Summary
Dos tipos de superficies, acero de poliéster recubierto y de poliéster recubierta con una capa de nanopartículas de sílice, se estudiaron. Ambas superficies se expusieron a la luz solar, que se encontró para provocar cambios sustanciales en la química y la nanoescala topografía de la superficie.
Abstract
La corrosión de superficies metálicas es frecuente en el medio ambiente y es de gran preocupación en muchas áreas, incluyendo las industrias militares, transporte, aviación, construcción y alimentos, entre otros. Poliéster y recubrimientos que contienen tanto del poliéster y nanopartículas de sílice (SiO 2 NPS) han sido ampliamente utilizados para proteger los sustratos de acero de la corrosión. En este estudio, hemos utilizado de rayos X espectroscopia de fotoelectrones, reflexión total atenuada infrarrojos micro-espectroscopía, las medidas del ángulo de contacto del agua, perfiles óptica y microscopía de fuerza atómica para proporcionar una idea de cómo la exposición a la luz solar puede causar cambios en la micro y nanoescala integridad de los recubrimientos. No se detectó ningún cambio significativo en la superficie micro-topografía utilizando perfilometría óptica, sin embargo, se detectaron cambios de nanoescala estadísticamente significativas a la superficie usando la microscopía de fuerza atómica. Análisis de la espectroscopia de fotoelectrones de rayos X y micro de infrarrojos de reflexión total atenuadalos datos de espectroscopia reveló que la degradación de los grupos éster se había producido a través de la exposición a la luz ultravioleta para formar COO ·, -H 2 · C, -O · ·, -CO radicales. Durante el proceso de degradación, CO y CO 2 también se produjeron.
Protocol
1. Las muestras de acero
- Obtener muestras de acero de 1 mm de espesor de un proveedor comercial.
Nota: Las muestras se recubrieron con poliéster o de poliéster recubierto con nanopartículas de sílice. - Exponer las muestras a la luz solar en Rockhampton, Queensland, Australia: recoger muestras después de intervalos de un año y cinco años durante un período total de 5 años. Cortar paneles de muestra en discos circulares de 1 cm de diámetro utilizando perforadora.
- Antes de la caracterización de la superficie, enjuagar las muestras con agua bidestilada y, a continuación secar el uso de gas nitrógeno (99,99%). Mantenga todas las muestras en recipientes herméticos para evitar cualquier contaminante del aire que adsorben a la superficie (Figura 1).
Figura 1. Preparación de discos de metal con recubrimiento a base de poliéster. Las muestras se almacenaron en contenedores hasta que se requiera.om / archivos / ftp_upload / 54309 / 54309fig1large.jpg "target =" _ blank "> Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
2. Química y fisicoquímica Caracterización de superficies
- Analizar la química de superficie usando espectroscopia de fotoelectrones de rayos X.
- Realizar espectrometría de fotoelectrones de rayos X (XPS) usando una fuente monocromática de rayos X (Al Ka, hv = 1486,6 eV) que opera a 150 W.
NOTA: Tamaño de punto de haz de rayos X utilizada es 400 micras de diámetro. - Cargar las muestras en la placa de la muestra. Coloque la placa de muestra en la cámara de vacío de XPS y luego se infla la cámara. Espere a que el vacío en la cámara para llegar a ~ 1 × 10 -9 mbar.
- En el software de espectroscopia de fotoelectrones, pulse la opción de "cañón de proyección" para inundar las muestras con electrones de baja energía para contrarrestar la carga superficial.
- Pulse el botón "Insertar"> "Punto"> "Punto" para insertar un análisis point.
NOTA: Este será un lugar en el que se realiza el análisis. Active la función de altura automático para obtener la mejor altura para la adquisición. - Pulse el botón "Insertar"> "Spectrum"> "Multi Spectrum" para añadir exploraciones a este punto.
NOTA: Se abrirá una ventana con una tabla periódica; seleccionar un elemento haciendo clic en él para resaltarlo. - Después de configurar los experimentos, pulse el comando "Reproducir" para continuar las exploraciones.
- Presione comando "Pico Fit" y presione "Añadir pico" y "Ajustar todo nivel" comandos para resolver las especies químicamente distintas en los espectros de alta resolución.
NOTA: Este paso adquirirá el algoritmo de Shirley para eliminar el fondo y Gauss-Lorentz apropiado para deconvolute los espectros 19. - Seleccionar todos de alta resolución y examinar los espectros. Pulse la opción "Cambio de carga" para corregir los espectros utilizando el hydrocacomponente rbon de la (energía de enlace 285,0 eV) 1s C pico como referencia.
- Después de la corrección de carga, presione la opción "Exportar" para generar la tabla de datos de la concentración atómica relativa de los elementos en la base del área del pico.
- Realizar espectrometría de fotoelectrones de rayos X (XPS) usando una fuente monocromática de rayos X (Al Ka, hv = 1486,6 eV) que opera a 150 W.
- la química de superficies
NOTA: Analizar la química de superficies usando la reflexión total atenuada infrarrojos micro-espectroscopía (ATR-IR) en el infrarrojo (IR) espectroscopia de la línea de luz en el sincrotrón de Australia de la siguiente manera:- Cargar las muestras en la etapa de microscopio. Abrir un "Iniciar video de medición asistido" o la opción "Iniciar medición sin 3D". Desactivar el modo "VIS" en la. Utilice el objetivo de centrarse en superficie de la muestra. Pulse el botón "Snapshot / Información general" para tomar imágenes deseadas.
NOTA: 0,5 mm de espesor de placa CaF 2 se puede utilizar como el fondo. - Cambiar el objetivo ATR a la muestra. Cuidadosamente mueva la etapa de colocar un ger 45 ° multi-reflexiónmanium cristal (índice de refracción de 4) 1-2 mm por encima de las superficies. Haga clic derecho en la ventana de vídeo en directo. Pulse el botón "Iniciar medición"> "Cambio de los parámetros de medida". Elija la opción "Nunca use BG existente para todas las posiciones".
NOTA: Esto no tomar en espectros de fondo para cada punto de medición. - Dibujar un mapa en la pantalla de vídeo para seleccionar el área de interés. Presione un cuadrado rojo de apertura y elegir la opción "Apertura"> "Cambiar la apertura". Cambiar la configuración real "del filo de apertura" a X = 20 micras e Y = 20 micras.
- Haga clic derecho en la plaza de nueva apertura de tamaño y vaya a "Apertura"> "Establecer todas las aberturas para aberturas seleccionadas". Pulse el icono de "medición" para iniciar las exploraciones. Guardar los datos.
NOTA: El índice de refracción del cristal de Ge es 4, por lo que una abertura de 20 micras x 20 micras definirá el tamaño del punto de 5 micras × 5 micras. This paso permitirá la creación de FTIR mapeo con una abertura de 20 por 20 m, que corresponde a una m 5 por 5 micras lugar a través del cristal a través de un alcance máximo número de onda de 4,000-850 cm - 1. - Abrir archivo maestro utilizando el software de la espectroscopia. Elija el pico de interés en los espectros IR. Haga clic en el pico de interés. Seleccione la opción "Integración"> "Integración". Permitirá la creación de mapas en 2D de color falso
- Cargar las muestras en la etapa de microscopio. Abrir un "Iniciar video de medición asistido" o la opción "Iniciar medición sin 3D". Desactivar el modo "VIS" en la. Utilice el objetivo de centrarse en superficie de la muestra. Pulse el botón "Snapshot / Información general" para tomar imágenes deseadas.
- mediciones de humectabilidad superficial
NOTA: Realizar la medición de la humectabilidad con un goniómetro de ángulo de contacto equipado con un nanodispenser 19.- Coloque la muestra en el escenario. Ajustar la posición del conjunto de microjeringa de manera que la parte inferior de la aguja aparece alrededor de un cuarto de un camino hacia abajo en la pantalla de la ventana de vídeo en vivo.
- Elevar la muestra usando eje Z hasta que la distancia entre la muestra y la superficie es de aproximadamente 5 mm. Mover la jeringa hacia abajo hasta que una gota de double destila el agua toca la superficie. Mover la jeringa hasta su posición original.
- Pulse el comando "Ejecutar" para grabar la gota de agua impactando en la superficie durante un período de 20 segundos utilizando una cámara CCD monocroma que está integrado con el hardware.
- Pulse el comando "Stop" para adquirir la serie de imágenes.
- Pulse "ángulo de contacto" comando para medir los ángulos de contacto de las imágenes adquiridas. Repetir las mediciones del ángulo de contacto en tres lugares al azar para cada muestra.
3. Visualización de la topografía de la superficie
- la medición de perfiles óptica.
NOTA: El instrumento se opera bajo el modo de exploración vertical de la interferometría de luz blanca.- Colocar las muestras en la platina del microscopio.
NOTA: Asegurarse de que existe una brecha suficiente (por ejemplo,> 15 mm) entre la lente objetivo y el escenario. - Centrarse en la superficie utilizando la5 × objetivos mediante el control del eje z hasta que las franjas aparecen en la pantalla. Presione comando "Auto" para optimizar la intensidad. Presione comando "medición" para iniciar el escaneo. Guarde los archivos maestros.
- Repita el paso 3.1.2 de 20 × 50 × y objetivos.
- Antes del análisis estadístico rugosidad, pulse "Eliminar inclinación" opción para eliminar la ondulación de la superficie. Pulse la opción "Contorno" para analizar los parámetros de rugosidad. Haga clic en la opción "3Di" para generar imágenes tridimensionales de los archivos de perfiles ópticos utilizando software compatible con 20.
- Colocar las muestras en la platina del microscopio.
- Fuerza atómica microscópica
- Colocar las muestras en discos de acero. Inserte los discos de acero en soporte magnético.
- Realizar análisis de AFM en modo de 21 tapping. fósforo de carga mecánicamente dopados sondas de silicio con una constante de elasticidad de 0,9 N / m, la curvatura de la punta con un radio de 8 nm y una frecuencia de resonancia de ~ 20 kHz para obtener imágenes de la superficie. <li> ajustar manualmente la reflexión láser en el voladizo. Elija el comando "Auto Tune" y presione comando "Tune" para ajustar el voladizo del AFM para alcanzar la frecuencia de resonancia óptima reportado por el fabricante.
- Centrarse en la superficie. Mueva la punta cerca de la superficie de la muestra. Haga clic en Participar comando para participar puntas de AFM en las superficies.
- Tipo "1 Hz" en la caja de velocidad de exploración. Elija las áreas de exploración. Pulse el botón "Ejecutar" orden para ejecutar la exploración. Repetir la exploración al menos por diez áreas de cada una de cinco muestras de cada condición.
- Elija la opción de nivelación para procesar los datos topográfica resultante. Guarde los archivos maestros.
- Abra el software compatible AFM. Cargar el archivo maestro de AFM. Pulse "nivelación" de comandos para eliminar la inclinación de las superficies. Pulse "Alisar" comando para eliminar el fondo.
- Pulse "Estadística parámetros de análisis" para generar la rugosidad estadística 21.
4. Análisis estadístico
- Expresar los resultados en términos de valor medio y su desviación estándar. Realizar el procesamiento de datos estadísticos usando dos pruebas de cola t- emparejado de Student para evaluar la consistencia de los resultados. Establecer valor de p a <0,05 que indica el nivel de significación estadística.
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Representative Results
Se recogieron las muestras de acero revestidas que habían sido sometidas a la exposición a la luz del sol, ya sea para uno o cinco años, y las mediciones del ángulo de contacto de agua se llevaron a cabo para determinar si la exposición había dado lugar a un cambio en la hidrofobicidad de la superficie de la superficie (Figura 2 ).
Figura 2. Variación humectabilidad de las superficies con poliéster o de nanopartículas de sílice / recubrimientos de poliéster (sílice / poliéster) más de cinco años de exposición a la luz solar (A) Imágenes goniométricas que muestran la gota de agua se utiliza para medir el ángulo de contacto de equilibrio de las superficies.; (B) el ángulo de contacto del agua como una función del tiempo de exposición (* indica p <0,05, en comparación a su control correspondiente (año 0)). Los datos representan la media ± desviación estándar.ource.jove.com/files/ftp_upload/54309/54309fig2large.jpg "target =" _ blank "> Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
Se encontró que la humectabilidad de los sustratos de poliéster recubierto no había cambiado como resultado de la exposición a la luz solar, sin embargo la nanopartícula de sílice / muestras de poliéster recubierto, después de un año de exposición, se encontró que eran 1,3 veces mayor en hidrofobicidad que el muestras no expuestas. El análisis adicional de estas muestras se realizó usando XPS y ATR-FTIR. Una ventaja de XPS es que esta técnica permite que la composición elemental de una superficie que se determina a una profundidad de aproximadamente 10 nm por debajo de la superficie. Se encontró que el contenido de Si a esta profundidad había aumentado de aproximadamente 2% a 15% durante el período de exposición de 5-años. Este aumento puede atribuirse a la adsorción de los contaminantes del aire. El XPS espectros indicó que se detectó hierro (Fe) en el sustrato un poliéster recubiertoespués de uno y cinco años de exposición (Figura 3) y que se había producido una ligera disminución en el contenido de carbono de las muestras de poliéster con recubrimiento después de un tiempo de exposición de 5 años. Ningún cambio significativo se encontró en el silicio (Si), los niveles de hierro (Fe) y carbono (C) en los sustratos de nanopartículas de sílice / poliéster recubierto. XPS no significa, sin embargo, permite la funcionalidad particular de los recubrimientos de polímeros que se determine. Como resultado, se empleó origen-Sincrotrón ATR-IR para determinar los cambios en la funcionalidad química a una profundidad de 10 m para las muestras que habían sido expuestos a la luz solar, en particular, los cambios que han tenido lugar en el número de grupos carbonilo. Se encontró que el número de grupos carbonilo se redujo en ambos las muestras de poliéster y sílice de nanopartículas / poliéster recubierto después de cinco años de exposición.
Figura 3. Elemental composición variación de poliéster (PE) y sílice nanopartícula / recubrimientos de poliéster (PE + SiO2) más de cinco años que exponen a la luz solar como utilizando XPS determinados. (A) Representante XPS amplia espectros y los espectros de alta resolución de 1s O, 1s C y Si 2p de revestimientos de poliéster antes y después de la exposición. (B) La concentración de los tres elementos (Si, Fe y C) (fracción atómica) se midió como una función del tiempo de exposición para determinar cambios en la composición del revestimiento de superficie bajo altos niveles de exposición al sol en condiciones de humedad. Por favor, haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
Figura 4. Representante espectros ATR-FTIR se utiliza para la medición de los cambios en los grupos carbonilo en los recubrimientos de superficie de acero después de tres años de Envirla exposición en materia de medio. Los cambios en la distribución de los grupos carbonilo resultado de la descomposición inducida por la luz ultravioleta de grupos éster. Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
perfilado óptica y microscopía de fuerza atómica se emplearon más para investigar la topografía de la superficie del sustrato en la micro y nano-escala. La microescala evolución topográfica de las muestras de poliéster y sílice de nanopartículas / poliéster recubierto se presenta en la Figura 5. Se puede ver que las superficies de ambos recubrimientos se volvieron más áspero que el sustrato original, después de un año de exposición, sin embargo no se encontró este aumento para ser estadísticamente significativa (p> 0,05).
Figura 5. Micro-escala de los cambios topográficos en los recubrimientos de poliéster y sílice nanopartícula / poliéster en el acero durante un período de exposición de cinco años. (A) Imágenes de perfiles ópticos representativos de los revestimientos de acero antes y después de la exposición. (B) Gráfico que muestra un aumento de la rugosidad promedio de ambos recubrimientos como una función del tiempo de exposición del medio ambiente (* indica p <0,05, en comparación con su correspondiente control (año 0)). Los datos representan la media ± desviación estándar. Por favor, haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
Un análisis más detallado de los sustratos pone de relieve que la topografía de la superficie a nanoescala se alteró significativamente como resultado de la exposición a la luz ultravioleta (Figuras 6, 7 y 8). Las nanopartículas de sílice revestimientos originales de poliéster /eran lisas en una escala nanométrica, sin embargo, después de la exposición, se encontró que estos recubrimientos tanto que se han formado estructuras globulares. Después de cinco años de exposición, se encontró que las superficies de exhibir una rugosidad promedio significativamente más alto que el sustrato original, que van desde 40 hasta 47 nm (p <0,05).
Figura 6. nanoescala cambios topográficos para recubrimientos de poliéster en el acero durante un período de exposición de cinco años. Micrografías representativas de fuerza atómica y su perfil de superficie correspondiente, destacando los cambios topográficos del recubrimiento de polímero. Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
Figura 7. nanoescala cambios topográficos para nanopa de sílice revestimientos Artículo / poliéster en un período de exposición de cinco años. micrografías representativas de fuerza atómica y su perfil de superficie correspondiente, destacando los cambios topográficos del recubrimiento de polímero, a pesar de la presencia de la capa de sílice protección de nanopartículas. Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
Figura 8. Promedio rugosidad de la superficie a nanoescala de poliéster y de nanopartículas de sílice / revestimientos de poliéster en el acero como una función del tiempo de exposición. La rugosidad promedio de los recubrimientos de la superficie aumenta significativamente con el tiempo de exposición (* indica p <0,05, en comparación con su control correspondiente ( el año 0)). Los datos representan la media ± desviación estándar.target = "_ blank"> Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
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Discussion
revestimientos de poliéster se han utilizado ampliamente para proteger sustratos de acero de la corrosión que se produciría en una superficie sin recubrimiento debido a la acumulación de humedad y contaminantes. La aplicación de recubrimientos de poliéster puede proteger el acero de la corrosión; sin embargo, la eficacia a largo plazo de estos recubrimientos se ve comprometida si están expuestos a altos niveles de luz ultravioleta en condiciones de humedad, como ocurre en los climas tropicales. nanopartículas de sílice se pueden aplicar a la superficie del poliéster para mejorar la robustez de estos recubrimientos en estos ambientes, sin embargo, el efecto de los factores ambientales sobre estos materiales de revestimiento que contienen sílice era, hasta ahora, desconocida, en particular en lo que respecta a los cambios en su micro - y la topografía de la superficie a nanoescala.
En muchos casos, la humectabilidad de una superficie de sustrato puede proporcionar una indicación de si cualquier degradación de la superficie ha tenido lugar. mediciones del ángulo de contacto, sin embargo,no proporcionan ningún detalle con respecto a los cambios estructurales físicas y químicas que pueden haber tenido lugar en una superficie (Figura 2). XPS y ATR-FTIR son técnicas que permiten cambios en el contenido de carbono y carbonilo (C = O) distribución de funciones que se determinen.
Los resultados obtenidos en este estudio sugieren que la exposición al sol provoca la degradación de los revestimientos de poliéster. Un mecanismo propuesto para esta degradación se da en la Figura 9 22,23. Los grupos éster pueden ser degradados radicalmente través de la exposición a la luz ultravioleta para formar -COO radical ·, -H 2 · C, -O ·, -CO ·. Durante el proceso de degradación, CO y CO 2 se producen.
Figura 9. Proyecto de degradación de la luz ultravioleta catalizada de poliéster. Bajo la exposición a la luz solar, los grupos éster presentes en el poliésterformada especies radicales para formar el alcohol estable, aldehído, grupos de ácidos carboxílicos con la eliminación del monóxido de carbono y dióxido de carbono. Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
Además de la degradación química de los recubrimientos, se observaron cambios en la topografía de la superficie de los recubrimientos, pero sólo en la nanoescala. En estudios anteriores, también se informó de irradiación de luz ultravioleta para han modificado significativamente la topografía nanoescala superficie de superficies de polímeros 24-26. Aquí, se encontró que la topología de la superficie había sido cambiado a través de la formación de estructuras a nanoescala globulares (Figuras 6 y 7).
XPS puede proporcionar una idea de los cambios en la química de superficies a nivel de una parte por millón. Debido a la alta sensibilidad de la técnica, la contaminación de la muestrapuede ser fácilmente detectado y esto puede conducir a resultados sesgados. El paso más importante en la preparación de las muestras para el análisis de XPS es asegurar que las muestras no desgasificar o contienen partículas que pueden dañar el sistema de vacío del instrumento. Para evitar que esto ocurra, se deben limpiar con gas nitrógeno y se desgasifica antes de una medición. Esta técnica sólo proporciona la química general de una superficie sobre unos pocos cientos de micrómetros, y sólo revela la química de la superficie hasta una profundidad de ~ 10 nm. Los espectros de alta resolución resultantes permiten las diferentes especies químicas existentes en las superficies que se determinen. XPS es una herramienta importante para la investigación de las modificaciones químicas de la superficie que pueda ocurrir. Una técnica alternativa para XPS es la espectroscopia de rayos X de energía dispersiva (EDX) 27.
microscopía ATR-IR requiere que exista un buen contacto entre el cristal ATR y la superficie que está siendo analizada debido al pequeño extensión de la onda evanescente que se produce más allá del cristal. microscopía ATR-IR resuelve espacialmente la composición molecular y estructural de las superficies. La contaminación del cristal ATR también puede causar que se obtienen una señal de baja o resultados sesgados. Antes de cualquier experimento, es importante limpiar el cristal con isopropanol puro para asegurar que cualquier contaminación cruzada no se produce. Además, el índice de refracción del cristal ATR debe ser significativamente mayor que la de la muestra. La espectroscopía infrarroja (IR) usando el método ATR es capaz de ser aplicado a los sistemas químicos o biológicos que pueden ser analizados usando el método de transmisión. ATR-IR ha sido ampliamente utilizado para controlar el desarrollo de las células eucariotas. Raman micro-espectroscopía es un método alternativo por el cual la heterogeneidad química de superficie se puede determinar 28.
goniometría del ángulo de contacto de agua es una técnica, en base a la ecuación de Young, determinado la hidrofobicidad de una s sólidaTu cara. Cuando se utiliza esta técnica, las muestras deben almacenarse adecuadamente, de manera que la adsorción de cualquier contaminante puede ser evitado. Una limitación de esta técnica es que se limita a superficies planas. Si este no es el caso, la curvatura en la interfase sólido / líquido / aire será distorsionada e indefinido. Esta técnica se usa ampliamente para indicar cualquier cambio químico que pueda haber ocurrido en una superficie, y para determinar la presencia de funcionalidades hidrófobas e hidrófilas. El método de la placa de Wilhelmy es una técnica para estimar el grado de humectabilidad de la superficie 29 alternativa (pero que se realiza con menos facilidad).
perfilado de la superficie óptica proporciona un metrología no destructiva y sin contacto. El paso más crítico de esta técnica requiere que los usuarios iniciar las mediciones en el aumento más bajo con el fin de definir el plano focal y evitar el contacto entre la lente objetivo y la superficie de la muestra. perfilado Optical sólo permite la visualización dela topografía de la superficie en el micro-escala. Microscopía de fuerza atómica tiene la capacidad de examinar la topografía de una superficie de la nano a escala molecular. La operación del AFM requiere conocimientos específicos y un mayor tiempo para el análisis en comparación con los perfiles óptica. El presente estudio proporciona un excelente ejemplo en el AFM fue capaz de detectar cambios en la topografía de la superficie que no eran evidentes el uso de perfiles óptica. Las técnicas alternativas a los perfiles óptica y AFM son perfiles lápiz óptico y microscopio electrónico de barrido, que también puede proporcionar la cuantificación de la arquitectura de la superficie de 27,30.
Un conjunto de estas técnicas de caracterización de la superficie se puede utilizar para investigar las características químicas y topográficas de las superficies poliméricas y metálicas. perfilado óptica y microscopía de fuerza atómica se pueden utilizar para examinar los cambios en la micro superficie y la topografía nano-escala. técnicas de caracterización química de superficie incluyendo IR-microscopía de rayos X y phoespectroscopia toelectron se puede utilizar para examinar lateralmente la homogeneidad química de la superficie.
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Materials
| Name | Company | Catalog Number | Comments |
| polyester-coated steel silica nanoparticle-polyester coated steel substrata |
BlueScope Steel | Samples provided by company | |
| Millipore PetriSlideTM | Fisher Scientific | PDMA04700 | Storing samples |
| Thermo ScientificTM K-alpha X-ray Photoelectron Spectrometer |
Thermo Fisher Scientific, Inc. | IQLAADGAAFFACVMAHV | Acquire XPS spectra |
| Avantage Data System | Thermo Fisher Scientific, Inc. | IQLAADGACKFAKRMAVI | Analyse XPS spectra |
| A Bruker Hyperion 2000 microscope | Bruker Corporation | Synchrotron integrated instrument | |
| Bruker Opus v. 7.2 | Bruker Corporation | ATR-IR analysis software | |
| Contact angle goniometer, FTA1000c | First Ten Ångstroms Inc., VA, USA | Measuring the wettability of surfaces | |
| FTA v. 2.0 | First Ten Ångstroms Inc., VA, USA | Anaylyzing water contact angle | |
| Optical profiler, Wyko NT1100 | Bruker Corporation | Measure surface topography | |
| Innova atomic force microscope | Bruker Corporation | Measure surface topography | |
| Phosphorus doped silicon probes, MPP-31120-10 | Bruker Corporation | AFM probes | |
| Gwyddion software | http://gwyddion.net/ | Software used to measure optical profiling and AFM data |
References
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