyen çabaları ve azimleri için teşekkür eder. Yazarlar, FIB-SEM deneylerine yardım için Ulusal Üniversitelerarası Araştırma Tesisleri Merkezi'nden S. J. Kim'e teşekkür ediyor.

1. GO pencereli mikro desenli çip imalatı (Şekil 1)
<ol><li>Silisyum nitrürü biriktirin.<ol><li>830 ° C'de düşük basınçlı kimyasal buhar biriktirme (LPCVD) ve 150 mTorr basınç kullanarak, 170 sccm diklorosilane (SiH2Cl2, DCS) ve 38 sccm amonyak (NH3) akışı altında Si gofretin her iki tarafında (4 inç çapında ve 100 μm kalınlıkta) düşük gerilimli silikon nitrür (SixNy) biriktirin.</li>
		<li>~30 Å/dak biriktirme hızı kullanarak, biriktirme süresini değiştirerek SixNy kalınlığını 25-100 nm aralığında olacak şekilde kontrol edin. NOT: Si gofret kullanılırken çok dikkatli olunmalıdır çünkü gofret çok ince ve kırılgandır. Gofretin taşınması veya ekipmana yüklenmesi sırasında bükülmemesine dikkat edin.</li>
	</ol></li>
	<li>Fotodirenci desenleyin.<ol><li>Gofretin tüm yüzeyini kaplayacak kadar hacimli SixN y-birikmiş Si gofret üzerine bir hekzametildikolayaz (HMDS) çözeltisi uygulayın, 30 s için 3.000 rpm'de bir spin kaplayıcı ile spin kaplama yapın ve gofret yüzeyini hidrofobik hale getirmek ve böylece fotodirenç (PR) ile iyi bir kaplama performansı sağlamak için bir sıcak plaka üzerinde 30 sn için 95 ° C'de pişirin.</li>
		<li>Gofretin tüm yüzeyini kaplayacak kadar hacimli pozitif PR (Malzeme Tablosu) uygulayın, 30 sn için 3.000 rpm'de spin kat yapın ve bir sıcak plaka üzerinde 90 s boyunca 100 °C'de pişirin. Spin kaplı PR 500 nm kalınlığa sahiptir.</li>
		<li>PR kaplı gofreti, bir hizalayıcı kullanarak bir krom maskesi (Şekil 2A-D) aracılığıyla 5 s boyunca ultraviyole ışıkla (365 nm dalga boyu ve 20 mW/cm2 yoğunlukta) pozlayın.</li>
		<li>Bir geliştirici (Malzeme Tablosu) kullanarak PR'ı 1 dakika boyunca geliştirin ve gofreti 2x deiyonize (DI) suya batırarak durulayın. PR desenli gofreti, N2 gazını gofret yüzeyine üfleyerek tamamen kurutun. NOT: Gofret çok ince ve kırılgan olduğu için Si gofrete N2 gazı üflenirken çok dikkatli olunmalıdır. N2 gazını gofrete dik bir yönde yüksek basınçla üflemeyin, çünkü bu gofretin kırılmasına neden olabilir.</li>
	</ol></li>
	<li>SixN y deseniniyapın.<ol><li>PR'nin modellenmesini takiben, 50 W'lık bir radyofrekans (RF) gücünde 3 sccm kükürt hekzaflorür (SF6) gazı ile laboratuar yapımı bir reaktif iyon kazıyıcı (RIE) kullanarak maruz kalan SixNy'yi aşındırın. Bu ayarlarla aşındırma hızı ~6 Å/s'dir. Kazıma süresini, biriken SixNy tabakasının kalınlığına bağlı olarak ayarlayın. NOT: Aşındırma oranı, kullanılan RIE ekipmanının özelliklerine bağlı olarak değişebilir ve laboratuvar içi optimizasyona ihtiyaç duyabilir.</li>
		<li>SixNy desenli gofreti oda sıcaklığında 30 dakika boyunca asetona batırarak PR'ı ortadan kaldırın, ardından gofreti 2x DI suya batırarak durulayın. Gofret yüzeyine N2 gazı üfleyerek gofreti tamamen kurutun. NOT: Gofret daldırılırken veya çözeltilerden çıkarılırken çok dikkatli olunmalıdır, çünkü gofret çözeltinin yüzey gerilimi ile kırılabilir. Gofreti çözeltinin yüzeyine paralel olarak batırmayın veya çıkarmayın. Karbon fiber uçlu hassas gofret taşıma cımbızları kullanın. Gofreti cıvıl cıvıl ile kuvvetlice tutmayın; Gofret çözeltiden çıkarılabileceği bir açıya eğilene kadar gofretin bir tarafını kaldırın. Gofret, kaldırma sırasında sıkı kavrama nedeniyle büküldüğünde kırılabilir.</li>
	</ol></li>
	<li>Si'yi kazıyın.<ol><li>KOH tozunu 80 °C'de DI suda çözerek 1,5 M potasyum hidroksit (KOH) çözeltisi hazırlayın.</li>
		<li>Açıkta kalan Si'yi kazımak için Si x N y desenli gofreti KOH çözeltisine batırın. Desenli Six Ny'nin karşı tarafında bağımsız duran SixNy pencereleri gözlemlenene kadar gofreti karıştırarak çözeltinin içinde bırakın. NOT: Islak aşındırma süresi, Si'nin kalınlığına bağlı olarak değişebilir; 100 μm kalınlığında bir gofret için, ıslak aşındırma normalde birkaç saat sürer. Si aşındırma sırasında karıştırma hızını çok yükseğe ayarlamayın, çünkü bağımsız SixNy pencereleri çok incedir ve sıvının akışıyla kırılabilir. Bu deneyde, karıştırma hızı 250 rpm'ye ayarlandı.</li>
		<li>Aşındırma kalıntılarını ortadan kaldırmak için kazınmış gofreti bir DI su banyosuna birkaç kez batırarak temizleyin. Gofreti havada kurutun. NOT: Si desenli gofreti çözeltilerden daldırırken veya çıkarırken çok dikkatli olunmalıdır, çünkü bağımsız SixNy pencereleri çok ince ve kırılgandır ve çözeltinin yüzey gerilimi ile kırılabilir. Gofret, gofret kenarı önce çözeltiye girip çıkacak şekilde bir açıyla daldırılmalı veya çıkarılmalıdır.</li>
	</ol></li>
	<li>KOH aşındırma kalıntılarını ortadan kaldırın.<ol><li>Mikro desenli olacak bir çip dizisi elde etmek için çip dizisinin sınırlarını bir cımbızla hafifçe bastırın (Şekil 1B).</li>
		<li>Karıştırarak 80 °C'de 1,5 M KOH çözeltisi hazırlayın.</li>
		<li>Talaş dizisini 30 s boyunca KOH çözeltisine batırın ve 2x DI suya batırarak durulayın. N2 gazı üfleyerek talaşları tamamen kurulayın. NOT: Talaşları çözeltilere batırırken ve N 2 gazı ile üfleyerek kuruturken çok dikkatli olunmalıdır, çünkü bağımsız SixNy pencereleri çok ince ve kırılgandır. Talaş KOH çözeltisine daldırılırken, karıştırma durdurulmalıdır. Talaşlar önce kenarları çözeltiye dik yönde daldırılmalı ve paralel yöndeN2 gazı ile üflenmelidir.</li>
		<li>Talaş dizisini havada en az 1 saat boyunca tamamen kurutun.</li>
	</ol></li>
	<li>PR'yi desenleyin.<ol><li>Sağlam destek olarak boş bir 525 μm Si gofret hazırlayın. Yukarıda açıklandığı gibi Si gofretini HMDS ve pozitif PR ile döndürün, ancak PR'yi pişirmeden önce çip dizisini (serbest duran SixNy pencere tarafı yukarı doğru) Si gofrete takın. PR, gofret ve çip dizisi arasında bir yapıştırıcı görevi görür. Talaş dizisine bağlı Si gofreti, sıcak bir plaka üzerinde 90 s boyunca 100 ° C'de pişirin.</li>
		<li>Yukarıda açıklandığı gibi çip setini HMDS ve pozitif PR ile kaplayın.</li>
		<li>Çip setini ultraviyole ışıkla (365 nm dalga boyu; 20 mW/cm2 yoğunluk) bir hizalayıcı kullanarak bir krom maskesi (Şekil 2E,F) aracılığıyla 5 s boyunca pozlayın.</li>
		<li>PR'yi 15 sn için bir geliştirici kullanarak geliştirin, çip setini DI suya 2x batırarak durulayın ve PR desenli çip setiniN2 gazı üfleyerek tamamen kurutun.</li>
	</ol></li>
	<li>Mikro desenli SixNy'yi hazırlayın.<ol style="margin-left: 40px;"><li>Etch SixNy, laboratuvar yapımı bir RIE kullanarak PR desenlemesini takiben, 50 W'lık RF gücünde 3 sccm SF6 gazı ile.</li>
	</ol></li>
	<li>PR'ı ortadan kaldırın.<ol><li>Desenli çip setini 60 ° C'de 1-metil-2-pirolidinon (NMP) çözeltisine batırarak ve gece boyunca bırakarak PR'yi ortadan kaldırın. Talaş setini 2x DI suya batırarak durulayın ve Desenli talaş setiniN2 gazı üfleyerek tamamen kurulayın.</li>
		<li>Laboratuvarda üretilen Rie ile 150 W RF gücünde 100 sccm O2 gazı kullanarak 1 dakika boyunca PR kalıntılarını birO2 plazma prosesi ile ortadan kaldırın.</li>
	</ol></li>
	<li>Mikro desenli çipi durulayın.<ol><li>80 °C'de 1,5 M KOH çözeltisi hazırlayın.</li>
		<li>PR kalıntılarını tamamen ortadan kaldırmak için mikro desenli cipsleri 30 sn boyunca KOH çözeltisine batırın ve cipsleri 2x DI suya batırarak durulayın. N2 gazı üfleyerek talaşları tamamen kurulayın.</li>
		<li>Talaşları havada en az 1 saat boyunca tamamen kurutun.</li>
	</ol></li>
	<li>Grafen oksidi (GO) damla döküm yöntemiyle aktarın.<ol><li>GO çözeltisini (2 mg / mL) DI su ile 0.2 mg / L'ye seyreltin ve GO tabakalarının agregalarını parçalamak için 10 dakika boyunca sonikasyon yapın. Seyreltilmiş GO çözeltisini 30 s için 300 x g'de santrifüj edin.</li>
		<li>Kızdırma, mikro desenli çipin Si kazınmış tarafını boşaltarak çip yüzeyini 1 dakika boyunca 15 mA'da bir kızdırma boşaltıcısı (Malzeme Tablosu) kullanarak pozitif şarjla oluşturur.</li>
		<li>GO çözeltisinin 3 μL'sini mikro desenli çipin parıltılı boşaltılmış tarafına bırakın ve damlayı çip üzerinde 1 dakika bekletin. 1 dakika sonra, çip üzerindeki fazla GO solüsyonunu filtre kağıdı ile temizleyin.</li>
		<li>GO ile aktarılan çipi parafin film üzerinde hazırlanan DI su damlacıkları ile yıkayın ve çip üzerindeki DI suyunu filtre kağıdı ile temizleyin. Bu prosedürü GO aktarılan tarafında 2x ve karşı tarafta 1x tekrarlayın. GO ile aktarılan çipi gece boyunca oda sıcaklığında kurutun.</li>
		<li>Mikro desenli çipi DI suyuna batırarak GO pencerelerle yıkayın ve çipi N2 gazı ile fön ile kurulayın.</li>
	</ol></li>
</ol>2. Cryo-EM görüntüleme
<ol><li>Kriyo-numuneyi hazırlayın.<ol><li>Kriyo numunesini, sıcaklığı, nemi, lekelenme süresini ve kuvveti kontrol eden mekanik bir kriyo-daldırma makinesi (Malzeme Tablosu) kullanarak hazırlayın. Leke pedi blöflere yüklendikten sonra, odadaki nemin ve sıcaklığın sırasıyla% 100 ve 15 ° C'de tutulduğundan emin olun.</li>
		<li>Mikro desenli çipi tipik bir kriyo-cımbızla alın ve cımbızı kriyo-dalma makinesine yükleyin. Pipet 3 μL numune çözeltisi, delik desenli taraftaki mikro desenli çip üzerine, altta GO pencereleri ile. Numune çözeltisine bağlı olarak lekelenme süresini ve kuvvetini kontrol edin. NOT: Burada, kriyo-EM görüntülemesi için insan immün yetmezlik virüsü (HIV-1), ferritin, proteazom 26S, groEL, apoferritin protein parçacıkları ve tau filament proteinleri gibi biyolojik örnekler kullanılmıştır. Ek olarak, kriyo-EM görüntüleme için Fe2O3 nanopartikülleri (NP), Au nanopartikülleri, Au nanorodları ve silika nanopartikülleri gibi çeşitli inorganik malzemeler kullanılmıştır. İstenilen lekelenme süresi ve kuvveti, farklı numune tipleri için kriyo pistonunda ayarlandı.</li>
		<li>Lekeleme işleminden sonra, numune yüklü çipi hemen sıvı etan içinde daldırarak dondurun. Çipi sıvı azot (LN 2) içindeki ızgara kutusuna aktarın ve kriyo-EM görüntülemeden önce LN2'de saklayın.</li>
	</ol></li>
	<li>Kriyo-EM görüntüleme yapın.<ol><li>Kriyo-numuneyi, sıcaklık -180 °C'de tutulacak şekilde bir kriyo-EM tutucuya yükleyin.</li>
		<li>Kriyo-EM tutucuyu bir TEM'e yükleyin ve numuneleri minimum doz sistemi (MDS) modunda gözlemleyin.</li>
	</ol></li>
</ol>

<ol><li>Dillard, R. S., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Biological+applications+at+the+cutting+edge+of+cryo-electron+microscopy%5BTitle%5D)+AND+%22Microscopy+and+Microanalysis%22%5BJournal%5D)">Biological applications at the cutting edge of cryo-electron microscopy.</a> Microscopy and Microanalysis. 24 (4), 406-419 (2018).</li>
<li>Meyerson, J. R., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Self-assembled+monolayers+improve+protein+distribution+on+holey+carbon+cryo-EM+supports%5BTitle%5D)+AND+%22Scientific+Reports%22%5BJournal%5D)">Self-assembled monolayers improve protein distribution on holey carbon cryo-EM supports.</a> Scientific Reports. 4, (2014).</li>
<li>Palovcak, E., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((A+simple+and+robust+procedure+for+preparing+graphene-oxide+cryo-EM+grids%5BTitle%5D)+AND+%22Journal+of+Structural+Biology%22%5BJournal%5D)">A simple and robust procedure for preparing graphene-oxide cryo-EM grids.</a> Journal of Structural Biology. 204 (1), 80-84 (2018).</li>
<li>Xu, B. J., Developments Liu, L. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((applications%2C+and+prospects+of+cryo-electron+microscopy%5BTitle%5D)+AND+%22Protein+Science%22%5BJournal%5D)">applications, and prospects of cryo-electron microscopy.</a> Protein Science. 29 (4), 872-882 (2020).</li>
<li>Stewart, P. L. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Cryo-electron+microscopy+and+cryo-electron+tomography+of+nanoparticles%5BTitle%5D)+AND+%22Wiley+Interdisciplinary+Reviews-Nanomedicine+and+Nanobiotechnology%22%5BJournal%5D)">Cryo-electron microscopy and cryo-electron tomography of nanoparticles.</a> Wiley Interdisciplinary Reviews-Nanomedicine and Nanobiotechnology. 9 (2), (2017).</li>
<li>Murata, K., Wolf, M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Cryo-electron+microscopy+for+structural+analysis+of+dynamic+biological+macromolecules%5BTitle%5D)+AND+%22Biochimica+Et+Biophysica+Acta-General+Subjects%22%5BJournal%5D)">Cryo-electron microscopy for structural analysis of dynamic biological macromolecules.</a> Biochimica Et Biophysica Acta-General Subjects. 1862 (2), 324-334 (2018).</li>
<li>Darrow, M. C., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Chameleon%3A+next+generation+sample+preparation+for+cryoEM+based+on+spotiton%5BTitle%5D)+AND+%22Acta+Crystallographica+a-Foundation+and+Advances%22%5BJournal%5D)">Chameleon: next generation sample preparation for cryoEM based on spotiton.</a> Acta Crystallographica a-Foundation and Advances. 75, 424(2019).</li>
<li>Hite, R. K., Tao, X., MacKinnon, R. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Structural+basis+for+gating+the+high-conductance+Ca2%2B-activated+K%2B+channel%5BTitle%5D)+AND+%22Nature%22%5BJournal%5D)">Structural basis for gating the high-conductance Ca2+-activated K+ channel.</a> Nature. 541 (7635), 52-57 (2017).</li>
<li>Zhang, Y., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Cryo-EM+structure+of+the+activated+GLP-1+receptor+in+complex+with+a+G+protein%5BTitle%5D)+AND+%22Nature%22%5BJournal%5D)">Cryo-EM structure of the activated GLP-1 receptor in complex with a G protein.</a> Nature. 546 (7657), 248-253 (2017).</li>
<li>Shaik, M. M., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Structural+basis+of+coreceptor+recognition+by+HIV-1+envelope+spike%5BTitle%5D)+AND+%22Nature%22%5BJournal%5D)">Structural basis of coreceptor recognition by HIV-1 envelope spike.</a> Nature. 565 (7739), 318-323 (2019).</li>
<li>Liu, C., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((The+architecture+of+inactivated+SARS-CoV-2+with+postfusion+spikes+revealed+by+cryo-EM+and+cryo-ET%5BTitle%5D)+AND+%22Structure%22%5BJournal%5D)">The architecture of inactivated SARS-CoV-2 with postfusion spikes revealed by cryo-EM and cryo-ET.</a> Structure. 28 (11), 1218-1224 (2020).</li>
<li>Ren, X. C., Zhang, X. Q., Xu, R., Huang, J. Q., Zhang, Q. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Analyzing+energy+materials+by+cryogenic+electron+microscopy%5BTitle%5D)+AND+%22Advanced+Materials%22%5BJournal%5D)">Analyzing energy materials by cryogenic electron microscopy.</a> Advanced Materials. 32 (24), 1908293(2020).</li>
<li>Li, Y. Z., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Atomic+structure+of+sensitive+battery+materials+and+Interfaces+revealed+by+cryo-electron+microscopy%5BTitle%5D)+AND+%22Science%22%5BJournal%5D)">Atomic structure of sensitive battery materials and Interfaces revealed by cryo-electron microscopy.</a> Science. 358 (6362), 506-510 (2017).</li>
<li>Li, Y. B., Huang, W., Li, Y. Z., Chiu, W., Cui, Y. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Opportunities+for+cryogenic+electron+microscopy+in+materials+science+and+nanoscience%5BTitle%5D)+AND+%22Acs+Nano%22%5BJournal%5D)">Opportunities for cryogenic electron microscopy in materials science and nanoscience.</a> Acs Nano. 14 (8), 9263-9276 (2020).</li>
<li>Kim, Y., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Uniform+synthesis+of+palladium+species+confined+in+a+small-pore+zeolite+via+full+ion-exchange+investigated+by+cryogenic+electron+microscopy%5BTitle%5D)+AND+%22Journal+of+Materials+Chemistry+A%22%5BJournal%5D)">Uniform synthesis of palladium species confined in a small-pore zeolite via full ion-exchange investigated by cryogenic electron microscopy.</a> Journal of Materials Chemistry A. 9 (35), 19796-19806 (2021).</li>
<li>Baumgartner, J., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Nucleation+and+growth+of+magnetite+from+solution%5BTitle%5D)+AND+%22Nature+Materials%22%5BJournal%5D)">Nucleation and growth of magnetite from solution.</a> Nature Materials. 12 (4), 310-314 (2013).</li>
<li>Rice, W. J., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Routine+determination+of+ice+thickness+for+cryo-EM+grids%5BTitle%5D)+AND+%22Journal+of+Structural+Biology%22%5BJournal%5D)">Routine determination of ice thickness for cryo-EM grids.</a> Journal of Structural Biology. 204 (1), 38-44 (2018).</li>
<li>D'Imprima, E., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Protein+denaturation+at+the+air-water+interface+and+how+to+prevent+it%5BTitle%5D)+AND+%22Elife%22%5BJournal%5D)">Protein denaturation at the air-water interface and how to prevent it.</a> Elife. 8, 42747(2019).</li>
<li>Alden, N. A., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Cryo-EM-on-a-chip%3A+custom-designed+substrates+for+the+3D+analysis+of+macromolecules%5BTitle%5D)+AND+%22Small%22%5BJournal%5D)">Cryo-EM-on-a-chip: custom-designed substrates for the 3D analysis of macromolecules.</a> Small. 15 (21), 1900918(2019).</li>
<li>Naydenova, K., Peet, M. J., Russo, C. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Multifunctional+graphene+supports+for+electron+cryomicroscopy%5BTitle%5D)+AND+%22Proceedings+of+the+National+Academy+of+Sciences+of+the+United+States+of+America%22%5BJournal%5D)">Multifunctional graphene supports for electron cryomicroscopy.</a> Proceedings of the National Academy of Sciences of the United States of America. 116 (24), 11718-11724 (2019).</li>
<li>Kang, M. H., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Graphene+oxide-supported+microwell+grids+for+preparing+cryo-EM+samples+with+controlled+ice+thickness%5BTitle%5D)+AND+%22Advanced+Materials%22%5BJournal%5D)">Graphene oxide-supported microwell grids for preparing cryo-EM samples with controlled ice thickness.</a> Advanced Materials. 33 (43), 2102991(2021).</li>
<li>Johra, F. T., Lee, J. W., Jung, W. G. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Facile+and+safe+graphene+preparation+on+solution+based+platform%5BTitle%5D)+AND+%22Journal+of+Industrial+and+Engineering+Chemistry%22%5BJournal%5D)">Facile and safe graphene preparation on solution based platform.</a> Journal of Industrial and Engineering Chemistry. 20 (5), 2883-2887 (2014).</li>
<li>Yang, C., Pham, J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Characteristic+study+of+silicon+nitride+films+deposited+by+LPCVD+and+PECVD%5BTitle%5D)+AND+%22Silicon%22%5BJournal%5D)">Characteristic study of silicon nitride films deposited by LPCVD and PECVD.</a> Silicon. 10 (6), 2561-2567 (2018).</li>
<li>Olson, J. M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Analysis+of+LPCVD+process+conditions+for+the+deposition+of+low+stress+silicon+nitride.+Part+I%3A+preliminary+LPCVD+experiments%5BTitle%5D)+AND+%22Materials+Science+in+Semiconductor+Processing%22%5BJournal%5D)">Analysis of LPCVD process conditions for the deposition of low stress silicon nitride. Part I: preliminary LPCVD experiments.</a> Materials Science in Semiconductor Processing. 5 (1), 51-60 (2002).</li>
<li>Zheng, B. R., Zhou, C., Wang, Q., Chen, Y. F., Xue, W. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Deposition+of+low+stress+silicon+nitride+thin+film+and+its+application+in+surface+micromachining+device+structures%5BTitle%5D)+AND+%22Advances+in+Materials+Science+and+Engineering%22%5BJournal%5D)">Deposition of low stress silicon nitride thin film and its application in surface micromachining device structures.</a> Advances in Materials Science and Engineering. 2013, 835942(2013).</li>
<li>Chuang, W. H., Fettig, R. K., Ghodssi, R. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((An+electrostatic+actuator+for+fatigue+testing+of+low-stress+LPCVD+silicon+nitride+thin+films%5BTitle%5D)+AND+%22Sensors+and+Actuators+a-Physical%22%5BJournal%5D)">An electrostatic actuator for fatigue testing of low-stress LPCVD silicon nitride thin films.</a> Sensors and Actuators a-Physical. 121 (2), 557-565 (2005).</li>
<li>Shafikov, A., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Strengthening+ultrathin+Si3N4+membranes+by+compressive+surface+stress%5BTitle%5D)+AND+%22Sensors+and+Actuators+a-Physical%22%5BJournal%5D)">Strengthening ultrathin Si3N4 membranes by compressive surface stress.</a> Sensors and Actuators a-Physical. 317, 112456(2021).</li>
<li>Ng, W. H., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Controlling+and+modelling+the+wetting+properties+of+III-V+semiconductor+surfaces+using+re-entrant+nanostructures%5BTitle%5D)+AND+%22Scientific+Reports%22%5BJournal%5D)">Controlling and modelling the wetting properties of III-V semiconductor surfaces using re-entrant nanostructures.</a> Scientific Reports. 8, 3544(2018).</li>
<li>Han, D., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Nanopore-templated+silver+nanoparticle+arrays+photopolymerized+in+zero-mode+waveguides%5BTitle%5D)+AND+%22Frontiers+in+Chemistry%22%5BJournal%5D)">Nanopore-templated silver nanoparticle arrays photopolymerized in zero-mode waveguides.</a> Frontiers in Chemistry. 7, 216(2019).</li>
<li>Escobedo, C. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((On-chip+nanohole+array+based+sensing%3A+a+review%5BTitle%5D)+AND+%22Lab+Chip%22%5BJournal%5D)">On-chip nanohole array based sensing: a review.</a> Lab Chip. 13, 2445-2463 (2013).</li>
</ol>

Yazarların çıkar çatışması yoktur.

GO pencereli mikro desenli çipler üretmek için mikrofabrikasyon süreçleri burada tanıtılmaktadır. Fabrikasyon mikro desenli çip, analiz edilecek malzemenin boyutuna bağlı olarak mikro deliğin derinliğini GO pencereleri ile kontrol ederek vitreus buz tabakasının kalınlığını düzenlemek için tasarlanmıştır. GO pencereli mikro desenli bir çip, bir dizi MEMS tekniği ve bir 2D nanosheet transfer yöntemi kullanılarak üretildi (Şekil 1). MEMS imalat tekniğini kullanmanın en büyük avantajı, seri üret...

Kriyojenik elektron mikroskobu (kriyo-EM), proteinlerin üç boyutlu (3D) yapısını doğal hallerinde 1,2,3,4 olarak çözmek için geliştirilmiştir. Teknik, proteinleri ince bir vitreus buzu tabakasına (10-100 nm) sabitlemeyi ve bir iletim elektron mikroskobu (TEM) kullanarak rastgele yönlendirilmiş proteinlerin projeksiyon görüntülerini elde etmeyi içerir. Binlerce ila milyonlarca projeksiyon görüntüsü elde edilir ve hesaplama algoritmaları ile proteinin 3B yapısını yeniden yapılandırmak için kullanılır 5,6. Cryo-EM ile başarılı bir analiz için, kriyo-numune hazırlama, lekelenme koşullarını, nemi ve sıcaklığı kontrol eden ekipmanın daldırılması-dondurulmasıyla otomatikleştirilmiştir. Numune çözeltisi, delikli bir karbon membranlı bir TEM ızgarasına yüklenir, fazla çözeltiyi gidermek için art arda lekelenir ve daha sonra ince, vitreus buz 1,5,6 üretmek için sıvı etan ile dondurularak dondurulur. Kriyo-EM'deki gelişmeler ve numune hazırlama7'nin otomasyonu ile kriyo-EM, virüsler için zarf proteinleri ve hücre zarındaki iyon kanalı proteinleri de dahil olmak üzere proteinlerin yapısını çözmek için giderek daha fazla kullanılmaktadır 8,9,10. Patojenik viral partiküllerin zarf proteinlerinin yapısı, viral enfeksiyon patolojisini anlamanın yanı sıra,COVID-19 pandemisine neden olan SARS-CoV-2 11 gibi tanı sistemini ve aşıları geliştirmek için önemlidir. Ayrıca, kriyo-EM teknikleri son zamanlarda pil12,13,14 ve katalitiksistemler 14,15'te kullanılan ışına duyarlı malzemelerin görüntülenmesi ve inorganik malzemelerin 16 çözelti halindeki yapısının analiz edilmesi gibi malzeme bilimlerine uygulanmıştır.
Kriyo-EM ve ilgili tekniklerdeki gözle görülür gelişmelere rağmen, kriyo-numune hazırlamada sınırlamalar vardır ve bu da yüksek verimli 3D yapı analizini engellemektedir. Optimum kalınlığa sahip bir vitreus buz filmi hazırlamak, biyolojik malzemelerin atomik çözünürlüğe sahip 3D yapısını elde etmek için özellikle önemlidir. Buz, buz tarafından dağılan elektronlardan gelen arka plan gürültüsünü en aza indirecek ve elektron ışını yolu1,17 boyunca biyomoleküllerin üst üste binmesini yasaklamak için yeterince ince olmalıdır. Bununla birlikte, buz çok inceyse, protein moleküllerinin tercih edilen yönlerde hizalanmasına veya 18,19,20'yi denatüre etmesine neden olabilir. Bu nedenle, vitreus buzunun kalınlığı, ilgilenilen malzemenin boyutuna bağlı olarak optimize edilmelidir. Ayrıca, numune hazırlanması ve hazırlanan TEM ızgaralarında buz ve protein bütünlüğünün manuel olarak taranması için tipik olarak kapsamlı çaba gereklidir. Bu süreç son derece zaman alıcıdır ve bu da yüksek verimli 3D yapı analizi için verimliliğini engeller. Bu nedenle, kriyo-EM numune hazırlamanın güvenilirliği ve tekrarlanabilirliğindeki gelişmeler, kriyo-EM'nin yapısal biyoloji ve ticari ilaç keşfinde ve ayrıca malzeme biliminde kullanımını artıracaktır.
Burada, kontrollü buz kalınlığı21 ile yüksek verimli kriyo-EM için tasarlanmış grafen oksit (GO) pencereli mikro desenli bir çip yapmak için mikrofabrikasyon süreçlerini tanıtıyoruz. Mikro desenli çip, görüntüleme amaçlarına bağlı olarak çipin yapısını ve boyutlarını manipüle edebilen mikroelektromekanik sistem (MEMS) teknikleri kullanılarak üretilmiştir. GO pencereli mikro desenli çip, numune çözeltisi ile doldurulabilen bir mikro kuyucuk yapısına sahiptir ve vitreus buzunun kalınlığını kontrol etmek için mikro kuyucuğun derinliği düzenlenebilir. GO'nun biyomoleküller için güçlü afinitesi, görselleştirme için biyomoleküllerin konsantrasyonunu arttırır ve yapı analizinin verimliliğini arttırır. Ayrıca, mikro desenli çip, ızgara19 için yüksek mekanik stabilite sağlayan bir Si çerçevesinden oluşur ve bu da numune hazırlama prosedürleri ve kriyo-EM görüntüleme sırasında çipin işlenmesi için idealdir. Bu nedenle, MEMS teknikleri tarafından üretilen GO pencereli mikro desenli bir çip, kriyo-EM numune hazırlamanın güvenilirliğini ve tekrarlanabilirliğini sağlar, bu da kriyo-EM'ye dayalı verimli ve yüksek verimli yapı analizini mümkün kılar.

<table><tbody><tr><td>1-metil-2-pirolidinon (NMP)</td><td>Sigma Aldrich, ABD</td><td>443778</td><td></td></tr><tr><td>Aseton</td><td></td><td></td><td></td></tr><tr><td>AFM</td><td>Park Sistemleri, Güney Kore</td><td>NX-10</td><td></td></tr><tr><td>Aligner</td><td>Midas Sistemi, Güney Kore</td><td>MDA-600S</td><td></td></tr><tr><td>AZ 300 MIF geliştiricisi</td><td>AZ Electronic Materials USA Corp., ABD</td><td>184411</td><td></td></tr><tr><td>Cryo-EM tutucu</td><td>Gatan, ABD</td><td>626 tek eğimli kriyo-EM tutucu</td><td></td></tr><tr><td>Kriyo dalma makinesi</td><td>Thermo Fisher SCIENTIFIC, ABD</td><td>Vitrobot Mark IV</td><td></td></tr><tr><td>Odaklanmış iyon ışını taramalı elektron mikroskobu (FIB-SEM)</td><td>FEI Şirketi, ABD</td><td>Helios NanoLab 650</td><td></td></tr><tr><td>Kızdırma deşarjı</td><td>Ted Pella Inc., ABD</td><td>PELCO easiGlow</td><td></td></tr><tr><td>Grafen oksit (GO) çözeltisi</td><td>Sigma Aldrich, ABD</td><td></td><td></td>763705</tr><tr><td>Heksametildisizazne (HMDS), 98+%Alfa</td> <td>Aesar, ABD</td><td>10226590</td><td></td></tr><tr><td>Düşük basınçlı kimyasal buhar biriktirme (LPCVD)</td><td>Centrotherm, Almanya</td><td>LPCVD E1200</td><td></td></tr><tr><td>maP1205 pozitif PR</td><td>Mikro direnç teknolojisi, Almanya</td><td>A15139</td><td></td></tr><tr><td>Potasyum hidroksit (KOH), pul</td><td>DAEJUNG KİMYASALLARI & METALS Co. LTD., Güney Kore</td><td>6597-4400</td><td></td></tr><tr><td>Raman Spektrometresi</td><td>NOST, Güney Kore</td><td>Konfokal Mikro Raman Sistemi HEDA</td><td></td></tr><tr><td>Reaktif iyon aşındırıcı (RIE)</td><td>Bilimsel Mühendislik, Güney Kore</td><td>Laboratuvar yapımı</td><td></td></tr><tr><td>SEM</td><td>Carl Zeiss, Almanya</td><td>SUPRA 55VP</td><td></td></tr><tr><td>Si gofret</td><td>JP TİCARET, Güney Kore</td><td></td><td>4" Silikon gofret, P (B) tipi, (100), 1-30ohm.c m, DSP, T: 100um</td></tr><tr><td>Spin kaplayıcı</td><td>Dong Ah Trade Corp., Güney Kore</td><td>ACE-200</td><td></td></tr><tr><td>TEM</td><td>JEOL, Japonya</td><td>JEM-2100F</td><td></td></tr></tbody></table>

yüksek verimli kriyojenik elektron mikroskobu için kontrollü kalınlığa sahip mikro desenli Çip İmalatı

Fabrication of Micro-Patterned Chip with Controlled Thickness for High-Throughput Cryogenic Electron Microscopy

Kriyojenik elektron mikroskobu (kriyo-EM) kullanılarak biyomoleküllerin verimli ve yüksek verimli yapı analizi için önemli bir sınırlama, nano ölçekte kontrollü buz kalınlığına sahip kriyo-EM numunelerinin hazırlanmasının zorluğudur. Kalınlığı kontrol edilen silikon nitrür (SixNy) filmi üzerine desenli grafen oksit (GO) pencereli düzenli bir mikro delik dizisine sahip olan silikon (Si) bazlı çip, mikroelektromekanik sistem (MEMS) teknikleri uygulanarak geliştirilmiştir. UV fotolitografisi, kimyasal buhar birikimi, ince filmin ıslak ve kuru aşındırılması ve 2D nanosheet malzemelerin damla dökümü, GO pencereli mikro desenli çiplerin seri üretimi için kullanılmıştır. Mikro deliklerin derinliği, kriyo-EM analizi için numunenin boyutuna bağlı olarak, talep üzerine buz kalınlığını kontrol etmek için düzenlenir. GO'nun biyomoleküllere olan olumlu afinitesi, kriyo-EM numune hazırlama sırasında ilgilenilen biyomolekülleri mikro delik içinde yoğunlaştırır. GO pencereli mikro desenli çip, çeşitli biyolojik moleküllerin yanı sıra inorganik nanomalzemelerin yüksek verimli kriyo-EM görüntülemesini sağlar.

GO pencereli mikro desenli bir çip, MEMS üretimi ve 2D GO nanosheet transferi ile üretildi. Mikro modelleme için çipler seri olarak üretildi ve gofretteki bir 4'ten yaklaşık 500 çip üretildi (Şekil 1B ve Şekil 2A, B). Mikro desenli çiplerin tasarımları, fotolitografi prosedürü sırasında krom maskesinin farklı tasarımları kullanılarak manipüle edilebilir (Şekil 2). Fabrikasyon mikro desenli çipler, bağımsız Six<...

Grafen oksit pencereli yeni geliştirilen mikro desenli çip, mikroelektromekanik sistem teknikleri uygulanarak üretilir ve çeşitli biyomoleküllerin ve nanomalzemelerin verimli ve yüksek verimli kriyojenik elektron mikroskopisi görüntülemesini sağlar.

Yüksek Verimli Kriyojenik Elektron Mikroskobu için Kontrollü Kalınlığa Sahip Mikro Desenli Çip İmalatı

A major limitation for the efficient and high-throughput structure analysis of biomolecules using cryogenic electron microscopy (cryo-EM) is the ...

Bu protokol, kriyo EM kullanarak proteinleri ve farklı boyutlardaki nano malzemeleri başarılı bir şekilde gözlemlemek için nano ölçekte resim boyutunun kalınlığını düzenlemek için önemlidir. Mem'in üretim tekniği, mikroçipin seri üretimine izin verir. Ayrıca mikro desen kuyularının derinliklerinin ve tasarımlarının seçilmesini sağlar. Deneysel amaçlara bağlı olarak.Bu teknik, ticari ilaç keşfi için kullanılan biyomoleküllerin yüksek verimli 3D yapı analizinin verimliliğini arttırmaya katkıda bulunabilir ve daha sonra silikon nitro membranları riske atan ince gofretler ve mikroçipler zor olabilir. Gofreti bükmemek veya silikon nitrat penceresine dik kuvvetler uygulamamak önemlidir. Bir silikon nitrür birikmiş silikon gofreti hekzametildikolayan çözeltisi ile kaplayarak fotoğraf direncini veya PR'yi modellemeye başlayın ve ardından gofreti bir spin kodlayıcıda 30 saniye boyunca 3000 RPM'de döndürün.Su yüzeyini hidrofobik hale getirmek ve PR ile iyi bir kaplama performansı sağlamak için kaplanmış gofreti sıcak plaka üzerinde 30 saniye boyunca 95 santigrat derecede pişirin. Daha sonra, gofreti pozitif bir PR ile döndürün ve 90 saniye boyunca 100 santigrat derece pişirin. Spin kaplı bir PR, 500 nanometre kalınlığa sahiptir. PR kaplı gofreti, hizalayıcı kullanarak krom maskesi aracılığıyla beş saniye boyunca ultraviyole ışığa maruz bırakın.Bir geliştirici kullanarak PR'ı bir dakika boyunca geliştirin ve gofreti deiyonize suya batırarak iki kez durulayın. Daha sonra PR desenli gofreti azot gazını su yüzeyine üfleyerek kurutun. PR'ın desenini takiben. 50 watt'lık bir radyo frekansı gücünde ve dakikada üç standart santimetreküpte kükürt hekzaflorür gazı ile laboratuarda oluşturulmuş bir reaktif iyon kazıyıcı kullanın.Maruz kalan silikon nitrürü saniyede altı angstrom hızında kazımak. Silisyum nitrür desenli gofreti oda sıcaklığında 30 dakika boyunca asetona batırarak PR'ı ortadan kaldırın. Ardından gofret deiyonize suda iki kez durulanır ve gofret azot gazı ile kurutulur.Maruz kalan si'yi kazımak için, silikon nitrür desenli gofreti taze hazırlanmış potasyum hidroksit çözeltisine batırın. Desenli gofretin karşı tarafında serbest duran silikon nitrür pencereleri gözlemlenene kadar sürekli karıştırılır. Kazınmış gofreti deiyonize bir su banyosuna birkaç kez batırarak temizleyin.Sonra gofreti havada kurutun. Aşındırma kalıntılarını ortadan kaldırmak için, çip dizisinin sınırlarını bir cımbızla hafifçe bastırın ve mikro desenli olacak bir dizi çip elde edin. Daha sonra talaş dizisini taze hazırlanmış potasyum hidroksit çözeltisine 30 saniye batırın, ardından iki kez durulayın, talaşları azot gazı ile üfleyin ve bir saat boyunca havada kurutun.Katı destek için, daha önce gösterildiği gibi sıkma kaplamalı boş bir 525 mikrometre silikon gofret hazırlayın. Gofreti pişirmeden önce silikon gofret üzerindeki yontucu ışınına tutturulur ve mikromodel silikon gofreti elde etmek için daha önce açıklandığı gibi prosedürü izleyin. Desen çipi setini bir metil iki saf littanol çözeltisine gece boyunca 60 santigrat derecede batırarak PR'yi ortadan kaldırın.Ertesi gün, çip setini deiyonize su ile iki kez durulayın. Desen çipi seti azotla kuruttuktan sonra, reaktif iyon kazıyıcı ile bir dakika boyunca 150 watt'lık bir radyo frekansı gücünde dakikada 100 standart santimetreküp oksijen gazı kullanan bir oksijen plazma işlemi ile PR kalıntılarını ortadan kaldırın. Daha sonra, PR kalıntılarını tamamen ortadan kaldırmak için mikro desenli cipsleri 30 saniye boyunca potasyum hidroksit çözeltisine batırın.Daha sonra talaş setini durulayın ve tamamen kurulayın. Mililitre grafen oksit başına iki miligram veya çözelti 10 katını deiyonize su ile seyreltin ve tabakaların agregalarını parçalamak için seyreltilmiş çözeltiyi 10 dakika boyunca sonikleştirin. Daha sonra seyreltilmiş çözeltiye oda sıcaklığında 30 saniye boyunca 300 kez G'de santrifüj yapın.Mikro desen çipinin silikonla kazınmış tarafını bir dakika boyunca parlatmak ve çipin yüzeyini pozitif bir yükle oluşturmak için 15 milyon amperde bir kızdırma deşarjı kullanın. İşiniz bittiğinde, çözeltinin üç mikrolitresini mikrodesen çipinin kızdırma boşaltma tarafına bırakın. Bir dakika sonra, talaş üzerindeki fazla çözeltiyi filtre kağıdı ile lekeleyin.Aktarılan çipi bir parafin film üzerinde deiyonize su damlacıkları ile yıkayın ve fazlalığı filtre kağıdı ile lekeleyin. Damla döküm prosedürünü aktarılan tarafta iki kez ve karşı tarafta bir kez tekrarlayın. Aktarılan çipi gece boyunca oda sıcaklığında kurutun.Fotolitografi prosedürü sırasında, mikro desen çiplerinin tasarımları, krom maskesinin farklı tasarımları kullanılarak manipüle edildi. Serbest duran silikon nitrür membranlarının sayıları ve boyutları kontrol edildi. Fabrikasyon mikro desenli çiplerin 25.000'e kadar asılı deliğe sahip olabileceği gözlendi.Penceredeki ramen spektrumu, ek olarak, çarpma yönelimli altıgen kırılma desenlerinin temsili zirvelerini gösterdi Pencerelerin çok katmanlı olduğunu gösterdi Pencereli mikro deliğin yapısı ve derinliği, taramalı elektron mikroskobu ve atomik kuvvet mikroskobu ile incelendi. Pencerelerle birlikte mikro deliğin kuyu tipi bir yapısı, pencereli mikro desen çipinin tasarım olasılığını doğrulayan görüntülerde gözlenmiştir. Mikro desenli çip yardımıyla, kriyo elektron mikroskobu ile birkaç biyolojik örnek ve inorganik nanopartikül görüntülendi.Saf kaplama kalınlığı gibi koşulların, desenlerin boyutuna ve tasarımına bağlı olarak yoğunluk ve mikro desen için geliştirme süresi kullanılarak optimize edilmesi önemlidir. FIB veya hatta lito grafen gibi nano püskürtme tekniklerini daha küçük uygulayarak bazı mikrometre desenleri üretilebilir ve bu da bu mikro cihazın diğer analitik tekniklerle birlikte kullanıldığı uygulamaları genişletebilir.

fabrication-micro-patterned-chip-with-controlled-thickness-for-high

Research

JoVE Journal

Engineering

Mühendislik

Biz, üç-boyutlu hücre kültürü için gözenekli polimer cips mikroimalat için iki süreç sunuyoruz. Bunlardan birincisi, solvent buhar kaynak işlemi ile birlikte sıcak kabartma. Ikincisi ise, kısa bir süre önce geliştirilen iyon izleme teknolojisi ile üretim önemli bir basitleştirme giden kombine microthermoforming süreci kullanır.

Üç boyutlu Hücre ekimi için Chip-ölçekli Yapı iskeleleri mikroimalat

Biz bir transmisyon elektron mikroskobu kullanılarak sıvı yoluyla görüntüleme sağlayan bir kendi kendine yeten bir sıvı hücre, geliştirdik. Sıvılarda nanoparçacıkların Dinamik süreçleri alt nanometre çözünürlükte gerçek zamanlı olarak ortaya çıkabilmektedir.

Sıvı Hücre Transmisyon Elektron Mikroskobu kullanarak Sıvılarda Malzemelerin Dinamik Süreçler Revealing

Fotonik kristal yavaş ışığın dalga kılavuzları ve boşlukların kullanımı yaygın olarak pek çok farklı uygulamada fotonik topluluğu tarafından kabul edilmiştir. Bu cihazların Bu nedenle imalat ve karakterizasyonu büyük bir öneme sahiptir. Interferometrik (dalga kılavuzları) ve rezonans saçılması (kaviteler): Bu kağıt, yani bizim üretim tekniği ve iki optik karakterizasyon yöntemleri, özetliyor.

Fotonik Kristal Yavaş Işık Dalga Kılavuzları Ve Çürükler Üretimi ve Karakterizasyonu

Biz indüktif eşleşmiş plazma kütle spektrometresi (ICPMS) için ayrı bir damlacık örnek giriş sistemi sunuyoruz. Bu 90 ila 7000 Hz arası frekanslarda 40-60 um boyut aralığında yüksek tek dağılımlı damlacıklarını üreten ucuz ve tek kullanımlık mikroakışkan çip dayanmaktadır.

ICPMS Numune Giriş için mikroakışkan Chip

Yüzey modelleme için Taramalı Tünelleme Mikroskobunun atomik metrolojisini seçici Atomik Katman Biriktirme ve Reaktif İyon Aşındırma ile birleştirmek için bir protokol rapor ediyoruz. Çok sayıda atmosferik maruziyet ve taşımayı içeren sağlam bir süreç kullanılarak, atomik metrolojiye sahip 3D nanoyapılar üretilir.

Atomik İzlenebilir Nanoyapı İmalatı

Burada deneysel protokoller gerçek zamanlı gözlem kendinden montajlı işlem için tanıtmak sıvı hücreli transmisyon elektron mikroskobu kullanarak.

Hücre içi sıvı iletim elektron mikroskobu nano tanecikleri, kendinden montajlı takibi için

Cilt hücrelerinin fizyolojik ve patolojik özellikleri ile ilgili önemli bir parametredir. Biz tam alan ölçüm-in vitro nöron birim neurites ve dinamik yapıları nöronal artışa örtülü analizi için gerekli alt micrometric eksenel çözünürlük ile sağlayan bir floresan dışlama yöntemi açıklanmaktadır.

Yüksek çözünürlüklü ses görüntüleme, nöronlar Floresans kullanım dışlama yöntemi tarafından ve adanmış mikrosıvısal aygıtları

Bu protokolü nasıl imal ve mikrosıvısal cihazlar x-ışını kırınım veri toplama oda sıcaklığında için ayrıntılı olarak anlatılmaktadır. Ayrıca, protein kristalizasyon tarafından dinamik ışık saçılma izlemek açıklar ve nasıl işlemek ve analiz kırınım veri elde.

Mikrosıvısal çip Situ Crystal x-ışını kırınım ve in Situ dinamik ışık saçılma seri kristalografisi için için

Burada, yaygın olarak kullanılan birkaç numune hazırlama yöntemini detaylandırırken in situ TEM kapalı hücreli gaz reaksiyonu deneyleri yapmak için bir protokol sunuyoruz.

İletim Elektron Mikroskobunda In Situ Kapalı Hücreli Gaz Reaksiyonlarının Gerçekleştirilmesi

Kriyo-elektron tomografisi ile in situ makromoleküllerin yüksek çözünürlüklü yapısal çalışmaları için kriyo odaklı iyon ışını mikromakine ile dalma donmuş biyolojik örneklerin lamel hazırlanması için bir protokol sunuyoruz. Sunulan protokol, Saccharomyces cerevisiaeiçindeki makromoleküllerin yapısal karakterizasyonu için yüksek tekrarlanabilirlik ile yüksek kaliteli lamel hazırlanması için yönergeler sağlar.

Kriyo-Elektron Tomografisi için Saccharomyces cerevisiae'nin Hazırlanması ve Kriyo-FIB mikromakinesi

Mikroakışkanlar, tanısal testlerin geliştirilmesi için güçlü bir araçtır. Bununla birlikte, pahalı ekipman ve malzemelerin yanı sıra zahmetli imalat ve taşıma teknikleri de sıklıkla gereklidir. Burada, manyetik mikro ve nanopartikül bazlı immünotahliller için akrilik bir mikroakışkan cihazın üretim protokolünü düşük maliyetli ve kullanımı kolay bir ortamda detaylandırıyoruz.

Manyetik Nanopartikül Bazlı İmmünoassaylar için Kademeli Bir Kısıtlama ile Mikroakışkan Akrilik Cihazın Bilgisayar Sayısal Kontrol Mikrofrezelenmesi

Keşfedin, MEMS teknikleriyle üretilen mikro desenli çiplerin kriyojenik elektron mikroskobu için biyomoleküllerin yüksek verimli görüntülenmesini nasıl geliştirdiğini. Bu yöntem ilaç keşfi ve nanoteknoloji araştırmalarına katkı sağlar.

Yüksek Verimli Kriyojenik Elektron Mikroskobu için Kontrollü Kalınlığa Sahip Mikro Desenli Çip İmalatı

Daha fazla video keşfet