我们演示了激光诱导前向转移(Laser-induced Forward Transfer, LIFT)技术在光电元件倒装芯片组装中的应用。该方法为实现光电应用中的高密度电路,提供了在芯片尺度上进行细间距凸点形成与键合的简单、经济高效、低温、快速且灵活的解决方案。
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我们演示了激光诱导前向转移(Laser-induced Forward Transfer, LIFT)技术在光电元件倒装芯片组装中的应用。该方法为实现光电应用中的高密度电路,提供了在芯片尺度上进行细间距凸点形成与键合的简单、经济高效、低温、快速且灵活的解决方案。
倒装芯片(FC)封装是实现微电子行业中高性能、超小型化和高密度电路的关键技术。在该技术中,芯片和/或基板上形成凸点,两者通过这些导电凸点实现连接。自1960年引入倒装芯片技术以来,已开发并深入研究了多种凸点制备技术,例如模板印刷、打线凸点、蒸发以及化学镀/电镀12。尽管这些方法已取得一定进展,但仍存在一个或多个需要解决的缺点,例如成本高、工艺步骤复杂、加工温度高、制造周期长,以及最重要的一点——缺乏灵活性。在本文中,我们展示了一种简单且成本效益高的基于激光的凸点成形技术,称为激光诱导前向转移(LIFT)3。利用LIFT技术,可在室温(RT)下通过单步工艺以高度灵活、高速度和高精度打印多种类型的凸点材料。此外,LIFT能够实现直至芯片尺度的凸点制备与键合,这对于制造超小型电路至关重要。
激光诱导前向转移(Laser-induced Forward Transfer, LIFT)是一种多功能的直写式增材制造方法,可用于单步完成图案定义和材料转移,具有微米及亚微米级分辨率。本文报道了LIFT作为一种凸点工艺,用于芯片尺度上垂直腔面发射激光器(vertical-cavity surface-emitting lasers, VCSELs)的倒装芯片封装。倒装芯片技术是电子与光电子(OE)器件系统封装与集成中的关键技术。为实现器件的高密度集成,精细间距键合至关重要。尽管一些标准工艺已实现精细间距键合,但在同时兼顾灵活性、成本效益、速度、精度以及低温加工等其他重要特性方面仍存在空白。为满足这些要求,我们展示了一种基于LIFT辅助的热压键合方法,用于光电子器件的精细间距键合。
在LIFT技术中,待打印材料的薄膜(称为供体)被沉积在激光透明支撑基板的一个表面上(称为载体)。图1展示了该技术的基本原理。随后,将一束强度足够的入射激光脉冲聚焦于载体-供体界面处,由此产生推动力,将受照射区域的供体像素向前转移至邻近放置的另一基板上(称为受体)。
LIFT 技术最早由 Bohandy 于 1986 年报道,最初用于修复受损的光掩模,实现微米级铜线的打印3。自首次演示以来,该技术作为一种微纳制造技术,受到广泛关注,可用于精确图案化和打印多种材料,如陶瓷4、碳纳米管(CNTs)5、量子点(QDs)6、活细胞7、石墨烯8,应用于生物传感器9、有机发光二极管(OLEDs)10、光电元件11、等离激元传感器12、有机电子器件13以及倒装芯片键合14,15等多种领域。
与现有的倒装芯片凸点及键合技术相比,LIFT 技术在光电器件倒装芯片封装中具有多项优势,包括操作简便、速度快、灵活性高、成本效益好、分辨率高以及精度高等特点。
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1. LIFT 辅助的倒装芯片键合
注意:实现LIFT辅助的倒装芯片组装包含三个阶段,即使用LIFT技术对基板进行微凸点制备、采用热压倒装芯片键合方法将光电子芯片连接到带有凸点的基板上,最后对键合后的组件进行封装。以下各节将分别讨论这些阶段:
2. 键合垂直腔面发射激光器(VCSEL)的表征
注意:制造完成后,下一步是评估键合组件的电光性能。使用探针台在键合后记录器件的光-电流-电压(LIV)曲线。测试包括以下步骤:
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图7展示了一条从多个倒装焊VCSEL芯片中测得的典型LIV曲线。实测光功率与供应商提供的标称值吻合良好,表明键合后的器件功能正常。在封装前后均记录了这些曲线,经对比验证,封装材料对芯片功能无影响(如图7所示)。此外,将倒装焊VCSEL器件的I-V曲线与裸芯片测得的I-V曲线进行比较,结果也显示出良好的一致性,表明LIFT转移的凸点引入的额外电阻可忽略不计(图8)。
使用Dage 4000系列设备测试了键合组件的机械坚固性。在施加芯片剪切力时,封装后的芯片在受损之前不会从基板上脱落,表明其具有良好的机械可靠性。通过执行标准的8585(85 °C和85%相对湿度)加速老化测试,评估了键合并封装芯片的长期稳定性。在这些测试中,芯片在气候箱中于受控的温湿度条件下共放置了400小时。芯片在测试期间定期接受电学和光学监测。如图9所示,即使在气候箱中放置400小时后,芯片的性能和功能均未出现退化。
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本文中,我们展示了利用一种称为激光直写转移(LIFT)的技术,实现单个VCSEL芯片的热压倒装焊。组装制造步骤包括:采用LIFT技术将铟微凸点打印到基板的焊盘上;随后将VCSEL芯片与带有凸点的基板进行热压倒装焊,最后完成封装。
通过测量LIV曲线并进行标准的8585老化测试,评估了LIFT辅助键合芯片的电学、光学和机械可靠性。在光学表征、机械稳定性和耐久性方面获得的成功结果,清晰地凸显了LIFT技术作为一种互连技术的巨大潜力。
需要指出的是,目前当涉及固相材料时,LIFT 打印技术仅限于薄膜,而打印较厚的薄膜(约 10 µm)仍具有挑战性。尽管如此,通过对供体薄膜进行预处理,例如在打印前对供体进行预图案化16,可使较厚固态材料的 LIFT 转移成为可能。
总之,LIFT 提供了一种简单、高精度且灵活的解决方案,可用于实现芯片级互连,适用于需要单芯片凸点、高精度、高分辨率和细间距的高密度倒装芯片应用。
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作者无任何利益冲突需要披露。
本工作是在“MIRAGE”项目框架内完成的,该项目由欧洲委员会在第七框架计划(FP7)内资助。
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| 姓名 | 公司 | 目录编号 | 评论 |
|---|---|---|---|
| 激光源 | 3D MicroMac (3DMM) | 2912-295 | |
| 光电探测器 | Newport | 818 系列 | |
| 源测量单元 | Keithley | 2401 | |
| 功率计 | Newport | 1930 | |
| 底部填充胶 | Norlands | NOA 86 | |
| 紫外灯 | Omnicure | Series 1000 UV | |
| 探针台 | Cascade Microtech | 型号 42 | |
| 倒装芯片键合机 | Dr. Tresky | T-320 X |
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