扫描探针单电子电容谱技术有助于研究局域亚表面区域中的单电子运动。通过将高灵敏度电荷检测电路集成到低温扫描探针显微镜中,可对半导体样品表面下方的小型掺杂原子体系进行研究。
需要JoVE订阅才能观看此内容。 请登录或开始免费试用
扫描探针单电子电容谱技术有助于研究局域亚表面区域中的单电子运动。通过将高灵敏度电荷检测电路集成到低温扫描探针显微镜中,可对半导体样品表面下方的小型掺杂原子体系进行研究。
低温扫描探针技术与单电子电容谱学的结合,为研究小体系的电子量子结构(包括半导体中的单个原子掺杂剂)提供了一种强有力的工具。本文介绍一种基于电容的方法,称为亚表面电荷累积(Subsurface Charge Accumulation, SCA)成像,该方法能够在实现足够空间分辨率以对单个原子掺杂剂进行成像的同时,分辨单电子充电过程。采用电容技术可实现对半导体材料表面以下数纳米深处埋藏的掺杂剂等亚表面特征的观测1,2,3。原则上,该技术可应用于任何系统,以解析绝缘表面下方的电子运动。
与其他对电场敏感的扫描探针技术4类似,测量的横向空间分辨率部分取决于探针尖端的曲率半径。使用曲率半径较小的探针尖端可实现几十纳米的空间分辨率。这种高空间分辨率使得对少量(少至单个)埋藏掺杂原子的研究成为可能1,2。电荷分辨率在很大程度上取决于电荷检测电路的灵敏度;在低温条件下,于检测电路中采用高电子迁移率晶体管(HEMT)可实现约0.01个电子/Hz½的灵敏度(在0.3 K下)5。
亚表面电荷累积(SCA)成像是一种能够在低温下分辨单电子充电事件的方法。当应用于半导体中掺杂原子的研究时,该方法可检测到单个电子进入施主或受主原子的过程,从而实现对这些微小系统量子结构的表征。SCA成像的核心是一种适用于低温运行的局域电容测量6。由于电容基于电场,属于长程效应,因此能够分辨绝缘表面下方的充电现象6。低温运行使得研究在室温下无法分辨的单电子运动和量子能级间距成为可能1,2。该技术可应用于任何涉及绝缘表面下方电子运动的重要体系,包括埋藏界面处二维电子系统的充电动力学7;为简洁起见,本文将重点讨论半导体掺杂剂的研究。
从最简化的层面来看,该技术将扫描探针视为平行板电容器的一个极板,尽管实际分析中需要更详细的描述以考虑探针的曲率8,9。该模型中的另一个极板是下方导电层中一个纳米尺度的区域,如图1所示。本质上,当电荷在周期性激励电压作用下进入掺杂原子时,它会更靠近探针;这一运动在探针上感应出更多的镜像电荷,并通过传感器电路检测到5。类似地,当电荷离开掺杂原子时,探针上的镜像电荷减少。因此,响应激励电压的周期性充电信号即为检测到的信号——本质上是电容;因此该测量通常被称为测定系统的C-V特性。
在电容测量过程中,唯一的净隧穿发生在底层导电层与掺杂层之间——电荷从不直接隧穿到探针尖端。在测量期间,探针尖端与样品之间不存在直接的隧穿,这是该技术与更常见的扫描隧道显微镜之间的一个重要区别,尽管该系统的大部分硬件本质上与扫描隧道显微镜基本相同。还需要注意的是,扫描电容成像(SCA)对静态电荷不具有直接敏感性。若要研究静态电荷分布,应采用扫描开尔文探针显微镜或静电显微镜。此外,还存在其他一些低温方法可用于研究局域电子行为,这些方法同样具有良好的电子和空间分辨率;例如,扫描单电子晶体管显微镜是另一种能够检测微弱充电效应的扫描探针方法4,10。扫描电容成像最初由麻省理工学院的Tessmer、Glicofridis、Ashoori及其合作者开发7;此外,本文所述方法可视为Ashoori及其合作者所发展的单电子电容谱方法的一种扫描探针版本11。该测量的关键部分是一个极为灵敏的电荷检测电路5,12,其采用高电子迁移率晶体管(HEMT);在参考文献5中所述低温恒温器的基温0.3 K下,该电路可实现低至0.01 电子/Hz½的噪声水平。如此高的灵敏度使得观测亚表面系统中的单电子充电成为可能。该方法适用于研究半导体中单个或少量掺杂原子的电子或空穴动力学,典型的掺杂原子面密度约为1015 m-2(平面几何结构)2。此类实验的典型样品结构示例如图1所示。掺杂层通常位于表面以下几纳米至几十纳米深处;明确知道底层导电层与掺杂层之间、以及掺杂层与样品表面之间的精确距离至关重要。与隧穿效应不同,电容并不呈指数衰减,而是基本上与距离成反比下降。因此,原则上掺杂层的深度甚至可以超过表面以下几十纳米,只要仍有合理比例的电场作用于探针尖端即可。对于包括本文所述技术在内的所有上述低温局域电子行为探测方法,其空间分辨率受限于探针尖端的几何尺寸,以及被测亚表面特征与扫描探针尖端之间的距离。
访问受限。请登录或开始试用以查看此内容。
1. 实验方案
访问受限。请登录或开始试用以查看此内容。
衡量测量成功与否的主要指标是可重复性,这一点与其他扫描探针方法类似。因此,重复测量非常重要。对于点电容谱学,在同一位置连续进行多次测量有助于提高信噪比并识别虚假信号。
在电荷累积图像中确定感兴趣特征并完成电容谱测量后,对C-V数据的解析首先需要确定电压杠杆臂。电压杠杆臂是将施加的VDC与掺杂原子所在位置的实际电势关联起来的比例因子。它本质上反映了探针与掺杂层之间非零距离,以及掺杂原子相对于探针正下方位置可能存在的横向偏移。电压杠杆臂可通过将洛伦兹函数拟合到C-V谱数据中获得1,8。若需要绝对电压标度,应通过开尔文探针测量确定接触电势(即样品中无电场线终止于探针时的电压)1,2,3,7。
图3(a) 展示了一幅电荷累积图像的示例,并在指定位置获取了C-V谱。样品为硅,表面以下15 nm处的δ掺杂层中掺入了硼受主,面密度为1.7 × 1015 m-2。较亮的颜色表示充电程度更高。亮斑被解释...
访问受限。请登录或开始试用以查看此内容。
该实验方法的理论基础在参考文献8和9中有详细阐述,并在参考文献2中针对埋藏掺杂原子的情形进行了讨论;因此,此处的概述将简明且侧重概念性说明。探针被视为电容器的一个极板,而样品下方的导电层则构成另一个极板。若施加的直流电压(DC电压)使得电子被吸引至探针方向,且在导电层与探针之间存在一个能够容纳额外电荷的掺杂原子,则该电子将进入掺杂原子,从而更靠近探针。根据静电学原理,此电子的移动必然在探针上感应出相反符号的镜像电荷。叠加在直流电压上的正弦激励电压(Vexcitation)将促使电子在基底层与掺杂原子之间发生共振。相应地,镜像电荷也随之共振,产生一个交流信号,该信号由基于高电子迁移率晶体管(HEMT)的高灵敏度电荷检测电路捕获,并通过锁相放大器进一步放大。此充电信号随后可被转换为电容值。
该实验最常见的失效模式是用于实现高灵敏度电荷检测的HEMT电路受损。由于HEMT的栅极尺寸极小,即使产生微弱的静电积累,也可能导致HEMT失效,通常表现为源极-漏极通道与栅极之间发生短路。一旦HEMT发生短路,在未更换器件的情况下,单电子电容测量将无法继续进行。由于实验准备通常...
访问受限。请登录或开始试用以查看此内容。
作者声明不存在任何竞争性经济利益。
本研究得到了密歇根州立大学量子科学研究所和美国国家科学基金会(项目编号:DMR-0305461、DMR-0906939 和 DMR-0605801)的支持。K.W. 感谢美国教育部研究生助教培训项目(GAANN 交叉学科生物电子学培训项目)提供的资助。
访问受限。请登录或开始试用以查看此内容。
| 姓名 | 公司 | 目录编号 | 评论 |
|---|---|---|---|
| 仪器设备 | |||
| Besocke设计的扫描隧道显微镜(STM) | 定制 | 参考文献14和15 | |
| STM控制电子设备 | RHK Technology | SPM 1000 Revision 7 | |
| 锁相放大器 | Stanford Research Systems | SR830 | |
| 曲线追踪仪 | Tektronix | Type 576 | |
| 示波器 | Tektronix | TDS360 | |
| 万用表 | Tektronix | DMM912 | |
| 引线键合机 | WEST·BOND | 7476D | 配备K~1200D温度控制器 |
| 电烙铁 | MPJA | 301-A | |
| 低温恒温器 | Oxford Instruments | Heliox | |
| 材料 | |||
| Pt/Ir合金丝,80:20 | nanoScience Instruments | 201100 | |
| GaAs晶圆 | axt | S-I | 用于制作安装芯片 |
| 纯度99.99%的金丝,直径2 mil | SPM | 用于制作安装芯片 | |
| 纯度99.99%的金丝,直径1 mil | K&S | 用于引线键合 | |
| 铟粒 | Alfa Aesar | 11026 | |
| 银环氧树脂 | Epo-Tek | EJ2189-LV | 任何适用于低温环境的导电环氧树脂均可接受 |
| 高电子迁移率晶体管(HEMT) | Fujitsu | 低噪声HEMT |
访问受限。请登录或开始试用以查看此内容。