我们已经用等离子体增强化学气相沉积存入范围从几纳米到几100对各种材料的纳米粒子的纳米薄膜。我们随后蚀刻的核心原料生产空心球壳,其渗透壳的厚度控制。我们描述了这些涂料的透气性小分子,并证明这些障碍可以提供数天的核心材料的缓释。
方法文章
我们已经用等离子体增强化学气相沉积存入范围从几纳米到几100对各种材料的纳米粒子的纳米薄膜。我们随后蚀刻的核心原料生产空心球壳,其渗透壳的厚度控制。我们描述了这些涂料的透气性小分子,并证明这些障碍可以提供数天的核心材料的缓释。
在这个协议中,核壳纳米结构的等离子体增强化学气相沉积合成。我们生产各种固体物质,包括二氧化硅和氯化钾异丙醇等离子体聚合非晶屏障。这种多用途的技术被用来治疗范围从37纳米到1微米大小的纳米粒子和纳米粉体,沉积的薄膜,其厚度可以在任何地方从1纳米到100纳米以上。解散的核心,让我们学习的渗透通过薄膜的速率。在这些实验中,我们确定氯化钾通过阻隔膜的扩散系数涂层氯化钾纳米随后监测包覆颗粒悬浮在水中的离子电导率。在这个过程中的主要兴趣是溶质的封装和缓释。壳的厚度是由我们控制释放速率的独立变量之一。它具有强效率释放,从而增加了六个小时的释放(壳厚度为20 nm)到30天以上的长期释放(壳厚度为95纳米)。释放曲线显示了特有的行为:在前五分钟开始解散后,慢释放所有的核心材料,才最终材料(35%)快速释放出来。
1。制备纳米二氧化硅的沉积
2。真空系统的制备
3。等离子体沉积过程
4。解散芯材中空粒子的制备
5。甜心的的渗透cterization(核心发行利率)
材料:氯化钾为核心材料
6。代表结果
我们已经申请了这个过程的核心材料的品种,包括氧化物(二氧化硅),盐(氯化钾)和金属(铝), 如图2所示。透射电子显微镜已被用来确认径向均匀薄膜,并测量其厚度。我们有成功包覆颗粒范围从37纳米到200纳米的直径( 图2),但可以用这种方法处理的颗粒大小基本没有限制。壳沉积率大约为1海里/分钟。这相当缓慢的速度,使得它可以控制薄膜的厚度相当准确地通过沉积时间。等离子体聚合壳是一个渗透屏障,作为核心材料可以删除蚀刻或解散的事实证明。 图3显示了仍然硅芯被删除后的空壳。去除的核心是完整的和径向均匀性和薄膜的厚度相当高。通过这些薄膜的透气性评估的目的,我们交换为核心的材料氯化钾氯化钾解体以来,可以监视通过离子导电性的解决方案很容易。 图4显示了从核心的氯化钾4个样品的释放厚度不同,20纳米,40纳米,75纳米,95纳米,分别。涂层氯化钾颗粒悬浮在水中,溶液的电导率,为期30天。除了四个样品,未涂布氯化钾颗粒组成的控制也被监控。胶版纸解离氯化钾颗粒绿萼在很短的时间约1分钟。相比之下,氯化钾涂层显示了显着的释放速度较慢。包覆颗粒释放的特点是由最初爆发的第一个小时内的地方,其次要慢得多的版本,需要数天才能完成,取决于薄膜的厚度。

图1。制备纳米粒子,等离子体沉积和空心粒子形成的示意图表示。

图2。涂层的TEM照片(一),(二)与d的二氧化硅微粒= 200纳米(C),D = 37纳米的二氧化硅粒子,(四)与d〜100 nm的铝,及(e)氯化钾颗粒D = 100 nm的

图3,TEM后蚀刻(一),(b)与硅芯直径为200 nm,(三)氯化钾的核心空心颗粒的图像。

图4。释放壳厚度的影响。插图图显示了在第一个小时释放。
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纳米涂层的最大挑战之一是提供一个兼容的化学涂层与基体1,2之间。这里描述的方法的优点是,它不是特定材料。等离子聚合物表明对各种基材,包括硬质金属( 图2(c)条 ),硅胶( 图2(c)),硅或软质材料(如聚合物)优异的附着力,而不需要任何特殊的表面改性3 4,5。该技术具有更大的优势,它不是由核心颗粒大小的限制,并在纳米和微米范围的颗粒很容易适应。涂层厚度控制沉积时间,可以很容易地从几个到几百纳米不等。另一个控制水平提供了用于生产涂料的有机前驱。例如,疏水性涂层可以是多种多样的,通过适当的塞莱ction的易制毒化学6。一个方面需要进一步改进的过程中实现了涂层的均匀性。我们估计,大约有70%的粒子在等离子体处理成为完全与其余的30%,显示部分涂覆涂层。设计和工程一个新的反应堆,其中血浆各地在整个过程中的颗粒包围可以改善这一点。
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没有利益冲突的声明。
这项工作得到了美国国家科学基金会和先进的冷却技术批准号117041PO9621从批准号CBET-0651283。
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| 姓名 | 公司 | 目录编号 | 评论 |
|---|---|---|---|
| 二氧化硅微粒 | geltech公司 | ||
| 氯化钾(晶体) | 电解二氧化锰化学品公司 | ||
| 异丙醇(99.9%) | Sigma-Aldrich公司 | ||
| 氢氟酸(48-51%) | 厂商VWR | ||
| 管道和法兰 | 世伟洛克 | ¼直径1英寸 | |
| 粗加工泵 | 爱德华兹 | ||
| 液氮陷阱 | 及ñ公司的 |
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