本文介绍了一种通过化学浴沉积法合成双(硫脲)氯化镉晶体的实验方案。描述了两个实验:一个在紫外光辅助下进行,另一个则无紫外光辅助。
需要JoVE订阅才能观看此内容。 请登录或开始免费试用
本文介绍了一种通过化学浴沉积法合成双(硫脲)氯化镉晶体的实验方案。描述了两个实验:一个在紫外光辅助下进行,另一个则无紫外光辅助。
本研究采用化学浴沉积法,比较了在367 nm波长紫外光(UV)照射下制备双硫脲氯化镉晶体过程中的影响。通过两个实验进行对比:一个在无紫外光条件下进行,另一个在紫外光辅助下进行。两个实验均在相同条件下进行,温度为343 K,pH值为3.2。所用前驱体为氯化镉(CdCl2)和硫脲[CS(NH2)2],将其溶解于50 mL酸性pH的去离子水中。本实验旨在探究电磁辐射在化学反应进行时与体系的相互作用。结果表明,晶体与紫外光之间存在相互作用;在紫外光辅助下,晶体呈现针状生长。此外,最终产物为硫化镉,其在有无紫外光照射下合成时,未表现出明显差异。
单晶是研究的一个重要领域,其生长旨在满足不同的应用需求。单晶可用作非线性光学材料,应用于激光技术、光电子学领域以及信息存储1,这为其研究提供了广阔的发展空间。双(硫脲)氯化镉是一种金属有机材料,可通过硫脲和氯化镉两种前驱体合成,其化学反应式如下:2CS(NH2)2 + CdCl2 → CdCl2-[CS(NH2)2]2。该金属有机材料已在不同的反应条件下(如温度和pH值)制备,但此前从未在紫外光(UV)辅助下进行合成。
已有关于 pH 对晶体结构影响的报道:当 pH < 6 时,可获得单晶的形成。而这些单晶又会随着 pH 范围的不同而发生改变。在 pH 6 至 4 的区间内,可得到六方晶系结构;而当 pH < 4 时,则形成正交晶系晶体结构2。酸性 pH 有利于 Cd2+ 和 Cl- 离子的解离,因为它可防止氢氧化镉 [Cd(OH)2] 的生成。这有助于稳定镉离子:一个镉原子与两个不含硫的自由基以及两个氯原子结合。
此处采用化学浴沉积法(CBD)进行合成,通过控制化学反应过程中涉及的各种条件来实现3。在CBD中,影响化学反应的因素包括:溶液温度、前驱离子、溶液pH值、试剂数量以及搅拌速度等。另一方面,本文所对比的技术称为光化学浴沉积法(PCBD),因其借助了紫外光辅助。已有文献报道,利用紫外光辅助成功合成了CuSx4,5、ZnS6、CdS7和InS8等多种薄膜材料。Ichimura和Gunasekaran9在其研究中指出,硫酸盐溶液的吸收边接近300 nm。由于该吸收范围的存在,施加紫外辐射可产生与溶液吸收特性相匹配的发射范围。
双(硫脲)氯化镉的另一特性是其在加热时会发生降解。当温度达到512 K及以上时,该化合物开始分解,生成硫化镉(CdS)。其降解反应如下:[Cd(CS[NH2])2]Cl2 → Δ CdS + HNCS + NH3 + NH4SCN。该降解过程会生成硫氰酸以及多种硫氰酸盐10,11。此外,研究小组还研究了紫外辐射引起的一些效应12。最后,本文描述了双(硫脲)氯化镉晶体的对比合成方法,以及紫外光照射的影响。
访问受限。请登录或开始试用以查看此内容。
警告:本实验方案中使用的化学品具有毒性和致癌性;因此,必须严格遵守安全建议和操作规程。应穿戴适当的防护装备,并查阅所有相关的材料安全数据表(MSDS)。
1. 双(硫脲)氯化镉的合成
2. 双(硫脲)氯化镉的对比合成
3. 获得双(硫脲)氯化镉晶体
4. 煅烧晶体以获得CdS
访问受限。请登录或开始试用以查看此内容。
前体溶液 A 和 B 的紫外-可见漫反射吸收光谱均显示出双(硫脲)氯化镉配合物——CdCl2-(CS(NH2)2)2 的存在。这一点由 图 2c 中 250–500 nm 范围内的宽吸收带得以证实。相应地,图 2c 是溶液中单独存在的 CdCl2 和 CS(NH2)2 的主要吸收带组合,分别如 图 2a 和 2b 所示。此外,在两种反应物的光谱中(图 2a 和 2b),在 600–700 nm 范围内均明显可见一个次要吸收带,而该吸收带在配合物的紫外-可见吸收光谱(图 2c
访问受限。请登录或开始试用以查看此内容。
本节讨论仅限于实验方案,而不涉及代表性结果中已展示的数据。
该方案中最关键的步骤之一是前驱体溶液的制备。必须维持酸性pH值,以避免生成Cd(OH)2。如果pH值不呈酸性,则会因硫脲的解离而导致CdS直接生成,同时形成Cd(OH)2。
第二重要的步骤是步骤3.2,即溶液的过滤,必须在溶液冷却前完成,否则冷却过程将引发晶体的形成。
本方案中报道了 CdCl2-[CS(NH2)2] 2 的快速生长,其生长过程耗时少于 10 分钟。其他研究人员(参见 Ushasree et al.2,3)报道单晶的生长时间最长可达 45 天。
由于反应过程的控制相对较低,无法生成单晶。相比之下,当使用紫外光时,该技术会在...
访问受限。请登录或开始试用以查看此内容。
作者无任何利益冲突需要披露。
L.E. Trujillo 和 F.J. Willars Rodríguez 感谢 CONACYT 提供的奖学金。E.A. Chavez-Urbiola 感谢 CONACYT 的 "Catedras CONACYT" 项目。作者们还感谢 C.A. Avila Herrera、M. A. Hernández Landaverde、J.E. Urbina Alvárez 和 A. Jiménez Nieto 提供的技术支持。
访问受限。请登录或开始试用以查看此内容。
| 姓名 | 公司 | 目录编号 | 评论 |
|---|---|---|---|
| 试剂 | |||
| 氯化镉 无水 ACS,99.4% | Fermont | PQ24291 | 剧毒 |
| 硫脲 工业级,99.9% | Reasol | R5913 | 有毒 |
| 盐酸,36.5 – 38.0% | J.T.Baker | MFCD00011324 | 强腐蚀性液体 |
| 材料 | |||
| 滤纸 | Whatman | 1440 125 | 40,无灰,圆形,125 mm |
| 烧杯 | Kimax | 1400 | 100 mL |
| 容量瓶 | Kimax | 28012-100 | A级,100 mL |
| 玻璃漏斗 | Kimax | 28980-150 | 加液漏斗,长柄,60° 角,宽口,I型,B级 |
| 表面皿 | Pyrex | 9985-150 | Corning,150 mm |
| 坩埚 | Fisherbrand | FB-965-D | 高型瓷坩埚 |
| 设备 | |||
| 马弗炉 | Briteg Instrumentos Cientificos S.A. de C.V. | 1010 | |
| 通风橱 | Fisher Alders, S.A. de C.V. | F1124 | |
| 光源 | Philips | PL-S 9W UV-A/2P 1CT/6X 10 CC | |
| pH计 | OAKTON | WD-35419-10 | |
| 带磁力搅拌器的电热板 | Cole-Parmer | JZ-04660-75 |
访问受限。请登录或开始试用以查看此内容。